Exposure of an Al substrate to energetic Ga ions is found to result in enhanced growth rate of its nanochannels during a subsequent anodization process. Depending on the ion dose, the nanochannels in the pre-irradiated area exhibit different lengths. This interesting phenomenon is exploited by scanning a Ga focused ion beam over the desired area to facilitate the fabrication of arrays of anodic alumina nanochannels with custom-designed super-structure, which is based on the variation of channel length in different areas.
REFERENCES
1.
H.
Masuda
and K.
Fukuda
, Science
268
, 1466
(1995
).2.
T. G.
Tsai
, K. J.
Chao
, X. J.
Guo
, S. L.
Sung
, C. N.
Wu
, Y. L.
Wang
, and H. C.
Shih
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
9
, 1154
(1997
).3.
A. P.
Li
, F.
Müller
, A.
Bimer
, K.
Nielsch
, and U.
Gösele
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
11
, 483
(1999
).4.
J.
Li
, C.
Papadopoulos
, and J.
Xu
, Nature (London)
402
, 253
(1999
).5.
C.
Papadopoulos
, A.
Rakitin
, J.
Li
, A. S.
Vedeneev
, and J. M.
Xu
, Phys. Rev. Lett.
85
, 3476
(2000
).6.
E. J.
Bae
, W. B.
Choi
, K. S.
Jeong
, J. U.
Chu
, G. S.
Park
, S.
Song
, and I. K.
Yoo
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
14
, 277
(2002
).7.
R. Z.
Chen
, D. S.
Xu
, G. L.
Guo
, and L. L.
Gui
, J. Mater. Chem.
12
, 2435
(2002
).8.
G.
Sauer
, G.
Brehm
, S.
Schneider
, K.
Nielsch
, R. B.
Wehrspohn
, J.
Choi
, H.
Hofmeister
, and U.
Gösele
, J. Appl. Phys.
91
, 3243
(2002
).9.
M. N.
Lin
, C. Y.
Liu
, N. W.
Liu
, M. Y.
Lai
, C. Y.
Peng
, H. H.
Wang
, Y. L.
Wang
, and M. T.
Lin
, Nanotechnology
17
, 315
(2006
).10.
H. H.
Wang
, C. Y.
Liu
, S. B.
Wu
, N. W.
Liu
, C. Y.
Peng
, T. H.
Chan
, C. F.
Hsu
, J. W.
Wang
, and Y. L.
Wang
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
18
, 491
(2006
).11.
A. P.
Li
, F.
Müller
, A.
Birner
, K.
Nielsch
, and U.
Gösele
, J. Appl. Phys.
84
, 6023
(1998
).12.
H. D. L.
Lira
and R.
Paterson
, J. Membr. Sci.
206
, 375
(2002
).13.
O.
Jessensky
, F.
Müller
, and U.
Gösele
, Appl. Phys. Lett.
72
, 1173
(1998
).14.
F.
Li
, L.
Zhang
, and R. M.
Metzger
, Chem. Mater.
10
, 2470
(1998
).15.
H.
Masuda
, H.
Yamada
, M.
Satoh
, and H.
Asoh
, Appl. Phys. Lett.
71
, 2770
(1997
).16.
C. Y.
Liu
, A.
Datta
, and Y. L.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
78
, 120
(2001
).17.
Z.
Sun
and H. K.
Kima
, Appl. Phys. Lett.
81
, 3458
(2002
).18.
N. W.
Liu
, A.
Datta
, C. Y.
Liu
, and Y. L.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
82
, 1281
(2003
).19.
S.
Fournier-Bidoz
, V.
Kitaev
, D.
Routkevitch
, I.
Manners
, and G. A.
Ozin
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
16
, 2193
(2004
).20.
N. W.
Liu
, A.
Datta
, C. Y.
Liu
, C. Y.
Peng
, H. H.
Wang
, and Y. L.
Wang
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
17
, 222
(2005
).21.
J.
Choi
, K.
Nielsch
, M.
Reiche
, R. B.
Wehrspohn
, and U.
Gösele
, J. Vac. Sci. Technol. B
21
, 763
(2003
).22.
H.
Oshima
, H.
Kikuchi
, H.
Nakao
, K. I.
Itoh
, T.
Kamimura
, T.
Morikawa
, K.
Matsumoto
, T.
Umada
, H.
Tamura
, K.
Nishio
, and H.
Masuda
, Appl. Phys. Lett.
91
, 022508
(2007
).23.
J. M.
Woodall
, Making of Hydrogen from Aluminum, http://hydrogen.ecn.purdue.edu/.24.
D. O.
Flamini
, S. B.
Saidman
, and J. B.
Bessone
, Corros. Sci.
48
, 1413
(2006
).25.
J. F.
Zeigler
and J. P.`
Biersack
, SRIM (TRIM 90) Simulation package, IBM Research, 28–024 Yorktown, NY, 10598 (1995
).26.
C. Y.
Liu
, A.
Datta
, N. W.
Liu
, C. Y.
Peng
, and Y. L.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
84
, 2509
(2004
).27.
C. M. S.
Sotomayor Torres
, S.
Zankovych
, J.
Seekamp
, A. P.
Kam
, C. C.
Cedeño
, T.
Hoffmann
, J.
Ahopelto
, F.
Reuther
, K.
Pfeiffer
, G.
Bleidiessel
, G.
Gruetzner
, M. V.
Maximov
, and B.
Heidari
, Mater. Sci. Eng., C
23
, 23
(2003
).28.
H. H.
Lee
, K. S.
Chou
, and K. C.
Huang
, Nanotechnology
16
, 2436
(2005
).29.
H. S.
Koo
, M.
Chen
, P. C.
Pan
, L. T.
Chou
, F. M.
Wu
, S. J.
Chang
, and T.
Kawai
, Displays
27
, 124
(2006
).© 2008 American Vacuum Society.
2008
American Vacuum Society
You do not currently have access to this content.