Photoluminescence (PL) and electroluminescence (EL) measurements are performed on SiSiO2 multiple quantum wells fabricated by using a combination of remote plasma enhanced chemical vapor deposition (RPECVD) and rapid thermal annealing (RTA). A significant enhancement of light emission is observed from nanocrystalline Si wells embedded in a SiO2 matrix. The enhancement depends critically on additional annealing processes carried out after the RPECVD deposition.

1.
For an overview, see
L.
Pavesi
and
D. J.
Lockwood
,
Topics in Applied Physics: Silicon Photonics
(
Springer
, Heidelberg, New York,
2004
), Vol.
94
.
2.
L. T.
Canham
,
Appl. Phys. Lett.
57
,
1046
(
1990
).
3.
P. F.
Trwoga
,
A. J.
Kenyon
, and
C. W.
Witt
,
J. Appl. Phys.
83
,
3789
(
1998
).
4.
M.
Zacharias
,
J.
Heitmann
,
R.
Scholz
,
U.
Kahler
,
M.
Schmidt
, and
J.
Bläsing
,
Appl. Phys. Lett.
80
,
661
(
2002
).
5.
L.
Pavesi
and
D. J.
Lockwood
,
Topics in Applied Physics: Silicon Photonics
(
Springer
, Heidelberg, New York,
2004
), Vol.
94
, p.
13
.
6.
L. T.
Canham
,
M. R.
Houlton
,
W. Y.
Leong
,
C.
Pickering
, and
J. M.
Keen
,
J. Appl. Phys.
70
,
422
(
1991
).
7.
M. Y.
Hao
,
H.
Hwang
, and
J. C.
Lee
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
1530
(
1993
).
8.
L.
Pavesi
,
L.
Dal Negro
,
C.
Mazzoleni
, and
F.
Priolo
,
Nature (London)
408
,
440
(
2000
).
9.
L.
Tsybeskov
,
K. D.
Hirschmann
,
K. D.
Hirschmann
,
S. P.
Duttagupta
,
M.
Zacharias
,
P. M.
Fauchet
,
J. P.
McCaffrey
, and
D. J.
Lockwood
,
Appl. Phys. Lett.
72
,
43
(
1998
).
10.
M. E.
Castagna
,
S.
Coffa
,
M.
Monaco
,
A.
Mascara
, and
A.
Messina
,
Mater. Sci. Eng., B
105
,
83
(
2003
).
11.
G.
Franzo
,
A.
Irrera
,
E. C.
Moreira
,
M.
Miritello
,
F.
Iacona
,
D.
Sanfilippo
,
G.
DiStefano
,
P. G.
Fallica
, and
F.
Priolo
,
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
74
,
1
(
2002
).
12.
M. E.
Castagna
,
S.
Coffa
,
M.
Monaco
,
L.
Caristia
,
A.
Messina
,
R.
Mangano
, and
C.
Bongiomo
,
Physica E (Amsterdam)
16
,
547
(
2003
).
13.
W. L.
Ng
,
M. A.
Lourenco
,
R. M.
Gwilliam
,
S.
Ledain
,
G.
Shao
, and
K. P.
Homewood
,
Nature (London)
410
,
192
(
2001
).
14.
M.
Jo
,
K.
Ishida
,
N.
Yasuhara
,
Y.
Sugawara
,
K.
Kawamoto
, and
S.
Fukatsu
,
Appl. Phys. Lett.
86
,
103509
(
2005
).
15.
M. A.
Green
,
J.
Zhao
,
A.
Wang
,
P. J.
Reece
, and
M.
Gal
,
Nature (London)
412
,
805
(
2001
).
16.
P. D.
Richard
,
R. J.
Markunas
,
G.
Lucovsky
,
G. G.
Fountain
,
A. N.
Mansour
, and
D. V.
Tsu
,
J. Vac. Sci. Technol. A
3
,
867
(
1985
).
17.
R.
Rölver
,
O.
Winkler
,
M.
Först
,
B.
Spangenberg
, and
H.
Kurz
,
Microelectron. Reliab.
45
,
915
(
2005
).
18.
M.
Zacharias
and
P.
Streitenberger
,
Phys. Rev. B
62
,
8391
(
2000
).
19.
J. F.
Zhang
,
P.
Watkinson
,
S.
Taylor
, and
W.
Eccleston
,
Appl. Surf. Sci.
39
,
374
(
1989
).
20.
D. J.
Lockwood
,
Z. H.
Lu
, and
J. M.
Baribeau
,
Phys. Rev. Lett.
76
,
539
(
1996
).
21.
J.
Zhao
,
G.
Zhang
,
T.
Trupke
,
A.
Wang
,
F.
Hudert
, and
M. A.
Green
,
Appl. Phys. Lett.
85
,
2830
(
2004
).
You do not currently have access to this content.