Dry etching of NiFeCo and NiFeAlOCo multilayers was carried out in inductively coupled Cl2Ar plasmas. An ion-enhanced etch mechanism took a critical role for desorption of chlorine etch products. NiFeAlOCo showed a faster etch rate than NiFeCo at various etch conditions. Anisotropic and smooth features were obtained using a photoresist mask. Sidewall contamination with etch products was observed at a higher Cl2 concentration (>50%). Postetch cleaning of the etched samples in deionized water reduced the chlorine residues substantially.

1.
G. A.
Prinz
,
Ultra-Thin Magnetic Structures II
, in edited by
B.
Heinrich
and
J. A. C.
Bland
(
Springer
, Berlin,
1994
).
2.
C. H.
Tsang
,
R. E.
Fontana
, Jr.
,
T.
Lin
,
D. E.
Heim
,
B. A.
Gurney
, and
M. L.
Willians
,
IBM J. Res. Dev.
42
,
103
(
1998
).
3.
C. H.
Tsang
,
J. Appl. Phys.
69
,
5393
(
1991
).
4.
K. B.
Jung
,
H.
Cho
,
Y. B.
Hahn
,
D. C.
Hays
,
E. S.
Lambers
,
Y. D.
Park
,
T.
Feng
,
J. R.
Childress
, and
S. J.
Peartonng
,
J. Vac. Sci. Technol. A
17
,
2223
(
1999
).
5.
J. W.
Lee
,
J.
Hong
, and
S. J.
Pearton
,
Appl. Phys. Lett.
68
,
847
(
1996
).
6.
B. A.
Everitt
,
A. V.
Pohm
, and
J. M.
Daughton
,
J. Appl. Phys.
81
,
23639
(
1997
).
7.
S. J.
Pearton
,
T.
Nakano
, and
R. A.
Gottscho
,
J. Appl. Phys.
69
,
4206
(
1991
).
8.
S. J.
Pearton
,
J. W.
Lee
,
E. S.
Lambers
,
J. R.
Mileham
,
C. R.
Abernathy
,
F.
Ren
,
W. S.
Hobson
, and
R. J.
Shul
,
J. Vac. Sci. Technol. B
14
,
118
(
1996
).
9.
K. B.
Jung
,
H.
Cho
,
Y. B.
Hahn
,
E. S.
Lambers
,
S.
Onishi
,
D.
Johnson
,
A. T.
Hurst
, Jr.
,
J. R.
Childress
,
Y. D.
Park
, and
S. J.
Pearton
,
J. Appl. Phys.
85
,
4788
(
1999
).
10.
H.
Cho
,
K. B.
Jung
,
D. C.
Hays
,
Y. B.
Hahn
,
T.
Feng
,
Y. D.
Park
,
J. R.
Childress
,
F. J.
Cadieu
,
R.
Rani
,
X. R.
Qian
,
L.
Chen
, and
S. J.
Pearton
,
Mater. Sci. Eng., B
B60
,
107
(
1999
).
11.
H.
Cho
,
K. B.
Jung
,
D. C.
Hays
,
Y. B.
Hahn
,
E. S.
Lambers
,
T.
Feng
,
Y. D.
Park
,
J. R.
Childress
, and
S. J.
Pearton
,
Appl. Surf. Sci.
140
,
215
(
1999
).
12.
H.
Cho
,
K.-P.
Lee
,
K. B.
Jung
,
S. J.
Pearton
,
J.
Marburger
,
F.
Sharifi
,
Y. B.
Hahn
, and
J. R.
Childress
,
J. Appl. Phys.
87
,
6397
(
2000
).
13.
Y. B.
Hahn
,
S. J.
Pearton
,
H.
Cho
, and
K. P.
Lee
,
Mater. Sci. Eng., B
B79
,
20
(
2001
).
14.
H.
Cho
,
K. P.
Lee
,
Y. B.
Hahn
,
E. S.
Lambers
, and
S. J.
Pearton
,
J. Vac. Sci. Technol. A
18
,
1273
(
2000
).
15.
K. B.
Jung
,
H.
Cho
,
Y. B.
Hahn
,
D. C.
Hays
,
E. S.
Lambers
,
Y. D.
Park
,
T.
Feng
,
J. R.
Childress
, and
S. J.
Pearton
,
J. Electrochem. Soc.
146
,
1465
(
1999
).
16.
Y. H.
Im
,
C. S.
Choi
, and
Y. B.
Hahn
,
J. Korean Phys. Soc.
39
,
617
(
2001
).
17.
J. S.
Park
,
H. J.
Park
,
Y. B.
Hahn
,
G.-C
Yi
, and
A.
Yoshikawa
,
J. Vac. Sci. Technol. B
21
,
800
(
2003
).
18.
J. S.
Park.
,
T. H.
Kim
,
C. S.
Chang
, and
Y. B.
Hahn
,
Korean J. Chem. Eng.
19
,
486
(
2002
).
19.
Y. B.
Hahn
,
D. C.
Hays
,
H.
Cho
,
K. B.
Jung
,
C. R.
Abernathy
, and
S. J.
Pearton
,
Appl. Surf. Sci.
147
,
207
215
(
1999
); 147.
20.
K. B.
Jung
, Ph.D. dissertation,
University of Florida
1999
.
21.
Y. B.
Hahn
and
S. J.
Pearton
,
Korean J. Chem. Eng.
17
,
304
(
2000
).
You do not currently have access to this content.