In the past several years, research in each of the wide‐band‐gap semiconductors, SiC, GaN, and ZnSe, has led to major advances which now make them viable for device applications. The merits of each contender for high‐temperature electronics and short‐wavelength optical applications are compared. The outstanding thermal and chemical stability of SiC and GaN should enable them to operate at high temperatures and in hostile environments, and also make them attractive for high‐power operation. The present advanced stage of development of SiC substrates and metal‐oxide‐semiconductor technology makes SiC the leading contender for high‐temperature and high‐power applications if ohmic contacts and interface‐state densities can be further improved. GaN, despite fundamentally superior electronic properties and better ohmic contact resistances, must overcome the lack of an ideal substrate material and a relatively advanced SiC infrastructure in order to compete in electronics applications. Prototype transistors have been fabricated from both SiC and GaN, and the microwave characteristics and high‐temperature performance of SiC transistors have been studied. For optical emitters and detectors, ZnSe, SiC, and GaN all have demonstrated operation in the green, blue, or ultraviolet (UV) spectra.

Blue SiC light‐emitting diodes (LEDs) have been on the market for several years, joined recently by UV and blue GaN‐based LEDs. These products should find wide use in full color display and other technologies. Promising prototype UV photodetectors have been fabricated from both SiC and GaN. In laser development, ZnSe leads the way with more sophisticated designs having further improved performance being rapidly demonstrated. If the low damage threshold of ZnSe continues to limit practical laser applications, GaN appears poised to become the semiconductor of choice for short‐wavelength lasers in optical memory and other applications. For further development of these materials to be realized, doping densities (especially p type) and ohmic contact technologies have to be improved. Economies of scale need to be realized through the development of larger SiC substrates. Improved substrate materials, ideally GaN itself, need to be aggressively pursued to further develop the GaN‐based material system and enable the fabrication of lasers. ZnSe material quality is already outstanding and now researchers must focus their attention on addressing the short lifetimes of ZnSe‐based lasers to determine whether the material is sufficiently durable for practical laser applications. The problems related to these three wide‐band‐gap semiconductor systems have moved away from materials science toward the device arena, where their technological development can rapidly be brought to maturity.

1.
J. Z.
Zhor
,
D.
Goldstein
, and
A. D.
Kurtz
,
IEEE Trans. Electron Devices
ED-40
,
1093
(
1993
).
2.
R. J. Betsch, P. G. McMullin, C. D. Brandt, D. L. Barrett, R. G. Seidenstecker, R. H. Hopkins, an A. Morse, in Proceedings of the 1991 International Semiconductor Device Research Symposium, 1991, p. 505.
3.
H. Jagodzinski and H. Arnold, in Silicon Carbide, A High Temperature Semiconductor, edited by J. R. O’Connor and J. Smiltens (Pergamon, New York, 1960), pp. 136–145.
4.
J. A.
Powell
,
D. J.
Larkin
,
L. G.
Matus
,
W. J.
Choyke
,
J. L.
Bradshaw
,
L.
Henderson
,
M.
Yoganathan
,
J.
Yang
, and
P.
Pirouz
,
Appl. Phys. Lett.
56
,
1353
(
1990
);
J. A.
Powell
,
D. J.
Larkin
,
L. G.
Matus
,
W. J.
Choyke
,
J. L.
Bradshaw
,
L.
Henderson
,
M.
Yoganathan
,
J.
Yang
, and
P.
Pirouz
,
56
,
1442
(
1990
).,
Appl. Phys. Lett.
5.
V. I.
Levin
,
Y. M.
Tairov
,
M. G.
Travazhdyan
,
F.
Tsvetkov
, and
M. A.
Chernov
,
Sov. Phys. Izv.
14
,
830
(
1978
).
6.
Y. M.
Tairov
and
R.
Tsverkov
,
J. Cryst. Growth
52
,
146
(
1981
).
7.
M.
Ikeda
,
T.
Hayakawa
,
Z.
Yamagiva
,
H.
Matsunami
, and
T.
Tanaka
,
J. Appl. Phys.
50
,
8215
(
1979
).
8.
H. Matsunami, Kyoto University (private communication).
9.
W.
Muench
and
W.
Kurzinger
,
Solid-State Electron.
21
,
1129
(
1978
).
10.
V. A.
Dmitriev
,
P. A.
Ivanov
,
I.
Korkin
,
Y.
Morozenko
,
I.
Popov
,
T. A.
SidoroVa
,
A. M.
Strslchuk
, and
E.
Chelnokov
,
Sov. Phys. Technol. Lett.
11
,
98
(
1985
).
11.
S.
Nishino
,
J. A.
Powell
, and
H. A.
Will
,
Appl. Phys. Lett.
42
,
460
(
1983
).
12.
S.
Nishino
,
Y.
Hazuki
,
H.
Matsumani
, and
T.
Tanaka
,
J. Electrochem. Soc.
127
,
2674
(
1980
).
13.
I.
Golecki
,
F.
Reidinger
, and
J.
Marti
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
1703
(
1992
).
14.
Y.
Furumura
,
M.
Doki
,
F.
Meino
,
T.
Eshita
,
T.
Suzuki
, and
M.
Maeda
,
J. Electrochem. Soc.
135
,
1255
(
1988
).
15.
A.
Suzuki
,
K.
Furukawa
,
Y.
Fujii
,
M.
Shigeta
, and
S.
Nakajima
,
Springer Proc. Phys.
56
,
101
(
1992
).
16.
T.
Sugii
,
T.
Aoyama
, and
T.
Ito
,
J. Electrochem. Soc.
137
,
989
(
1990
).
17.
T.
Fuyuki
,
M.
Nakayama
,
T.
Yoshinobu
, and
H.
Matsunami
,
J. Cryst. Growth
95
,
461
(
1989
).
18.
G. L. Zhou, A. Ma, M. E. Lin, T. C. Shen, L. H. Allen, and H. Morkoç, J. Cryst. Growth (to be published).
19.
M. J.
Paisley
,
Z.
Sitar
,
C. H.
Carter
, Jr.
, and
R. F.
Davis
,
Proc. SPIE
8
,
877
(
1988
).
20.
Q.
Wahab
,
L.
Hultman
,
J.-E.
Sundgren
, and
M.
Willander
,
Mater. Sci. Eng. B
11
,
61
(
1992
).
21.
S. R.
Nutt
,
D. J.
Smith
,
H. J.
Kim
, and
R. F.
Davis
,
Appl. Phys. Lett.
50
,
203
(
1987
).
22.
K.
Shibahara
,
S.
Nishino
, and
H.
Matsunami
,
J. Cryst. Growth
78
,
538
(
1986
).
23.
P.
Pirouz
,
C. M.
Chorey
, and
J. A.
Powell
,
Appl. Phys. Lett.
50
,
221
(
1987
);
C. M. Chorey, P. Pirouz, J. A. Powell, and T. E. Mitchell, in Semiconductor Based Heterostructures: Interfacial Structure and Stability, edited by M. L. Green (Metallurgical Soc., Philadelphia, PA, 1987), p. 115.
24.
H. S.
Kong
,
J. T.
Glass
, and
R. F.
Davis
,
J. Mater. Res.
4
,
204
(
1989
);
H. S.
Kong
,
B. L.
Jiang
,
J. T.
Glass
,
G. A.
Rozgonyi
, and
K. L.
Moore
,
J. Appl. Phys.
63
,
2645
(
1988
).
25.
J. A. Cooper and M. Melloch, Purdue University (private communication).
26.
J. W. Palmour, J. A. Edmond, H. S. Kong, and C. H. Carter, Jr., in 4th International Conference on Amorphous and Crystalline Silicon Carbide and other IV-IV Materials, Santa Clara, CA, Oct. 10–11, 1991.
27.
G.
Pensl
and
W. J.
Choyke
,
Physica B
185
,
264
(
1993
).
28.
O. J.
Marsh
and
H. L.
Dunlap
,
Radiat. Eff.
6
,
301
(
1970
).
29.
M.
Ghezzo
,
D. M.
Brown
,
E.
Downey
,
J.
Kretchmer
,
W.
Hennessy
,
D. L.
Polla
, and
H.
Bakhru
,
IEEE Electron. Device Lett.
EDL-13
,
639
(
1992
).
30.
A.
Suzuki
,
H.
Ashida
,
N.
Furui
,
K.
Mameno
, and
H.
Matsunami
,
Jpn. J. Appl. Phys.
21
,
579
(
1982
).
31.
C. D.
Fung
and
J. J.
Kopanski
,
Appl. Phys. Lett.
45
,
757
(
1984
).
32.
B. E.
Deal
and
A. Z.
Grove
,
J. Appl. Phys.
36
,
3770
(
1965
).
33.
J. B. Petit, J. A. Powell, and L. G. Matus, in Transactions of the First International High Temperature Electronics Conference, June 16–20, Albuquerque, NM, 1991, p. 198.
34.
C. D.
Fung
and
J. J.
Kopanski
,
Appl. Phys. Lett.
45
,
757
(
1984
).
35.
M.
Zerbst
and
Z.
Agnew
,
Phys. Z.
22
,
30
(
1966
).
36.
W. Z.
Pan
and
A. J.
Steckl
,
J. Electrochem. Soc.
137
,
212
(
1990
).
37.
J. A.
Powell
,
J. B.
Petit
,
J. H.
Edgar
,
I. G.
Jenkins
,
L. G.
Matus
,
J. W.
Yang
,
P.
Pirouz
,
W. J.
Choyke
,
L.
Clemen
, and
M.
Yoganathan
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
333
(
1991
).
38.
M. E.
Lin
,
S.
Strite
,
A.
Agarwal
,
A.
Salvador
,
G. L.
Zhou
,
N.
Teraguchi
,
A.
Rockett
, and
H.
Morkoç
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
702
(
1993
).
39.
A. V.
Naumov
,
Z. V.
Nikitin
,
A. T.
Ostroumov
, and
Y. A.
Inodakov
,
Sov. Phys. Semicond.
21
,
377
(
1987
).
40.
P. G.
McMullin
,
J. A.
Spitznagel
,
J. R.
Szedon
, and
J. A.
Costello
,
Proc. ICACSC
90
,
191
(
1990
).
41.
M. M.
Anikin
,
M. G.
Rastegaeva
,
A. L.
Syrkin
, and
I.
Chuiko
,
Proc ICACSC
90
,
294
(
1990
).
42.
C. T. Gardner, J. A. Cooper, Jr., M. R. Melloch, J. W. Palmour, and C. H. Carter, Jr., in 4th International Conference on Amorphous and Crystalline Silicon Carbide and other IV-IV Materials, Santa Clara, CA, Oct. 10–11, 1991.
43.
J. W.
Palmour
,
H. S.
Kong
, and
R. F.
Davis
,
Appl. Phys. Lett.
51
,
2028
(
1987
);
J. W.
Palmour
,
H. S.
Kong
, and
R. F.
Davis
,
J. Appl. Phys.
64
,
2168
(
1988
).
44.
M. Z. Zeller, in Transactions of the First International High Temperature Electronics Conference, June 16–20, Albuquerque, NM, 1991.
45.
M.
Bhatnagar
,
P.
McLarty
, and
B. J.
Baliga
,
IEEE Electron. Device Lett.
EDL-13
,
501
(
1992
).
46.
P. G.
Neudeck
,
D. J.
Larkin
,
J. E.
Starr
,
J. A.
Powell
,
C. S.
Zalupo
, and
L. G.
Matus
,
IEEE Electron. Device Lett.
EDL-14
,
136
(
1993
).
47.
R. F.
Davis
,
G.
Kelner
,
M.
Shur
,
J. W.
Palmour
, and
J. A.
Edmond
,
Proc. IEEE
79
,
677
(
1991
).
48.
M.
Bhatnagar
and
B. J.
Baliga
,
IEEE Trans. Electron Devices
ED-40
,
645
(
1993
).
49.
B. J.
Baliga
,
IEEE Electron. Device Lett.
EDL-10
,
455
(
1989
).
50.
Y.
Kondo
,
T.
Takahashi
,
K.
Ishii
,
Y.
Hayashi
,
E.
Sakuma
,
S.
Misawa
,
H.
Daimon
,
M.
Yamanaka
, and
S.
Yoshida
,
IEEE Electron. Device Lett.
EDL-7
,
404
(
1986
).
51.
A.
Suzuki
,
K.
Furukawa
,
Y.
Fujii
,
M.
Zhigeta
, and
S.
Nakajima
,
Proc. ICACSC
90
,
89
(
1990
).
52.
J. W.
Palmour
,
J. A.
Edmond
,
H. S.
Kong
, and
C. H.
Carter
, Jr.
,
Physica B
185
,
461
(
1993
).
53.
G.
Kelner
,
Z.
Binari
,
K.
Sleger
, and
H.
Kong
,
IEEE Electron Device Lett.
EDL-8
,
428
(
1987
);
G.
Kelner
,
M. S.
Shur
,
S.
Binari
,
K. J.
Sleger
,
H.
Kong
,
IEEE Trans. Electron Devices
ED-36
,
1045
(
1989
).
54.
G.
Kelner
,
Z.
Binari
,
M.
Shur
, and
J.
Palmour
,
Electron. Lett.
27
,
1038
(
1991
).
55.
R. J.
Trew
,
J. B.
Yan
, and
P. M.
Hook
,
Proc. IEEE
76
,
598
(
1991
).
56.
J. W. Palmour, H. Z. Kong, D. G. Waltz, J. A. Edmond, and C. H. Carter, Jr., in Transactions of the First International High Temperature Electronics Conference, Albuquerque, NM, 1991, p. 229.
57.
G. Kelner and M. S. Shur, in Properties of Silicon Carbide, edited by G. Harris (IEE, England).
58.
W.
Muench
,
P.
Hoeck
, and
E.
Pettenpaul
,
Tech. IEEE Digest IEDM
,
337
(
1977
).
59.
G. B. Gao, J. Sterner, and H. Morkoç, IEEE Trans. Electron Devices (to be published).
60.
R. W.
Brander
and
R. P.
Sutton
,
J. Phys. D
2
,
309
(
1969
).
61.
L.
Hoffman
,
G.
Ziegler
,
D.
Theis
, and
C.
Weyrich
,
J. Appl. Phys.
53
,
6962
(
1982
);
L.
Hoffman
,
G.
Ziegler
,
D.
Theis
, and
C.
Weyrich
,
IEEE Trans. Electron Devices
ED-30
,
277
(
1983
).
62.
J. A.
Edmond
,
H. S.
Kong
, and
C. H.
Carter
, Jr.
,
Physica B
185
,
453
(
1993
).
63.
J. W.
Hong
,
N. F.
Shin
,
T. S.
Jen
,
S. L.
Ning
, and
C. Y.
Chang
,
IEEE Electron Device Lett.
EDL-13
,
375
(
1992
).
64.
D. M.
Brown
,
E. T.
Downey
,
M.
Ghezzo
,
J. W.
Kretchner
,
R. J.
Saia
,
Y. S.
Liu
,
J. A.
Edmond
,
G.
Gati
,
J. M.
Pimbley
, and
W. E.
Schneider
,
IEEE Trans. Electron Devices
ED-40
,
325
(
1993
).
65.
R. B.
Campbell
and
H. C.
Chang
,
Solid-State Electron.
63
,
949
(
1967
).
66.
P.
Glasgow
,
G.
Ziegler
,
W.
Zuttrop
,
G.
Pensl
, and
R.
Helbig
,
Proc. SPIE
868
,
40
(
1987
).
67.
I.
Lundstrom
,
A.
Spetz
,
F.
Winquist
,
U.
Ackelid
, and
H.
Sundgren
,
Sensors and Actuators B
1
,
15
(
1990
);
I.
Lundstrom
,
M.
Armgath
, and
L. G.
Peterson
,
CRC Crit. Rev. Solid State Mater. Sci.
15
,
201
(
1989
).
68.
A.
Arbab
,
A.
Spetz
,
Q.
ul Wahab
,
M.
Willander
, and
I.
Lundstrom
,
Proc. Sensors Mater.
4
,
173
(
1993
).
69.
W.
von Muench
and
I.
Pfaffeneder
,
J. Appl. Phys.
48
,
4831
(
1977
).
70.
M. M.
Anikin
,
A. A.
Lebedev
,
I.
Popov
,
P.
Rastegaev
,
A. M.
Strel’chuk
,
A. L.
Syrkin
,
Yu. M.
Tairov
,
F.
Tsvetkov
, and
E.
Chelnokov
,
Sov. Phys. Semicond.
22
,
181
(
1988
).
71.
S.
Strite
and
H.
Morkoç
,
J. Vac. Sci. Technol. B
10
,
1237
(
1992
);
S.
Strite
,
M. E.
Lin
, and
H.
Morkoç
,
Thin Solid Films
231
,
197
(
1993
).
72.
H. P.
Maruska
and
J. J.
Tietjen
,
Appl. Phys. Lett.
15
,
327
(
1969
).
73.
V. S.
Ban
,
J. Electrochem. Soc.
119
,
761
(
1972
).
74.
M.
Hashimoto
,
H.
Amano
,
N.
Sawaki
, and
I.
Akasaki
,
J. Cryst. Growth
68
,
163
(
1984
).
75.
T.
Sasaki
and
T.
Matsuoka
,
J. Appl. Phys.
64
,
4531
(
1988
).
76.
M. A.
Khan
,
J. N.
Kuznia
,
J. M.
Van Hove
,
D. T.
Olsen
,
S.
Krishnankutty
, and
R. M.
Kolbas
,
Appl. Phys. Lett.
58
,
526
(
1991
).
77.
S.
Nakamura
,
Y.
Harada
, and
M.
Seno
,
Appl. Phys. Lett.
58
,
2021
(
1991
).
78.
M. J.
Paisley
,
Z.
Sitar
,
J. B.
Posthill
, and
R. F.
Davis
,
J. Vac. Sci. Technol. A
7
,
701
(
1989
).
79.
S.
Strite
,
J.
Ruan
,
Z.
Li
,
N.
Manning
,
A.
Salvador
,
H.
Chen
,
D. J.
Smith
,
W. J.
Choyke
, and
H.
Morkoç
,
J. Vac. Sci. Technol. B
9
,
1924
(
1991
).
80.
T.
Lei
,
M.
Fanciulli
,
R. J.
Molnar
,
T. D.
Moustakas
,
R. J.
Graham
, and
J.
Scanlon
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
944
(
1991
).
81.
M. E. Lin, B. N. Sverdlov, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. (to be published).
82.
M. E.
Lin
,
B.
Sverdlov
,
G. L.
Zhou
, and
H.
Morkoç
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
3479
(
1993
).
83.
H.
Amano
,
K.
Hiramatsu
, and
I.
Akasaki
,
Jpn. J. Appl. Phys.
27
,
L1384
(
1988
).
84.
K.
Naniwae
,
S.
Itoh
,
H.
Amano
,
K.
Itoh
,
K.
Hiramatsu
, and
I.
Akasaki
,
J. Cryst. Growth
99
,
381
(
1990
).
85.
S.
Strite
,
D. S. L.
Mui
,
G.
Martin
,
Z.
Li
,
David J.
Smith
, and
H.
Morkoç
,
Inst. Phys. Conf. Ser.
120
,
89
(
1992
).
86.
M.
Mizuta
,
S.
Fujieda
,
Y.
Matsumoto
, and
T.
Kawamura
,
Jpn. J. Appl. Phys.
25
,
L945
(
1986
).
87.
T.
Lei
,
T. D.
Moustakas
,
R. J.
Craham
,
Y.
He
, and
S. J.
Berkowitz
,
J. Appl. Phys.
71
,
4933
(
1992
).
88.
H. G.
Grimmeiss
and
B.
Monemar
,
J. Appl. Phys.
41
,
4054
(
1970
).
89.
S.
Yoshida
,
S.
Misawa
, and
S.
Gonda
,
J. Vac. Sci. Technol. B
1
,
250
(
1983
);
S.
Yoshida
,
S.
Misawa
, and
S.
Gonda
,
Appl. Phys. Lett.
42
,
427
(
1983
).
90.
H.
Amano
,
N.
Sawaki
,
I.
Akasaki
, and
Y.
Toyoda
,
Appl. Phys. Lett.
48
,
353
(
1986
).
91.
Y.
Koide
,
N.
Itoh
,
X.
Itoh
,
N.
Sawaki
, and
I.
Akasaki
,
Jpn. J. Appl. Phys.
27
,
1156
(
1988
).
92.
H.
Amano
,
I.
Akasaki
,
K.
Hiramatsu
,
N.
Koide
, and
N.
Sawaki
,
Thin Solid Films
163
,
415
(
1988
).
93.
I.
Akasaki
,
H.
Amano
,
Y.
Koide
,
K.
Hiramatsu
, and
N.
Sawaki
,
J. Cryst. Growth
98
,
209
(
1989
).
94.
S.
Nakamura
,
Jpn. J. Appl. Phys.
30
,
L1705
(
1991
).
95.
N.
Kuznia
,
M. A.
Khan
, and
D. T.
Olson
,
J. Appl. Phys.
73
,
4700
(
1993
).
96.
R. F. Davis, M. J. Paisley, and Z. Sitar, Annual Progress Report, Contract No. N00014-86-K-0686, June 1, 1989.
97.
I.
Petrov
,
E.
Mojab
,
R. C.
Powell
,
J. E.
Creene
,
L.
Hultman
, and
J.-E.
Sundgren
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
2491
(
1992
).
98.
S.
Strite
,
D.
Chandrasekhar
,
D. J.
Smith
,
J.
Sariel
,
H.
Chen
,
N.
Teraguchi
, and
H.
Morkoç
,
J. Cryst. Growth
127
,
204
(
1993
).
99.
T. P.
Humphreys
,
C. A.
Sukow
,
R. J.
Nemanich
,
J. B.
Posthill
,
R. A.
Rudder
,
S. V.
Hattangaddy
, and
R. J.
Markunas
,
Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
162
,
531
(
1990
).
100.
S.
Nakamura
,
Y.
Harada
, and
M.
Seno
,
Appl. Phys. Lett.
58
,
2021
(
1991
).
101.
D. W.
Jenkins
and
J. D.
Dow
,
Phys. Rev. B
39
,
3317
(
1989
).
102.
R. C.
Powell
,
N. E.
Lee
,
Y.-W.
Kim
, and
J. E.
Greene
,
J. Appl. Phys.
73
,
189
(
1993
).
103.
T. L.
Tansley
and
R. J.
Egan
,
Phys. Rev. B
45
,
10
942
(
1993
).
104.
H.
Amano
,
M.
Kito
,
K.
Hiramatsu
, and
I.
Akasaki
,
Jpn. J. Appl. Phys.
28
,
L2112
(
1989
);
H.
Amano
,
M.
Kito
,
K.
Hiramatsu
, and
I.
Akasaki
,
Inst. Phys. Conf. Ser.
106
,
725
(
1990
).
105.
I.
Akasaki
,
H.
Amano
,
M.
Kito
, and
K.
Hiramatsu
,
J. Lumin.
48/49
,
666
(
1991
).
106.
S.
Nakamura
,
N.
Iwasa
,
M.
Seno
, and
T.
Mukai
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
1258
(
1992
).
107.
S.
Nakamura
,
T.
Mukai
,
M.
Seno
, and
N.
Iwasa
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
L139
(
1992
).
108.
S.
Nakamura
,
M.
Seno
, and
T.
Mukai
,
Jpn. J. Appl. Phys.
30
,
L1708
(
1991
).
109.
R. J.
Molnar
,
T.
Lei
, and
T. D.
Moustakas
,
Proc. Mater. Res. Soc. Symp.
281
,
753
(
1993
).
110.
M. E.
Lin
,
C.
Xue
,
G. L.
Zhou
,
J. E.
Greene
, and
H.
Morkoç
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
932
(
1993
).
111.
J. A.
Van Vechten
,
J. D.
Zook
,
R. D.
Horning
, and
B.
Goldenberg
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
3662
(
1992
).
112.
H.
Amano
,
I.
Akasaki
,
T.
Kozawa
,
K.
Hiramatsu
,
N.
Sawaki
, and
K.
Ikeda
,
J. Lumin.
40/41
,
121
(
1988
).
113.
Y.
Fiorentini
,
M.
Methfessel
, and
M.
Scheffler
,
Phys. Rev. B
47
,
13
353
(
1993
).
114.
G. Martin, S. Strite, A. Agarwal, W. R. Lambrecht, A. Rockett, and H. Morkoç (unpublished).
115.
S.-H.
Wei
and
A.
Zunger
,
Phys. Rev. B
37
,
8958
(
1988
).
116.
S.
Nakamura
,
T.
Mukai
, and
M.
Seno
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
195
(
1992
).
117.
B.
Goldenberg
,
J. D.
Zook
, and
J.
Van Vechten
,
Bull. Am. Phys. Soc.
38
,
446
(
1993
).
118.
W. C.
Johnson
,
J. B.
Parsons
, and
M. C.
Crew
,
J. Phys. Chem.
36
,
2561
(
1932
).
119.
R.
Groth
,
C.
Cergey
,
L.
Barta
, and
J. I.
Pankove
,
Phys. Status Solidi A
26
,
353
(
1974
).
120.
M. E.
Lin
,
B. N.
Sverdlov
, and
H.
Morkoç
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
3625
(
1993
).
121.
S. J.
Pearton
,
C. R.
Abernathy
,
R.
Ren
,
J. R.
Lothian
,
P. W.
Wisk
, and
A.
Katz
,
J. Vac. Sci. Technol. A
11
,
1772
(
1993
).
122.
I.
Adesida
,
A.
Mahajan
,
E.
Andideh
,
M. A.
Khan
,
D. T.
Olsen
, and
J. N.
Kuznia
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
2777
(
1993
).
123.
T. D. Moustakas (private communication).
124.
M. E. Lin, Z. F. Fan, L. H. Allen, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. (to be published).
125.
J. S.
Foresi
and
T. D.
Moustakas
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
2859
(
1993
).
126.
M. A.
Khan
,
J. N.
Kuznia
,
A. R.
Bhattarai
, and
D. T.
Olson
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
1786
(
1993
).
127.
S.
Nakamura
,
T.
Mukai
, and
M.
Seno
,
Jpn. J. Appl. Phys.
30
,
L1998
(
1991
).
128.
S.
Nakamura
,
M.
Seno
, and
T.
Mukai
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
2390
(
1993
).
129.
M. E. Lin, Z. Ma, Z. Fan, L. Allen, and H. Morkoç (unpublished).
130.
S.
Yoshida
,
S.
Misawa
, and
S.
Gonda
,
J. Appl. Phys.
53
,
6844
(
1982
).
131.
K.
Osamura
,
K.
Nakajima
,
Y.
Murakami
,
P. H.
Shingu
, and
A.
Otsuki
,
Solid State Commun.
11
,
617
(
1972
).
132.
T.
Nagatomo
,
T.
Kuboyama
,
H.
Minamino
, and
O.
Omoto
,
Jpn. J. Appl. Phys.
28
,
L1334
(
1989
).
133.
N.
Yoshimoto
,
T.
Matsuoka
,
T.
Sasaki
, and
A.
Katsui
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
2251
(
1991
).
134.
S.
Nakamura
and
T.
Mukai
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
L1457
(
1992
).
135.
S.
Nakamura
,
T.
Mukai
, and
M.
Seno
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
L16
(
1993
).
136.
S.
Nakamura
,
N.
Iwasa
, and
S.
Nagahama
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
L338
(
1993
).
137.
S.
Nakamura
,
M.
Seno
, and
T.
Mukai
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
L8
(
1993
).
138.
K.
Kubota
,
Y.
Kobayashi
, and
K.
Fujimoto
,
J. Appl. Phys.
66
,
2984
(
1989
).
139.
O.
Igarashi
, and
Y.
Okada
,
Jpn. J. Appl. Phys.
27
,
790
(
1988
).
140.
J. B.
Cutler
,
P. D.
Viller
,
W.
Rafaniello
,
H. K.
Park
,
D. P.
Thompson
, and
K. H.
Jack
,
Nature
275
,
434
(
1978
).
141.
I. Jenkins, K. C. Irvine, M. C. Spencer, V. Dmitriev, and N. Chen, Semiannual Progress Report for ONR Contract No. N00014-92-J-1136.
142.
W.
Rafaniello
,
K.
Cho
, and
A. Y.
Yirkar
,
J. Mater. Sci.
16
,
3479
(
1981
).
143.
S. A.
Nurmagomedov
,
A. N.
Pikhtin
,
V. N.
Rasbegaev
,
C. K.
Safaraliev
,
Yu. M.
Tairov
, and
V. F.
Tzvetkov
,
Sov. Phys. Semicond.
23
,
100
(
1989
).
144.
S. A.
Nurmagomedov
,
A. N.
Pikhtin
,
V. N.
Rasbegaev
,
C. K.
Safaraliev
,
Yu. M.
Tairov
, and
V. F.
Tzvetkov
,
Sov. Tech. Phys. Lett.
12
,
431
(
1986
).
145.
V. A.
Dmitriev
,
L. B.
Elfimov
,
I. Yu.
Lin’kov
,
Ya. Y.
Morozenko
,
I. P.
Nikitina
,
V. E.
Cheinokov
,
A. E.
Cherenkov
, and
M. A.
Chernov
,
Sov. Tech. Phys. Lett.
17
,
214
(
1991
).
146.
J. I.
Pankove
,
E. A.
Miller
, and
J. E.
Berkeyheiser
,
RCA Rev.
32
,
383
(
1971
).
147.
I. Akasaki and H. Amano, Mater. Res. Soc. Fall Meeting, Boston, MA, November 1991.
148.
S. Nakamura (private communication).
149.
I. Akasaki (private communication).
150.
B. Gelmont, K. Kim, and M. S. Shur, J. Appl. Phys. (to be published).
151.
M. A.
Khan
,
A.
Bhattarai
,
J. N.
Kuznia
, and
D. T.
Olson
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
1214
(
1993
).
152.
M. A.
Khan
,
J. N.
Kuznia
,
J. M.
Van Hove
,
N.
Pan
, and
J.
Carter
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
3027
(
1992
).
153.
D.
Dingle
,
K. L.
Shaklee
,
R. F.
Leheny
, and
R. B.
Zetterstrom
,
Appl. Phys. Lett.
19
,
5
(
1971
).
154.
M. A.
Khan
,
R. A.
Skogman
,
J. M.
Yan Hove
,
S.
Krishnankutty
, and
R. M.
Kolbas
,
Appl. Phys. Lett.
56
,
1257
(
1990
).
155.
M. A.
Khan
,
D. T.
Olson
,
J. M.
Van Hove
, and
J. N.
Kuznia
,
Appl. Phys. Lett.
58
,
1515
(
1991
).
156.
M. A.
Khan
,
J. N.
Kuznia
,
J. M.
Van Hove
, and
D. T.
Olson
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
1449
(
1991
).
157.
H.
Amano
,
N.
Watanabe
,
N.
Koide
, and
I.
Akasaki
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
L1000
(
1993
).
158.
M. E. Lin, B. N. Sverdlov, S. Strite, H. Morkoç, and A. E. Drakin, Electron. Lett. (to be published).
159.
J.
Pastrnak
and
L.
Roskovcova
,
Phys. Status Solidi
14
,
K5
(
1966
).
160.
R. Nemanich and R. F. Davis (private communication).
161.
A.
Taike
,
M.
Migita
, and
H.
Yamamoto
,
Appl. Phys. Lett.
56
,
1989
(
1990
).
162.
M.
Imaizumi
,
Y.
Endoh
,
K.
Ohtsuka
,
M.
Suita
,
T.
Isu
, and
M.
Nunoshita
,
Jpn. J. Appl. Phys.
33
,
L13
(
1994
).
163.
M. A.
Haase
,
H.
Cheng
,
J. M.
DePuydt
, and
J. E.
Potts
,
J. Appl. Phys.
67
,
448
(
1990
).
164.
K.
Akimoto
,
T.
Miyajima
, and
Y.
Mori
,
Jpn. J. Appl. Phys.
28
,
L531
(
1989
).
165.
S. M.
Shibi
,
M. C.
Tamargo
,
B. J.
Skromme
,
S. A.
Schwarz
,
C. L.
Schwartz
,
R. E.
Nahory
, and
R. J.
Martin
,
J. Vac. Sci. Technol. B
8
,
187
(
1990
).
166.
T.
Yao
and
Y.
Okada
,
Jpn. J. Appl. Phys.
25
,
821
(
1988
).
167.
H.
Cheng
,
J. M.
Depuydt
,
J. E.
Potts
, and
T. L.
Smith
,
Appl. Phys. Lett.
52
,
147
(
1988
).
168.
J.
Ren
,
K. A.
Bowers
,
B.
Sneed
,
D. L.
Dreifus
,
J. W.
Cook
, Jr.
,
J. F.
Schetzina
, and
R. M.
Kolbas
,
Appl. Phys. Lett.
57
,
1901
(
1990
).
169.
I.
Suemene
,
K.
Yamada
,
H.
Masato
,
Y.
Kanda
,
Y.
Kan
, and
M.
Yamanishi
,
Jpn. J. Appl. Phys.
27
,
L2195
(
1988
).
170.
R. M.
Park
,
H. A.
Mar
, and
N. M.
Salansky
,
J. Appl. Phys.
58
,
1047
(
1985
).
171.
T.
Mitsuyu
,
K.
Ohkawa
, and
O.
Yamazaki
,
J. Cryst. Growth
86
,
329
(
1988
);
T.
Mitsuyu
,
K.
Ohkawa
, and
O.
Yamazaki
,
Appl. Phys. Lett.
49
,
1348
(
1988
).
172.
R. M.
Park
,
M. B.
Troffer
,
C. M.
Rouleau
,
J. M.
DePuydt
, and
M. A.
Haase
,
Appl. Phys. Lett.
57
,
2127
(
1990
).
173.
K.
Ohkawa
,
T.
Karasawa
, and
T.
Mitsuyu
,
Jpn. J. Appl. Phys.
30
,
L152
(
1991
).
174.
M. A.
Haase
,
J.
Qui
,
J. M.
DePuydt
, and
H.
Cheng
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
1272
(
1991
).
175.
H.
Jeon
,
J.
Ding
,
W.
Patterson
,
A. V.
Nurmikko
,
W.
Xie
,
D. C.
Grillo
,
M.
Kobayashi
, and
R. L.
Gunshor
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
3619
(
1991
).
176.
H.
Jeon
,
J.
Ding
,
A. V.
Nurmikko
,
W.
Xie
,
D. C.
Grillo
,
M.
Kobayashi
,
R. L.
Gunshor
,
G. C.
Hua
, and
N.
Otsuka
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
2045
(
1992
).
177.
A. V.
Nurmikko
,
R. L.
Gunshor
, and
M.
Kobayashi
,
J. Cryst. Growth
117
,
432
(
1992
).
178.
R. L. Gunshor and A. V. Nurmikko, M. Kobayashi, Phys. World, March, p. 46 (1992);
R. L.
Gunshor
,
N.
Otsuka
, and
A. V.
Nurmikko
,
IEEE Spectrum
30
, No.
5
,
28
(
1993
).
179.
R. L.
Gunshor
,
A. V.
Nurmikko
, and
N.
Otsuka
,
Thin Solid Films
231
,
190
(
1993
).
180.
W.
Xie
,
D. C.
Grillo
,
R. L.
Gunshor
,
M.
Kobayashi
,
H.
Jeon
,
J.
Ding
,
A. V.
Nurmikko
,
G. C.
Hua
, and
N.
Otsuka
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
1999
(
1992
).
181.
H.
Okuyama
,
T.
Miyajima
,
Y.
Morinaga
,
F.
Hiei
,
M.
Ozawa
, and
K.
Akimoto
,
Electron. Lett.
28
,
1798
(
1992
).
182.
J. M.
Gaines
,
R. R.
Drenten
,
K. W.
Haberern
,
T.
Marshall
,
P.
Mensz
, and
J.
Petruzzello
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
2462
(
1993
).
183.
J.
Qiu
,
J. M.
Depuydt
,
H.
Cheng
, and
M. A.
Haase
,
Appl. Phys. Lett.
59
,
2992
(
1991
).
184.
T.
Ohtsuka
and
K.
Horie
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
L233
(
1993
).
185.
S.
Ito
,
M.
Ikeda
, and
K.
Akimoto
,
Jpn. J. Appl. Phys.
31
,
L1316
(
1992
).
186.
T.
Hamada
,
T.
Hariu
, and
S.
Ono
,
Jpn. J. Appl. Phys.
32
,
674
(
1993
).
187.
J. A.
Wolk
,
J. W.
Ager
III
,
K. J.
Duxstad
,
E. E.
Haller
,
N. R.
Taskar
,
D. R.
Dorman
, and
D. J.
Olego
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
2756
(
1993
).
188.
A.
Kamata
,
H.
Mitsuhashi
, and
H.
Fujita
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
3353
(
1993
).
189.
J.
Petruzello
,
J.
Gaines
,
P.
van der Sluis
,
D.
Olego
, and
C.
Ponzoni
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
1496
(
1993
).
190.
J.
Han
,
T. S.
Stavrinides
,
M.
Kobayashi
,
R. L.
Gunshor
,
M. M.
Hagerott
, and
A. V.
Nurmikko
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
840
(
1993
).
191.
F.
Hiei
,
M.
Ikeda
,
M.
Ozawa
,
T.
Miyajima
,
A.
Ishibashi
, and
K.
Akimoto
,
Electron. Lett.
29
,
878
(
1993
).
192.
M.
Hagerott
,
J.
Ding
,
H.
Jeon
,
A. V.
Nurmikko
,
Y.
Fan
,
L.
He
,
J.
Han
,
J.
Saraie
,
R. L.
Gunshor
,
C. G.
Hua
, and
N.
Otsuka
,
Appl. Phys. Lett.
62
,
2108
(
1993
).
193.
For a review, see
H.
Morkoç
,
B.
Sverdlov
, and
G. B.
Gao
,
Proc. IEEE
81
,
492
(
1993
).
194.
J. E.
Potts
,
T. L.
Smith
, and
H.
Cheng
,
Appl. Phys. Lett.
50
,
7
(
1987
).
195.
S.
Colak
,
B. J.
Fitzpatrick
, and
R. N.
Bhargawa
,
J. Cryst. Growth
72
,
504
(
1985
).
196.
O. V.
Bogdankevich
,
B. M.
Lavrushin
,
O. V.
Matveev
,
V. F.
Pevtsov
, and
M. M.
Khalimon
,
Sov. J. Quantum Electron
6
,
329
(
1972
).
197.
M. A.
Haase
,
P. F.
Baude
,
M. S.
Hagedom
,
J.
Qiu
,
J. M.
Depuydt
,
H.
Cheng
,
S.
Guha
,
G. E.
Hofler
, and
B. J.
Wu
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
2315
(
1993
).
198.
J. M. DePuydt, M. A. Haase, J. Qiu, H. Cheng, and S. Guha, in 6th International Conference on II-VI Compounds and Related Optoelectronic Materials, September 13–17, 1993, Newport, RI.
199.
D. C.
Grillo
,
Y.
Fan
,
J.
Han
,
L.
He
,
R. L.
Gunshor
,
A.
Salokatve
,
H.
Hagerott
,
H.
Jeon
,
A. V.
Nurmikko
,
G. C.
Hua
, and
N.
Otsuka
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
2723
(
1993
).
200.
W.
Xie
,
D. C.
Grillo
,
R. L.
Gunshor
,
M.
Kobayashi
,
G. C.
Hua
,
N.
Otsuka
,
H.
Jeon
,
J.
Ding
, and
A. V.
Nurmikko
,
Appl. Phys. Lett.
60
,
463
(
1992
).
201.
S.
Itoh
,
H.
Okuyama
,
S.
Matsumoto
,
N.
Nakayama
,
T.
Ohata
,
T.
Miyajima
,
A.
Ishibashi
, and
K.
Akimoto
,
Electron. Lett.
29
,
766
(
1993
).
202.
M.
Ozawa
,
F.
Hiei
,
A.
Ishibashi
, and
K.
Akimoto
,
Electron. Lett.
29
,
503
(
1993
).
203.
N.
Nakayama
,
S.
Itoh
,
H.
Okuyama
,
M.
Ozawa
,
T.
Ohata
,
K.
Nakano
,
M.
Ikeda
,
A.
Ishibashi
, and
Y.
Mori
,
Electron. Lett.
29
,
2194
(
1993
).
204.
A.
Salokatve
,
H.
Jeon
,
M.
Hovinen
,
P.
Kelkar
,
A. V.
Nurmikko
,
D. C.
Grillo
,
L.
He
,
J.
Han
,
Y.
Fan
,
M.
Ringle
, and
R. L.
Gunshor
,
Electron. Lett.
29
,
2041
(
1993
).
205.
B. Gunshor (private communication).
206.
S.
Guha
,
J. M.
DePuydt
,
J.
Qiu
,
G. E.
Hofler
,
M. A.
Haase
,
B. J.
Wu
, and
H.
Cheng
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
3023
(
1993
).
207.
S.
Guha
,
J. M.
DePuydt
,
M. A.
Haase
,
J.
Qiu
, and
H.
Cheng
,
Appl. Phys. Lett.
63
,
3300
(
1993
).
This content is only available via PDF.
You do not currently have access to this content.