Atomic layer deposition (ALD) is gaining attention as a thin film deposition method, uniquely suitable for depositing uniform and conformal films on complex three-dimensional topographies. The deposition of a film of a given material by ALD relies on the successive, separated, and self-terminating gas–solid reactions of typically two gaseous reactants. Hundreds of ALD chemistries have been found for depositing a variety of materials during the past decades, mostly for inorganic materials but lately also for organic and inorganic–organic hybrid compounds. One factor that often dictates the properties of ALD films in actual applications is the crystallinity of the grown film: Is the material amorphous or, if it is crystalline, which phase(s) is (are) present. In this thematic review, we first describe the basics of ALD, summarize the two-reactant ALD processes to grow inorganic materials developed to-date, updating the information of an earlier review on ALD [R. L. Puurunen, J. Appl. Phys. 97, 121301 (2005)], and give an overview of the status of processing ternary compounds by ALD. We then proceed to analyze the published experimental data for information on the crystallinity and phase of inorganic materials deposited by ALD from different reactants at different temperatures. The data are collected for films in their as-deposited state and tabulated for easy reference. Case studies are presented to illustrate the effect of different process parameters on crystallinity for representative materials: aluminium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, titanium nitride, zinc zulfide, and ruthenium. Finally, we discuss the general trends in the development of film crystallinity as function of ALD process parameters. The authors hope that this review will help newcomers to ALD to familiarize themselves with the complex world of crystalline ALD films and, at the same time, serve for the expert as a handbook-type reference source on ALD processes and film crystallinity.
REFERENCES
1.
T.
Suntola
, Mater. Sci. Rep.
4
, 261
(1989
).2.
3.
M.
Ritala
and M.
Leskelä
, in Handbook of Thin Film Materials
, edited by H. S.
Nalwa
(Academic
, San Diego
, 2002
), Vol. 1
, pp. 103
–159
.4.
M.
Leskelä
and M.
Ritala
, Angew. Chem., Int. Ed.
42
, 5548
(2003
).5.
M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, L.
Niinistö
, and J.
Keinonen
, Anal. Bioanal. Chem.
382
, 1791
(2005
).6.
M.
Putkonen
and L.
Niinistö
, Top. Organomet. Chem.
9
, 125
(2005
).7.
K. E.
Elers
, T.
Blomberg
, M.
Peussa
, B.
Aitchison
, S.
Haukka
, and S.
Marcus
, Chem. Vap. Deposition
12
, 13
(2006
).8.
M.
Schumacher
, P. K.
Baumann
, and T.
Seidel
, Chem. Vap. Deposition
12
, 99
(2006
).9.
A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, P. R.
Chalker
, R. J.
Potter
, T. D.
Manning
, Y. F.
Loo
, R.
O'Kane
, J. M.
Gaskell
, and L. M.
Smith
, Chem. Vap. Deposition
12
, 83
(2006
).10.
M.
Knez
, K.
Nielsch
, and L.
Niinistö
, Adv. Mater.
19
, 3425
(2007
).11.
12.
A.
Sherman
, Atomic Layer Deposition for Nanotechnology: An Enabling Process for Nanotechnology Fabrication
(Ivoryton
, Connecticut
, 2008
).13.
M.
Ritala
and J.
Niinistö
, “Atomic layer deposition,” in Chemical Vapour Deposition
(Royal Society of Chemistry
, Cambridge, UK
, 2009
), pp. 158
–206
.14.
J.
Niinistö
, K.
Kukli
, M.
Heikkilä
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Adv. Eng. Mater.
11
, 223
(2009
).15.
H.
Kim
, H. -B.-R.
Lee
, and W. J.
Maeng
, Thin Solid Films
517
, 2563
(2009
).16.
G.
Clavel
, E.
Rauwel
, M.-G.
Willinger
, and N.
Pinna
, J. Mater. Chem.
19
, 454
(2009
).17.
18.
R. L.
Puurunen
, H.
Kattelus
, and T.
Suntola
, “Atomic layer deposition in MEMS technology,” in Handbook of Silicon-Based MEMS Materials and Technologies
(Elsevier
, 2010
), pp. 433
–446
.19.
J. R.
Bakke
, K. L.
Pickrahn
, T. P.
Brennan
, and S. F.
Bent
, Nanoscale
3
, 3482
(2011
).20.
H. B.
Profijt
, S. E.
Potts
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
29
, 050801
(2011
).21.
C.
Detavernier
, J.
Dendooven
, S. P.
Sree
, K. F.
Ludwig
, and J. A.
Martens
, Chem. Soc. Rev.
40
, 5242
(2011
).22.
S. M.
George
, B. H.
Lee
, B.
Yoon
, A. I.
Abdulagatov
, and R. A.
Hall
, J. Nanosci. Nanotechnol.
11
, 7948
(2011
).23.
E.
Marin
, A.
Lanzutti
, F.
Andreatta
, M.
Lekka
, L.
Guzman
, and L.
Fedrizzi
, Corros. Rev.
29
, 191
(2011
).24.
G. N.
Parsons
, S. M.
George
, and M.
Knez
, MRS Bull.
36
, 865
(2011
).25.
M.
Leskelä
, M.
Ritala
, and O.
Nilsen
, MRS Bull.
36
, 877
(2011
).26.
C.
Bae
, H.
Shin
, and K.
Nielsch
, MRS Bull.
36
, 887
(2011
).27.
J. W.
Elam
, N. P.
Dasgupta
, and F. B.
Prinz
, MRS Bull.
36
, 899
(2011
).28.
W.
Kessels
and M.
Putkonen
, MRS Bull.
36
, 907
(2011
).29.
Q.
Peng
, J. S.
Lewis
, P. G.
Hoertz
, J. T.
Glass
, and G. N.
Parsons
, J. Vac. Sci. Technol. A
30
, 010803
(2012
).30.
H.
Im
, N. J.
Wittenberg
, N. C.
Lindquist
, and S. H.
Oh
, J. Mater. Res.
27
, 663
(2012
).31.
H. C. M.
Knoops
, M. E.
Donders
, M. C. M.
van de Sanden
, P. H. L.
Notten
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
30
, 010801
(2012
).32.
33.
S. D.
Elliott
, Semicond. Sci. Technol.
27
, 074008
(2012
).34.
M.
Knez
, Semicond. Sci. Technol.
27
, 074001
(2012
).35.
J. A.
van Delft
, D.
Garcia-Alonso
, and W. M. M.
Kessels
, Semicond. Sci. Technol.
27
, 074002
(2012
).36.
C.
Wiemer
, L.
Lamagna
, and M.
Fanciulli
, Semicond. Sci. Technol.
27
, 074013
(2012
).37.
O.
Nilsen
, O. B.
Karlsen
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, Thin Solid Films
515
, 4527
(2007
).38.
O.
Nilsen
, O. B.
Karlsen
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, Thin Solid Films
515
, 4538
(2007
).39.
O.
Nilsen
, O. B.
Karlsen
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, Thin Solid Films
515
, 4550
(2007
).40.
O.
Nilsen
, O. B.
Karlsen
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, J. Cryst. Growth
308
, 366
(2007
).41.
R. L.
Puurunen
, Appl. Surf. Sci.
245
, 6
(2005
).42.
H. C. M.
Knoops
, E.
Langereis
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
157
, G241
(2010
).43.
D.
Hausmann
, J.
Becker
, S. L.
Wang
, and R. G.
Gordon
, Science
298
, 402
(2002
).44.
T.
Aaltonen
, M.
Alnes
, O.
Nilsen
, L.
Costelle
, and H.
Fjellvåg
, J. Mater. Chem.
20
, 2877
(2010
).45.
M.
Putkonen
, T.
Aaltonen
, M.
Alnes
, T.
Sajavaara
, O.
Nilsen
, and H.
Fjellvåg
, J. Mater. Chem.
19
, 8767
(2009
).46.
47.
M.
Putkonen
and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
514
, 145
(2006
).48.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
413
, 16
(2002
).49.
B.
Mårlid
, M.
Ottosson
, U.
Pettersson
, K.
Larsson
, and J.-O.
Carlsson
, Thin Solid Films
402
, 167
(2002
).50.
J.
Olander
, L. M.
Ottosson
, P.
Heszler
, J. O.
Carlsson
, and K. M. E.
Larsson
, Chem. Vap. Deposition
11
, 330
(2005
).51.
V. V.
Brei
, V. A.
Kasperskii
, and N. E.
Gulyanitskaya
, React. Kinet. Catal. Lett.
50
, 415
(1993
).52.
53.
S. F.
Komarov
, J. J.
Lee
, J. B.
Hudson
, and M. P.
D'Evelyn
, Diamond Relat. Mater.
7
, 1087
(1998
).54.
T. I.
Hukka
, R. E.
Rawles
, and M. P.
D'Evelyn
, Thin Solid Films
225
, 212
(1993
).55.
R.
Huang
and A. H.
Kitai
, Appl. Phys. Lett.
61
, 1450
(1992
).56.
R.
Huang
and A. H.
Kitai
, J. Electron. Mater.
22
, 215
(1993
).57.
R.
Huang
and A. H.
Kitai
, J. Mater. Sci. Lett.
12
, 1444
(1993
).58.
M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
10
, 1857
(2000
).59.
M.
Putkonen
, M.
Nieminen
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
466
, 103
(2004
).60.
T.
Törndahl
, C.
Platzer-Björkman
, J.
Kessler
, and M.
Edoff
, Prog. Photovoltaics
15
, 225
(2007
).61.
R.
Mantovan
, M.
Georcieva
, M.
Perego
, H. L.
Lu
, A.
Zenkevich
, G.
Scarel
, and M.
Fanciulli
, Acta Phys. Pol. A
112
, 1271
(2007
).62.
H.-L.
Lu
, S.-J.
Ding
, and D. W.
Zhang
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, G25
(2010
).63.
B. B.
Burton
, D. N.
Goldstein
, and S. M.
George
, J. Phys. Chem. C
113
, 1939
(2009
).64.
T.
Hatanpää
, J.
Ihanus
, J.
Kansikas
, I.
Mutikainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
11
, 1846
(1999
).65.
M.
Putkonen
, L.-S.
Johansson
, E.
Rauhala
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
9
, 2449
(1999
).66.
T.
Pilvi
, T.
Hatanpää
, E.
Puukilainen
, K.
Arstila
, M.
Bischoff
, U.
Kaiser
, N.
Kaiser
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, J. Mater. Chem.
17
, 5077
(2007
).67.
T.
Pilvi
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, M.
Bischoff
, U.
Kaiser
, and N.
Kaiser
, Appl. Opt.
47
, C271
(2008
).68.
T.
Pilvi
, E.
Puukilainen
, U.
Kreissig
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
20
, 5023
(2008
).69.
J. M.
Hartmann
, J.
Cibert
, F.
Kany
, H.
Mariette
, M.
Charleux
, P.
Alleysson
, R.
Langer
, and G.
Feuillet
, J. Appl. Phys.
80
, 6257
(1996
).70.
J. M.
Hartmann
, M.
Charleux
, H.
Mariette
, and J. L.
Rouvière
, Appl. Surf. Sci.
112
, 142
(1997
).71.
Y. J.
Lee
and S.-W.
Kang
, J. Vac. Sci. Technol. A
20
, 1983
(2002
).72.
Y. J.
Lee
and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
5
, C91
(2002
).73.
S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Kopylov
, V. M.
Smirnov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
49
, 516
(1976
)S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Kopylov
, V. M.
Smirnov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
49
, 525
(1976
)].74.
S. I.
Kol'tsov
, V. M.
Smirnov
, R. R.
Rachkovskii
, T. V.
Malalaeva
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
51
, 2596
(1978
)S. I.
Kol'tsov
, V. M.
Smirnov
, R. R.
Rachkovskii
, T. V.
Malalaeva
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
51
, 2475
(1978
)].75.
K.
Ezhovskii
and A. I.
Klusevich
, [Inorg. Mater.
39
, 1062
(2003
)].76.
T.
Suntola
, J.
Antson
, A.
Pakkala
, and S.
Lindfors
, in SID International Symposium in San Diego, California, 29 April-1 May 1980, Digest of Technical Papers
(SID,
Los Angeles, California
, 1980
), pp. 108
–109
.77.
T. S.
Suntola
, A. J.
Pakkala
, and S. G.
Lindfors
, U.S. patent 4,413,022 (1 November, 1983
).78.
T. S.
Suntola
, A. J.
Pakkala
, and S. G.
Lindfors
, U.S. patent 4,389,973 (28 June, 1983
).79.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Jaek
, A.-A.
Kiisler
, and A.-A.
Tammik
, Acta Polytech. Scand., Chem. Technol. Metall. Ser.
195
, 201
(1990
).80.
L.
Hiltunen
, H.
Kattelus
, M.
Leskelä
, M.
Mäkelä
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, P.
Soininen
, and M.
Tiitta
, Mater. Chem. Phys.
28
, 379
(1991
).81.
H.
Kattelus
, M.
Ylilammi
, J.
Saarilahti
, J.
Antson
, and S.
Lindfors
, Thin Solid Films
225
, 296
(1993
).82.
M.
Nieminen
, L.
Niinistö
, and R.
Lappalainen
, Microchim. Acta
119
, 13
(1995
).83.
M.
Ritala
, H.
Saloniemi
, M.
Leskelä
, T.
Prohaska
, G.
Friedbacher
, and M.
Grasserbauer
, Thin Solid Films
286
, 54
(1996
).84.
D.
Riihelä
, M.
Ritala
, R.
Matero
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
289
, 250
(1996
).85.
K.
Kukli
, J.
Ihanus
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
144
, 300
(1997
).86.
S. J.
Yun
, K. H.
Lee
, J.
Skarp
, H. R.
Kim
, and K. S.
Nam
, J. Vac. Sci. Technol. A
15
, 2993
(1997
).87.
S. J.
Yun
, J. S.
Kang
, M. C.
Paek
, and K. S.
Nam
, J. Korean Phys. Soc.
33
, S170
(1998
).88.
M.
Tiitta
, E.
Nykänen
, P.
Soininen
, L.
Niinistö
, M.
Leskelä
, and R.
Lappalainen
, Mater. Res. Bull.
33
, 1315
(1998
).89.
M.
Nieminen
and L.
Niinistö
, Fresenius' J. Anal. Chem.
364
, 224
(1999
).90.
Y. S.
Kim
, J. S.
Kang
, S. J.
Yun
, and K. I.
Cho
, J. Korean Phys. Soc.
35
, S216
(1999
).91.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
148
, F35
(2001
).92.
M.
Lulla
, J.
Asari
, J.
Aarik
, K.
Kukli
, R.
Rammula
, U.
Tapper
, E.
Kauppinen
, and V.
Sammelselg
, Microchim. Acta
155
, 195
(2006
).93.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, A.
de Castro
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, A.
Aidla
, J.
Aarik
, H.
Mändar
, T.
Uustare
, J.
Lu
, and A.
Hårsta
, J. Appl. Phys.
99
, 054902
(2006
).94.
M.
Kemell
, E.
Färm
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Eur. Polym. J.
44
, 3564
(2008
).95.
E.
Färm
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Phys. Chem. C
112
, 15791
(2008
).96.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, A.
Gómez
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, J.
Aarik
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
155
, G241
(2008
).97.
A. K.
Roy
, W.
Baumann
, I.
Koenig
, G.
Baumann
, S.
Schulze
, M.
Hietschold
, T.
Maeder
, D. J.
Nestler
, B.
Wielage
, and W. A.
Goedel
, Anal. Bioanal. Chem.
396
, 1913
(2010
).98.
E.
Färm
, M.
Kemell
, E.
Santala
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
157
, K10
(2010
).99.
Y. K.
Ezhovskii
and V. Y.
Kholkin
, Inorg. Mater.
46
, 38
(2010
).100.
G.
Oya
, M.
Yoshida
, and Y.
Sawada
, Appl. Phys. Lett.
51
, 1143
(1987
).101.
G.
Oya
and Y.
Sawada
, J. Cryst. Growth
99
, 572
(1990
).102.
M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, P.
Soininen
, and M.
Tiitta
, Acta Polytech. Scand., Chem. Technol. Metall. Ser.
195
, 193
(1990
).103.
M.
Ritala
, K.
Kukli
, A.
Rahtu
, P. I.
Räisänen
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, and J.
Keinonen
, Science
288
, 319
(2000
).104.
P. I.
Räisänen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Chem.
12
, 1415
(2002
).105.
106.
G. S.
Higashi
and L. J.
Rothberg
, J. Vac. Sci. Technol. B
3
, 1460
(1985
).107.
G. S.
Higashi
and C. G.
Fleming
, Appl. Phys. Lett.
55
, 1963
(1989
).108.
C.
Soto
and W. T.
Tysoe
, J. Vac. Sci. Technol. A
9
, 2686
(1991
).109.
C.
Soto
, R.
Wu
, D. W.
Bennett
, and W. T.
Tysoe
, Chem. Mater.
6
, 1705
(1994
).110.
V. E.
Drozd
, A. P.
Baraban
, and I. O.
Nikiforova
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 583
(1994
).111.
S. M.
George
, O.
Sneh
, A. C.
Dillon
, M. L.
Wise
, A. W.
Ott
, L. A.
Okada
, and J. D.
Way
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 460
(1994
).112.
A. C.
Dillon
, A. W.
Ott
, J. D.
Way
, and S. M.
George
, Surf. Sci.
322
, 230
(1995
).113.
E.-L.
Lakomaa
, A.
Root
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
107
, 107
(1996
).114.
A. W.
Ott
, K. C.
McCarley
, J. W.
Klaus
, J. D.
Way
, and S. M.
George
, Appl. Surf. Sci.
107
, 128
(1996
).115.
A. W.
Ott
, J. W.
Klaus
, J. M.
Johnson
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
292
, 135
(1997
).116.
A. W.
Ott
, J. W.
Klaus
, J. M.
Johnson
, S. M.
George
, K. C.
McCarley
, and J. D.
Way
, Chem. Mater.
9
, 707
(1997
).117.
J. I.
Skarp
, P. J.
Soininen
, and P. T.
Soininen
, Appl. Surf. Sci.
112
, 251
(1997
).118.
P.
Ericsson
, S.
Bengtsson
, and J.
Skarp
, Microelectron. Eng.
36
, 91
(1997
).119.
Y.
Kim
, S. M.
Lee
, C. S.
Park
, S. I.
Lee
, and M. Y.
Lee
, Appl. Phys. Lett.
71
, 3604
(1997
).120.
B. S.
Berland
, I. P.
Gartland
, A. W.
Ott
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
10
, 3941
(1998
).121.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, J.-P.
Dekker
, C.
Mutsaers
, P. J.
Soininen
, and J.
Skarp
, Chem. Vap. Deposition
5
, 7
(1999
).122.
M.
Ritala
, M.
Juppo
, K.
Kukli
, A.
Rahtu
, and M.
Leskelä
, J. Phys. IV France
9
, Pr8
–1021
(1999
).123.
R.
Matero
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Salo
, J.
Aromaa
, and O.
Forsén
, J. Phys. IV France
9
, Pr8
–493
(1999
).124.
E. P.
Gusev
, M.
Copel
, E.
Cartier
, I. J. R.
Baumvol
, C.
Krug
, and M. A.
Gribelyuk
, Appl. Phys. Lett.
76
, 176
(2000
).125.
R. L.
Puurunen
, A.
Root
, S.
Haukka
, E. I.
Iiskola
, M.
Lindblad
, and A. O. I.
Krause
, J. Phys. Chem. B
104
, 6599
(2000
).126.
A. M.
Uusitalo
, T. T.
Pakkanen
, M.
Kröger-Laukkanen
, L.
Niinistö
, K.
Hakala
, S.
Paavola
, and B.
Löfgren
, J. Mol. Catal. A: Chem.
160
, 343
(2000
).127.
M.
Juppo
, A.
Rahtu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Langmuir
16
, 4034
(2000
).128.
R.
Matero
, A.
Rahtu
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and T.
Sajavaara
, Thin Solid Films
368
, 1
(2000
).129.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
371
, 95
(2000
).130.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Appl. Surf. Sci.
162/163
, 280
(2000
).131.
M.
Juppo
, “Atomic layer deposition of metal and transition metal nitride thin films and in situ mass spectrometry studies
,” Ph.D. dissertation (University of Helsinki, Finland
, 2001
).132.
R. L.
Puurunen
, M.
Lindblad
, A.
Root
, and A. O. I.
Krause
, Phys. Chem. Chem. Phys.
3
, 1093
(2001
).133.
A.
Rahtu
, T.
Alaranta
, and M.
Ritala
, Langmuir
17
, 6506
(2001
).134.
A.
Paranjpe
, S.
Gopinath
, T.
Omstead
, and R.
Bubber
, J. Electrochem. Soc.
148
, G465
(2001
).135.
E. P.
Gusev
, E.
Cartier
, D. A.
Buchanan
, M.
Gribelyuk
, M.
Copel
, H.
Okorn-Schmidt
, and C.
D'Emic
, Microelectron. Eng.
59
, 341
(2001
).136.
A.
Rahtu
, “Atomic layer deposition of high permittivity oxides: Film growth and in situ studies
,” Ph.D. dissertation (University of Helsinki, Finland
, 2002
).137.
R.
Puurunen
, “Preparation by atomic layer deposition and characterisation of catalyst supports surfaced with aluminium nitride
,” Ph.D. dissertation (Helsinki University of Technology, Espoo, Finland
, 2002
).138.
O.
Sneh
, R. B.
Clark-Phelps
, A. R.
Londergan
, J.
Winkler
, and T. E.
Seidel
, Thin Solid Films
402
, 248
(2002
).139.
H.
Nohira
, W.
Tsai
, W.
Besling
, E.
Young
, J.
Petry
, T.
Conard
, W.
Vandervorst
, S.
De Gendt
, M.
Heyns
, J.
Maes
, and M.
Tuominen
, J. Non-Cryst. Solids
303
, 83
(2002
).140.
W. F. A.
Besling
, E.
Young
, T.
Conard
, C.
Zhao
, R.
Carter
, W.
Vandervorst
, M.
Caymax
, S.
De Gendt
, M.
Heyns
, J.
Maes
, M.
Tuominen
, and S.
Haukka
, J. Non-Cryst. Solids
303
, 123
(2002
).141.
L. G.
Gosset
, J.-F.
Damlencourt
, O.
Renault
, D.
Rouchon
, Ph.
Holliger
, A.
Ermolieff
, I.
Trimaille
, J.-J.
Ganem
, F.
Martin
, and M.-N.
Séméria
, J. Non-Cryst. Solids
303
, 17
(2002
).142.
J. W.
Elam
, Z. A.
Sechrist
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
414
, 43
(2002
).143.
J. W.
Elam
, M. D.
Groner
, and S. M.
George
, Rev. Sci. Instrum.
73
, 2981
(2002
).144.
M. D.
Groner
, J. W.
Elam
, F. H.
Fabreguette
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
413
, 186
(2002
).145.
J. M.
Jensen
, A. B.
Oelkers
, R.
Toivola
, D. C.
Johnson
, J. W.
Elam
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
14
, 2276
(2002
).146.
B.
Brijs
, C.
Huyghebaert
, S.
Nauwelaerts
, M.
Caymax
, W.
Vandervorst
, K.
Nakajima
, K.
Kimura
, A.
Bergmaier
, G.
Döllinger
, W. N.
Lennard
, G.
Terwagne
, and A.
Vantomme
, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B
190
, 505
(2002
).147.
J. W.
Elam
and S. M.
George
, Chem. Mater.
15
, 1020
(2003
).148.
T. M.
Mayer
, J. W.
Elam
, S. M.
George
, P. G.
Kotula
, and R. S.
Goeke
, Appl. Phys. Lett.
82
, 2883
(2003
).149.
N. D.
Hoivik
, J. W.
Elam
, R. J.
Linderman
, V. M.
Bright
, S. M.
George
, and Y. C.
Lee
, Sens. Actuators, A
103
, 100
(2003
).150.
R.
Kuse
, M.
Kundu
, T.
Yasuda
, N.
Miyata
, and A.
Toriumi
, J. Appl. Phys.
94
, 6411
(2003
).151.
S.
Jakschik
, U.
Schroeder
, T.
Hecht
, M.
Gutsche
, H.
Seidl
, and J. W.
Bartha
, Thin Solid Films
425
, 216
(2003
).152.
S.
Jakschik
, U.
Schroeder
, T.
Hecht
, D.
Krueger
, G.
Dollinger
, A.
Bergmaier
, C.
Luhmann
, and J. W.
Bartha
, Appl. Surf. Sci.
211
, 352
(2003
).153.
R. L.
Puurunen
, Chem. Vap. Deposition
9
, 327
(2003
).154.
J.-F.
Damlencourt
, O.
Renault
, A.
Chabli
, F.
Martin
, and M.-N.
Séméria
, J. Mater. Sci.: Mater. Electron.
14
, 379
(2003
).155.
M. M.
Frank
, Y. J.
Chabal
, and G. D.
Wilk
, Appl. Phys. Lett.
82
, 4758
(2003
).156.
M. M.
Frank
, Y. J.
Chabal
, M. L.
Green
, A.
Delabie
, B.
Brijs
, G. D.
Wilk
, M.-Y.
Ho
, E. B. O.
da Rosa
, I. J. R.
Baumvol
, and F. C.
Stedile
, Appl. Phys. Lett.
83
, 740
(2003
).157.
P. D.
Ye
, G. D.
Wilk
, B.
Yang
, J.
Kwo
, S. N. G.
Chu
, S.
Nakahara
, H. -J. L.
Gossmann
, J. P.
Mannaerts
, M.
Hong
, K. K.
Ng
, and J.
Bude
, Appl. Phys. Lett.
83
, 180
(2003
).158.
J. S.
Lee
, B.
Min
, K.
Cho
, S.
Kim
, J.
Park
, Y. T.
Lee
, N. S.
Kim
, M. S.
Lee
, S. O.
Park
, and J. T.
Moon
, J. Cryst. Growth
254
, 443
(2003
).159.
M. D.
Groner
, F. H.
Fabreguette
, J. W.
Elam
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
16
, 639
(2004
).160.
T.
Kawahara
, K.
Torii
, R.
Mitsuhashi
, A.
Muto
, A.
Horiuchi
, H.
Ito
, and H.
Kitajima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
43
, 4129
(2004
).161.
S.
Jakschik
, U.
Schroeder
, T.
Hecht
, D.
Krueger
, G.
Dollinger
, A.
Bergmaier
, C.
Luhmann
, and J. W.
Bartha
, Mater. Sci. Eng., B
107
, 251
(2004
).162.
R. L.
Puurunen
, W.
Vandervorst
, W. F. A.
Besling
, O.
Richard
, H.
Bender
, T.
Conard
, C.
Zhao
, A.
Delabie
, M.
Caymax
, S.
De Gendt
, M.
Heyns
, M. M.
Viitanen
, M.
de Ridder
, H. H.
Brongersma
, Y.
Tamminga
, T.
Dao
, T.
de Win
, M.
Verheijen
, M.
Kaiser
, and M.
Tuominen
, J. Appl. Phys.
96
, 4878
(2004
).163.
R. L.
Puurunen
and W.
Vandervorst
, J. Appl. Phys.
96
, 7686
(2004
).164.
R. T.
Brewer
, M.-T.
Ho
, K. Z.
Zhang
, L. V.
Goncharova
, D. G.
Starodub
, T.
Gustafsson
, Y. J.
Chabal
, and N.
Moumen
, Appl. Phys. Lett.
85
, 3830
(2004
).165.
R. K.
Grubbs
, C. E.
Nelson
, N. J.
Steinmetz
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
467
, 16
(2004
).166.
S. S.
Lee
, J. Y.
Baik
, K.-S.
An
, Y. D.
Suh
, J.-H.
Oh
, and Y.
Kim
, J. Phys. Chem. B
108
, 15128
(2004
).167.
M.
Kang
, J.-S.
Lee
, S.-K.
Sim
, B.
Min
, K.
Cho
, H.
Kim
, M.-Y.
Sung
, S.
Kim
, S. A.
Song
, and M.-S.
Lee
, Thin Solid Films
466
, 265
(2004
).168.
C.
Lee
, J.
Choi
, M.
Cho
, J.
Park
, C. S.
Hwang
, H. J.
Kim
, and J.
Jeong
, J. Vac. Sci. Technol. B
22
, 1838
(2004
).169.
R. G.
Vitchev
, J. J.
Pireaux
, T.
Conard
, H.
Bender
, J.
Wolstenholme
, and C.
Defranoux
, Appl. Surf. Sci.
235
, 21
(2004
).170.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
16
, 5602
(2004
).171.
H.
Bender
, T.
Conard
, O.
Richard
, B.
Brijs
, J.
Pétry
, W.
Vandervorst
, C.
Defranoux
, P.
Boher
, N.
Rochat
, C.
Wyon
, P.
Mack
, J.
Wolstenholme
, R.
Vitchev
, L.
Houssiau
, J.-J.
Pireaux
, A.
Bergmaier
, and G.
Dollinger
, Mater. Sci. Eng., B
109
, 60
(2004
).172.
P.
Boher
, C.
Defranoux
, P.
Heinrich
, J.
Wolstenholme
, and H.
Bender
, Mater. Sci. Eng., B
109
, 64
(2004
).173.
C.
Lee
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, Integr. Ferroelectr.
67
, 49
(2004
).174.
R.
Matero
, “Atomic layer deposition of oxide filmsGrowth, characterisation and reaction mechanism studies
,” Ph.D. dissertation (University of Helsinki, Finland
, 2004
).175.
D.
Wu
, J.
Lu
, E.
Vainonen-Ahlgren
, E.
Tois
, M.
Tuominen
, M.
Östling
, and S.-L.
Zhang
, Solid-State Electron.
49
, 193
(2005
).176.
D. R. G.
Mitchell
, D. J.
Attard
, K. S.
Finnie
, G.
Triani
, C. J.
Barbé
, C.
Depagne
, and J. R.
Bartlett
, Appl. Surf. Sci.
243
, 265
(2005
).177.
S. -H. K.
Park
, J.
Oh
, C.-S.
Hwang
, J.-I.
Lee
, Y. S.
Yang
, and H. Y.
Chu
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, H21
(2005
).178.
K. K.
Yadavalli
, A. O.
Orlov
, G. L.
Snider
, and J.
Elam
, Microelectron. J.
36
, 272
(2005
).179.
G.
Xiong
, J. W.
Elam
, H.
Feng
, C. Y.
Han
, H. H.
Wang
, L. E.
Iton
, L. A.
Curtiss
, M. J.
Pellin
, M.
Kung
, H.
Kung
, and P. C.
Stair
, J. Phys. Chem. B
109
, 14059
(2005
).180.
C.
Wilson
, R.
Grubbs
, and S.
George
, Chem. Mater.
17
, 5625
(2005
).181.
L. S.
Wielunski
, Y.
Chabal
, M.
Paunescu
, M. T.
Ho
, R.
Brewer
, and J. E.
Reyes
, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B
241
, 377
(2005
).182.
K. Y.
Gao
, Th.
Seyller
, K.
Emtsev
, L.
Ley
, F.
Ciobanu
, and G.
Pensl
, Silicon Carbide And Related Materials 2004
483
, 559
(2005
).183.
A. V.
Whitney
, J. W.
Elam
, S. L.
Zou
, A. V.
Zinovev
, P. C.
Stair
, G. C.
Schatz
, and R. P.
Van Duyne
, J. Phys. Chem. B
109
, 20522
(2005
).184.
M. K.
Tripp
, F.
Fabreguette
, C. F.
Herrmann
, S. M.
George
, and V. M.
Bright
, Proc. SPIE
5720
, 241
(2005
).185.
A.
Stesmans
and V. V.
Afanas’ev
, J. Appl. Phys.
97
, 033510
(2005
).186.
T.
Seidel
, G. Y.
Kim
, A.
Srivastava
, and Z.
Karim
, Solid State Technol.
48
, 45
(2005
).187.
Z. A.
Sechrist
, F. H.
Fabreguette
, O.
Heintz
, T. M.
Phung
, D. C.
Johnson
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
17
, 3475
(2005
).188.
M.
Park
, J.
Koo
, J.
Kim
, H.
Jeon
, C.
Bae
, and C.
Krug
, Appl. Phys. Lett.
86
, 252110
(2005
).189.
J.
Koo
, J.
Lee
, S.
Kim
, Y.
Do Kim
, H.
Jeon
, D. S.
Kim
, and Y.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
47
, 501
(2005
).190.
J.
Koo
and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
46
, 945
(2005
).191.
N.
Kawakami
, Y.
Yokota
, T.
Tachibana
, K.
Hayashi
, and K.
Kobashi
, Diamond Relat. Mater.
14
, 2015
(2005
).192.
M. L.
Huang
, Y. C.
Chang
, C. H.
Chang
, Y. J.
Lee
, P.
Chang
, J.
Kwo
, T. B.
Wu
, and M.
Hong
, Appl. Phys. Lett.
87
, 252104
(2005
).193.
C. F.
Herrmann
, F. H.
Fabreguette
, D. S.
Finch
, R.
Geiss
, and S. M.
George
, Appl. Phys. Lett.
87
, 123110
(2005
).194.
L. F.
Hakim
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, Nanotechnology
16
, S375
(2005
).195.
L. F.
Hakim
, J.
Blackson
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, Chem. Vap. Deposition
11
, 420
(2005
).196.
N. J.
Seong
, S. G.
Yoon
, S. J.
Yeom
, H. K.
Woo
, D. S.
Kil
, J. S.
Roh
, and H. C.
Sohn
, Integr. Ferroelectr.
74
, 131
(2005
).197.
D. B.
Farmer
and R. G.
Gordon
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G89
(2005
).198.
J. W.
Elam
and M. J.
Pellin
, Anal. Chem.
77
, 3531
(2005
).199.
M.
Cho
, H. B.
Park
, J.
Park
, S. W.
Lee
, C. S.
Hwang
, J.
Jeong
, H. S.
Kang
, and Y. W.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
152
, F49
(2005
).200.
A. A.
Yasseri
, N. P.
Kobayashi
, and T. I.
Kamins
, Appl. Phys. A
84
, 1
(2006
).201.
W. S.
Yang
and S. W.
Kang
, Thin Solid Films
500
, 231
(2006
).202.
M.
Xu
, C.
Zhang
, S. J.
Ding
, H. L.
Lu
, W.
Chen
, Q. Q.
Sun
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, J. Appl. Phys.
100
, 106101
(2006
).203.
M.
Xu
, C. H.
Xu
, S. J.
Ding
, H. L.
Lu
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, J. Appl. Phys.
99
, 074109
(2006
).204.
C. R.
Stoldt
and V. M.
Bright
, J. Phys. D: Appl. Phys.
39
, R163
(2006
).205.
Z. A.
Sechrist
, B. T.
Schwartz
, J. H.
Lee
, J. A.
McCormick
, R.
Piestun
, W.
Park
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
18
, 3562
(2006
).206.
B.
Moghtaderi
, I.
Shames
, and E.
Doroodchi
, Chem. Eng. Technol.
29
, 97
(2006
).207.
D. R. G.
Mitchell
, G.
Triani
, D. J.
Attard
, K. S.
Finnie
, P. J.
Evans
, C. J.
Barbé
, and J. R.
Bartlett
, Smart Mater. Struct.
15
, S57
(2006
).208.
Y. S.
Min
, I. P.
Asanov
, and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G231
(2006
).209.
H. L.
Lu
, L.
Sun
, S. J.
Ding
, M.
Xu
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
89
, 152910
(2006
).210.
H.-L.
Lu
, Y.-B.
Li
, M.
Xu
, S.-J.
Ding
, L.
Sun
, W.
Zhang
, and L.-K.
Wang
, Chin. Phys. Lett.
23
, 1929
(2006
).211.
K. Y.
Lee
, W. C.
Lee
, Y. J.
Lee
, M. L.
Huang
, C. H.
Chang
, T. B.
Wu
, M.
Hong
, and J.
Kwo
, Appl. Phys. Lett.
89
, 222906
(2006
).212.
M.
Knez
, A.
Kadri
, C.
Wege
, U.
Gösele
, H.
Jeske
, and K.
Nielsch
, Nano Lett.
6
, 1172
(2006
).213.
H. J.
Kim
, M. W.
Kim
, H. S.
Kim
, H. S.
Kim
, S. H.
Kim
, S. W.
Lee
, B. H.
Choi
, B. K.
Jeong
, and H. H.
Lee
, Mol. Cryst. Liq. Cryst.
459
, 239
(2006
).214.
L. F.
Hakim
, J. A.
McCormick
, G. D.
Zhan
, A. W.
Weimer
, P.
Li
, and S. M.
George
, J. Am. Ceram. Soc.
89
, 3070
(2006
).215.
M. D.
Groner
, S. M.
George
, R. S.
McLean
, and P. F.
Carcia
, Appl. Phys. Lett.
88
, 051907
(2006
).216.
S. D.
Elliott
, G.
Scarel
, C.
Wiemer
, M.
Fanciulli
, and G.
Pavia
, Chem. Mater.
18
, 3764
(2006
).217.
H. W.
Song
, W. S.
Han
, J.
Kim
, J. H.
Kim
, and S. H.
KoPark
, Electron. Lett.
42
, 808
(2006
).218.
E.
Graugnard
, J. S.
King
, D. P.
Gaillot
, and C. J.
Summers
, Adv. Funct. Mater.
16
, 1187
(2006
).219.
H. J.
Fan
, M.
Knez
, R.
Scholz
, K.
Nielsch
, E.
Pippel
, D.
Hesse
, U.
Gösele
, and M.
Zacharias
, Nanotechnology
17
, 5157
(2006
).220.
F. H.
Fabreguette
, R. A.
Wind
, and S. M.
George
, Appl. Phys. Lett.
88
, 013116
(2006
).221.
I.
Kim
, J.
Koo
, J.
Lee
, and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 919
(2006
).222.
X. H.
Zhang
, B.
Domercq
, X. D.
Wang
, S.
Yoo
, T.
Kondo
, Z. L.
Wang
, and B.
Kippelen
, Org. Electron.
8
, 718
(2007
).223.
L.
Zhang
, H. C.
Jiang
, C.
Liu
, J. W.
Dong
, and P.
Chow
, J. Phys. D: Appl. Phys.
40
, 3707
(2007
).224.
C. C.
Wang
, C. C.
Kei
, Y. W.
Yu
, and T. P.
Perng
, Nano Lett.
7
, 1566
(2007
).225.
C. M.
Tanner
, M.
Sawkar-Mathur
, J.
Lu
, H. O.
Blom
, M. F.
Toney
, and J. P.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
90
, 061916
(2007
).226.
C. M.
Tanner
, Y. C.
Perng
, C.
Frewin
, S. E.
Saddow
, and J. P.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
91
, 203510
(2007
).227.
R. H. A.
Ras
, M.
Kemell
, J.
de Wit
, M.
Ritala
, G.
ten Brinke
, M.
Leskelä
, and O.
Ikkala
, Adv. Mater.
19
, 102
(2007
).228.
R. L.
Puurunen
, J.
Saarilahti
, and H.
Kattelus
, ECS Trans.
11
, 3
(2007
).229.
Q.
Peng
, X. Y.
Sun
, J. C.
Spagnola
, G. K.
Hyde
, R. J.
Spontak
, and G. N.
Parsons
, Nano Lett.
7
, 719
(2007
).230.
J. A.
McCormick
, K. P.
Rice
, D. F.
Paul
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Chem. Vap. Deposition
13
, 491
(2007
).231.
J. A.
McCormick
, B. L.
Cloutier
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
25
, 67
(2007
).232.
X. H.
Liang
, L. F.
Hakim
, G. D.
Zhan
, J. A.
McCormick
, S. M.
George
, A. W.
Weimer
, J. A.
Spencer
, K. J.
Buechler
, J.
Blackson
, C. J.
Wood
, and J. R.
Dorgan
, J. Am. Ceram. Soc.
90
, 57
(2007
).233.
X. H.
Liang
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, Chem. Mater.
19
, 5388
(2007
).234.
D.
Lee
, T.
Seidel
, J.
Dalton
, and T. J. K.
Liu
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, H257
(2007
).235.
N. P.
Kobayashi
, C. L.
Donley
, S. Y.
Wang
, and R. S.
Williams
, J. Cryst. Growth
299
, 218
(2007
).236.
C. H.
Ko
and W. J.
Lee
, J. Solid State Electrochem.
11
, 1391
(2007
).237.
S. Y.
Kim
, H.
Kwon
, S. J.
Jo
, J. S.
Ha
, W. T.
Park
, D. K.
Kang
, and B. H.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
90
, 103104
(2007
).238.
I.
Jõgi
, K.
Kukli
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
102
, 114114
(2007
).239.
G. K.
Hyde
, K. J.
Park
, S. M.
Stewart
, J. P.
Hinestroza
, and G. N.
Parsons
, Langmuir
23
, 9844
(2007
).240.
C. F.
Herrmann
, F. W.
DelRio
, D. C.
Miller
, S. M.
George
, V. M.
Bright
, J. L.
Ebel
, R. E.
Strawser
, R.
Cortez
, and K. D.
Leedy
, Sens. Actuators, A
135
, 262
(2007
).241.
H. L.
Lu
, M.
Xu
, S. J.
Ding
, W.
Chen
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, J. Mater. Res.
22
, 1214
(2007
).242.
J. L.
van Hemmen
, S. B. S.
Heil
, J. H.
Klootwijk
, F.
Roozeboom
, C. J.
Hodson
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
154
, G165
(2007
).243.
L. F.
Hakim
, C. L.
Vaughn
, H. J.
Dunsheath
, C. S.
Carney
, X.
Liang
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, Nanotechnology
18
, 345603
(2007
).244.
L. F.
Hakim
, J. H.
Blackson
, and A. W.
Weimer
, Chem. Eng. Sci.
62
, 6199
(2007
).245.
O.
Hahtela
, P.
Sievilä
, N.
Chekurov
, and I.
Tittonen
, J. Micromech. Microeng.
17
, 737
(2007
).246.
K. Y.
Gao
, F.
Speck
, K.
Emtsev
, T.
Seyller
, and L.
Ley
, J. Appl. Phys.
102
, 094503
(2007
).247.
M. M.
Frank
, Y.
Wang
, M. T.
Ho
, R. T.
Brewer
, N.
Moumen
, and Y. J.
Chabal
, J. Electrochem. Soc.
154
, G44
(2007
).248.
S.
Ferrari
, F.
Perissinotti
, E.
Peron
, L.
Fumagalli
, D.
Natali
, and M.
Sampietro
, Org. Electron.
8
, 407
(2007
).249.
F. H.
Fabreguette
and S. M.
George
, Thin Solid Films
515
, 7177
(2007
).250.
Y. K.
Chiou
, C. H.
Chang
, C. C.
Wang
, K. Y.
Lee
, T. B.
Wu
, R.
Kwo
, and M. H.
Hong
, J. Electrochem. Soc.
154
, G99
(2007
).251.
M. J.
Chen
, Y. T.
Shih
, M. K.
Wu
, and F. Y.
Tsai
, J. Appl. Phys.
101
, 033130
(2007
).252.
N.
Chekurov
, M.
Koskenvuori
, V. M.
Airaksinen
, and I.
Tittonen
, J. Micromech. Microeng.
17
, 1731
(2007
).253.
C. H.
Chang
, Y. K.
Chiou
, C. W.
Hsu
, and T. B.
Wu
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, G5
(2007
).254.
K.
Tapily
, J. E.
Jakes
, D. S.
Stone
, P.
Shrestha
, D.
Gu
, H.
Baumgart
, and A. A.
Elmustafa
, J. Electrochem. Soc.
155
, H545
(2008
).255.
S.
Maikap
, P. J.
Tzeng
, T. Y.
Wang
, C. H.
Lin
, L. S.
Lee
, J. R.
Yang
, and M. J.
Tsai
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, K50
(2008
).256.
C. H.
Hou
, M. C.
Chen
, C. H.
Chang
, T. B.
Wu
, C. D.
Chiang
, and J. J.
Luo
, J. Electrochem. Soc.
155
, G180
(2008
).257.
Y.
Yang
, D. S.
Kim
, R.
Scholz
, M.
Knez
, S. M.
Lee
, U.
Gösele
, and M.
Zacharias
, Chem. Mater.
20
, 3487
(2008
).258.
Y.
Yang
, D.
Kim
, M.
Knez
, R.
Scholz
, A.
Berger
, E.
Pippel
, D.
Hesse
, U.
Gösele
, and M.
Zacharias
, J. Phys. Chem. C
112
, 4068
(2008
).259.
Y.
Xuan
, Y. Q.
Wu
, T.
Shen
, M.
Qi
, M. A.
Capano
, J. A.
Cooper
, and P. D.
Ye
, Appl. Phys. Lett.
92
, 013101
(2008
).260.
J.
Sung
, K. M.
Kosuda
, J.
Zhao
, J. W.
Elam
, K. G.
Spears
, and R. P.
Van Duyne
, J. Phys. Chem. C
112
, 5707
(2008
).261.
B.
Shin
, D.
Choi
, J. S.
Harris
, and P. C.
Mclntyre
, Appl. Phys. Lett.
93
, 052911
(2008
).262.
Y.
Qin
, S. M.
Lee
, A.
Pan
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Nano Lett.
8
, 114
(2008
).263.
M. J.
Preiner
and N. A.
Melosh
, Appl. Phys. Lett.
92
, 213301
(2008
).264.
J.
Meyer
, P.
Görrn
, S.
Hamwi
, H. H.
Johannes
, T.
Riedl
, and W.
Kowalsky
, Appl. Phys. Lett.
93
, 073308
(2008
).265.
Y.
Luo
, Y.
Du
, and V.
Misra
, Nanotechnology
19
, 265301
(2008
).266.
X.
Liang
, G.-D.
Zhan
, D. M.
King
, J. A.
McCormick
, J.
Zhang
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, Diamond Relat. Mater.
17
, 185
(2008
).267.
B. K.
Lee
, S. Y.
Park
, H. C.
Kim
, K.
Cho
, E. M.
Vogel
, M. J.
Kim
, R. M.
Wallace
, and J. Y.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
92
, 203102
(2008
).268.
J. Y.
Huang
, S.
Liu
, Y.
Wang
, and Z. Z.
Ye
, Appl. Surf. Sci.
254
, 5917
(2008
).269.
J.
Huang
, X.
Wang
, and Z. L.
Wang
, Nanotechnology
19
, 025602
(2008
).270.
K.
Grigoras
, S.
Franssila
, and V. M.
Airaksinen
, Thin Solid Films
516
, 5551
(2008
).271.
Y.
Ding
, S.
Xu
, Y.
Zhang
, A. C.
Wang
, M. H.
Wang
, Y. H.
Xiu
, C. P.
Wong
, and Z. L.
Wang
, Nanotechnology
19
, 355708
(2008
).272.
R.
Cooper
, H. P.
Upadhyaya
, T. K.
Minton
, M. R.
Berman
, X.
Du
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
516
, 4036
(2008
).273.
C. D.
Bae
, S. Y.
Kim
, B. Y.
Ahn
, J. Y.
Kim
, M. M.
Sung
, and H. J.
Shin
, J. Mater. Chem.
18
, 1362
(2008
).274.
M.
Sawkar-Mathur
, Y.-C.
Perng
, J.
Lu
, H.-O.
Blom
, J.
Bargar
, and J. P.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
93
, 233501
(2008
).275.
M.
Milojevic
, C. L.
Hinkle
, F. S.
Aguirre-Tostado
, H. C.
Kim
, E. M.
Vogel
, J.
Kim
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
93
, 252905
(2008
).276.
M.
Kemell
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, R.
Groenen
, and S.
Lindfors
, Chem. Vap. Deposition
14
, 347
(2008
).277.
M. C.
Kautzky
, A. V.
Demtchouk
, Y.
Chen
, K. M.
Brown
, S. E.
McKinlay
, and J.
Xue
, IEEE Trans. Magn.
44
, 3576
(2008
).278.
J.-S.
Na
, J. A.
Ayres
, K. L.
Chandra
, C. B.
Gorman
, and G. N.
Parsons
, J. Phys. Chem. C
112
, 20510
(2008
).279.
Y.
Yang
, R.
Scholz
, A.
Berger
, D. S.
Kim
, M.
Knez
, D.
Hesse
, U.
Gösele
, and M.
Zacharias
, Small
4
, 2112
(2008
).280.
B. H.
Lee
, K. H.
Lee
, S.
Im
, and M. M.
Sung
, Org. Electron.
9
, 1146
(2008
).281.
N. P.
Kobayashi
and R. S.
Williams
, Chem. Mater.
20
, 5356
(2008
).282.
D. S.
Kim
, S. M.
Lee
, R.
Scholz
, M.
Knez
, U.
Gösele
, J.
Fallert
, H.
Kalt
, and M.
Zacharias
, Appl. Phys. Lett.
93
, 103108
(2008
).283.
E.
Ghiraldelli
, C.
Pelosi
, E.
Gombia
, G.
Chiavarotti
, and L.
Vanzetti
, Thin Solid Films
517
, 434
(2008
).284.
X.
Liang
, D. M.
King
, M. D.
Groner
, J. H.
Blackson
, J. D.
Harris
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, J. Membr. Sci.
322
, 105
(2008
).285.
Y.
Qin
, L.
Liu
, R.
Yang
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Nano Lett.
8
, 3221
(2008
).286.
C.-Y.
Chang
, F.-Y.
Tsai
, S.-J.
Jhuo
, and M.-J.
Chen
, Org. Electron.
9
, 667
(2008
).287.
D. S.
Finch
, T.
Oreskovic
, K.
Ramadurai
, C. F.
Herrmann
, S. M.
George
, and R. L.
Mahajan
, J. Biomed. Mater. Res. Part A
87(A)
, 100
(2008
).288.
C.-C.
Cheng
, C.-H.
Chien
, G.-L.
Luo
, J.-C.
Liu
, C.-C.
Kei
, D.-R.
Liu
, C.-N.
Hsiao
, C.-H.
Yang
, and C.-Y.
Changa
, J. Electrochem. Soc.
155
, G203
(2008
).289.
E.
Ghiraldelli
, C.
Pelosi
, E.
Gombia
, C.
Frigeri
, L.
Vanzetti
, and S.
Abdullayeva
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
47
, 8174
(2008
).290.
Z. H.
Liu
, G. I.
Ng
, S.
Arulkumaran
, Y. K. T.
Maung
, K. L.
Teo
, S. C.
Foo
, and V.
Sahmuganathan
, Appl. Phys. Lett.
95
, 223501
(2009
).291.
J.-S.
Na
, Q.
Peng
, G.
Scarel
, and G. N.
Parsons
, Chem. Mater.
21
, 5585
(2009
).292.
D. H.
Levy
, S. F.
Nelson
, and D.
Freeman
, J. Disp. Technol.
5
, 484
(2009
).293.
A.
Brzezinski
, Y.-C.
Chen
, P.
Wiltzius
, and P. V.
Braun
, J. Mater. Chem.
19
, 9126
(2009
).294.
E. J.
Kim
, E.
Chagarov
, J.
Cagnon
, Y.
Yuan
, A. C.
Kummel
, P. M.
Asbeck
, S.
Stemmer
, K. C.
Saraswat
, and P. C.
McIntyre
, J. Appl. Phys.
106
, 124508
(2009
).295.
C.
Henkel
, S.
Abermann
, O.
Bethge
, and E.
Bertagnolli
, Semicond. Sci. Technol.
24
, 125013
(2009
).296.
Y.
Zhao
, M.
Wei
, J.
Lu
, Z. L.
Wang
, and X.
Duan
, ACS Nano
3
, 4009
(2009
).297.
J.-S.
Na
, B.
Gong
, G.
Scarel
, and G. N.
Parsons
, ACS Nano
3
, 3191
(2009
).298.
W. E.
Fenwick
, N.
Li
, T.
Xu
, A.
Melton
, S.
Wang
, H.
Yu
, C.
Summers
, M.
Jamil
, and I. T.
Ferguson
, J. Cryst. Growth
311
, 4306
(2009
).299.
Y.-J.
Chang
, J. M.
Gray
, A.
Imtiaz
, D.
Seghete
, T. M.
Wallis
, S. M.
George
, P.
Kabos
, C. T.
Rogers
, and V. M.
Bright
, Sens. Actuators, A
154
, 229
(2009
).300.
E.
Sun
, F.-H.
Su
, Y.-T.
Shih
, H.-L.
Tsai
, C.-H.
Chen
, M.-K.
Wu
, J.-R.
Yang
, and M.-J.
Chen
, Nanotechnology
20
, 445202
(2009
).301.
X.
Liang
, A. D.
Lynn
, D. M.
King
, S. J.
Bryant
, and A. W.
Weimer
, ACS Appl. Mater. Interfaces
1
, 1988
(2009
).302.
R.
Beetstra
, U.
Lafont
, J.
Nijenhuis
, E. M.
Kelder
, and J. R.
van Ommen
, Chem. Vap. Deposition
15
, 227
(2009
).303.
P.
Kumar
, M. K.
Wiedmann
, C. H.
Winter
, and I.
Avrutsky
, Appl. Opt.
48
, 5407
(2009
).304.
L.
Qian
, W.
Shen
, B.
Das
, B.
Shen
, and G. W.
Qin
, Chem. Phys. Lett.
479
, 259
(2009
).305.
D.-K.
Hwang
, H.
Noh
, H.
Cao
, and R. P. H.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
95
, 091101
(2009
).306.
Y.
Wang
, Y.
Qin
, A.
Berger
, E.
Yau
, C.
He
, L.
Zhang
, U.
Gösele
, M.
Knez
, and M.
Steinhart
, Adv. Mater.
21
, 2763
(2009
).307.
P. F.
Carcia
, R. S.
McLean
, M. D.
Groner
, A. A.
Dameron
, and S. M.
George
, J. Appl. Phys.
106
, 023533
(2009
).308.
E.
Graugnard
, O. M.
Roche
, S. N.
Dunham
, J. S.
King
, D. N.
Sharp
, R. G.
Denning
, A. J.
Turberfield
, and C. J.
Summers
, Appl. Phys. Lett.
94
, 263109
(2009
).309.
R. W.
Wind
, F. H.
Fabreguette
, Z. A.
Sechrist
, and S. M.
George
, J. Appl. Phys.
105
, 074309
(2009
).310.
M.
Caymax
, G.
Brammertz
, A.
Delabie
, S.
Sioncke
, D.
Lin
, M.
Scarrozza
, G.
Pourtois
, W.-E.
Wang
, M.
Meuris
, and M.
Heyns
, Microelectron. Eng.
86
, 1529
(2009
).311.
O.
Bethge
, S.
Abermann
, C.
Henkel
, and E.
Bertagnolli
, Thin Solid Films
517
, 5543
(2009
).312.
N. T.
Gabriel
, S. S.
Kim
, and J. J.
Talghader
, Opt. Lett.
34
, 1958
(2009
).313.
W.-K.
Lee
, B.-Y.
Oh
, J.-H.
Lim
, H.-g.
Park
, B.-Y.
Kim
, H.-J.
Na
, and D.-S.
Seo
, Appl. Phys. Lett.
94
, 223507
(2009
).314.
A. S.
Cavanagh
, C. A.
Wilson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Nanotechnology
20
, 255602
(2009
).315.
J.
Meyer
, P.
Goerrn
, F.
Bertram
, S.
Hamwi
, T.
Winkler
, H.-H.
Johannes
, T.
Weimann
, P.
Hinze
, T.
Riedl
, and W.
Kowalsky
, Adv. Mater.
21
, 1845
(2009
).316.
N.
Kim
, W. J.
Potscavage
, Jr., B.
Domercq
, B.
Kippelen
, and S.
Graham
, Appl. Phys. Lett.
94
, 163308
(2009
).317.
C.
Lin
, F.-Y.
Tsai
, M.-H.
Lee
, C.-H.
Lee
, T.-C.
Tien
, L.-P.
Wang
, and S.-Y.
Tsai
, J. Mater. Chem.
19
, 2999
(2009
).318.
S.-M.
Lee
, G.
Grass
, G.-M.
Kim
, C.
Dresbach
, L.
Zhang
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Phys. Chem. Chem. Phys.
11
, 3608
(2009
).319.
P.
Banerjee
, I.
Perez
, L.
Henn-Lecordier
, S. B.
Lee
, and G. W.
Rubloff
, Nat. Nanotechnol.
4
, 292
(2009
).320.
O.
Bethge
, S.
Abermann
, C.
Henkel
, C. J.
Straif
, H.
Hutter
, and E.
Bertagnolli
, J. Electrochem. Soc.
156
, G168
(2009
).321.
N.
Avci
, J.
Musschoot
, P. F.
Smet
, K.
Korthout
, A.
Avci
, C.
Detavernier
, and D.
Poelman
, J. Electrochem. Soc.
156
, J333
(2009
).322.
J. B.
Kim
, C.
Fuentes-Hernandez
, W. J.
Potscavage
, Jr., X. H.
Zhang
, and B.
Kippelen
, Appl. Phys. Lett.
94
, 142107
(2009
).323.
Q.
Peng
, X.-Y.
Sun
, J. C.
Spagnola
, C.
Saquing
, S. A.
Khan
, R. J.
Spontak
, and G. N.
Parsons
, ACS Nano
3
, 546
(2009
).324.
W. C.
Sun
, W. L.
Chang
, C. H.
Chen
, C. H.
Du
, T. Y.
Wang
, T.
Wang
, and C. W.
Lan
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, H388
(2009
).325.
A.
Szeghalmi
, M.
Helgert
, R.
Brunner
, F.
Heyroth
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Appl. Opt.
48
, 1727
(2009
).326.
O. M.
Hahtela
, A. F.
Satrapinski
, P. H.
Sievilä
, and N.
Chekurov
, IEEE Trans. Instrum. Meas.
58
, 1183
(2009
).327.
M. J.
Preiner
and N. A.
Melosh
, Langmuir
25
, 2585
(2009
).328.
S. D.
Standridge
, G. C.
Schatz
, and J. T.
Hupp
, Langmuir
25
, 2596
(2009
).329.
F. L.
Lie
, W.
Rachmady
, and A. J.
Muscat
, Microelectron. Eng.
86
, 122
(2009
).330.
S.
Kim
, J.
Nah
, I.
Jo
, D.
Shahrjerdi
, L.
Colombo
, Z.
Yao
, E.
Tutuc
, and S. K.
Banerjee
, Appl. Phys. Lett.
94
, 062107
(2009
).331.
M.
Li
, M.
Dai
, and Y. J.
Chabal
, Langmuir
25
, 1911
(2009
).332.
J.-M.
Moon
, D.
Akin
, Y.
Xuan
, P. D.
Ye
, P.
Guo
, and R.
Bashir
, Biomed. Microdevices
11
, 135
(2009
).333.
C.-I.
Hsieh
, T.-M.
Pan
, J.-C.
Lin
, Y.-B.
Peng
, T.-Y.
Huang
, C.-R.
Wu
, and S.
Shih
, Appl. Surf. Sci.
255
, 3769
(2009
).334.
D. M.
King
, Y.
Zhou
, L. F.
Hakim
, X.
Liang
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, Ind. Eng. Chem. Res.
48
, 352
(2009
).335.
L.
Lamagna
, G.
Scarel
, M.
Fanciulli
, and G.
Pavia
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 443
(2009
).336.
S.
Sioncke
, A.
Delabie
, G.
Brammertz
, T.
Conard
, A.
Franquet
, M.
Caymax
, A.
Urbanzcyk
, M.
Heyns
, M.
Meuris
, J. L.
van Hemmen
, W.
Keuning
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
156
, H255
(2009
).337.
J.
Dendooven
, D.
Deduytsche
, J.
Musschoot
, R. L.
Vanmeirhaeghe
, and C.
Detavernier
, J. Electrochem. Soc.
156
, P63
(2009
).338.
J.
Feng
, Y.
Chen
, J.
Blair
, H.
Kurt
, R.
Hao
, D. S.
Citrin
, C. J.
Summers
, and Z.
Zhou
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 568
(2009
).339.
C.-C.
Wang
, C.-C.
Kei
, Y.
Tao
, and T.-P.
Perng
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, K49
(2009
).340.
V.
Ganapathy
, B.
Karunagaran
, and S.-W.
Rhee
, J. Power Sources
195
, 5138
(2010
).341.
C.
Adelmann
, D.
Pierreux
, J.
Swerts
, D.
Dewulf
, A.
Hardy
, H.
Tielens
, A.
Franquet
, B.
Brijs
, A.
Moussa
, T.
Conard
, M. K.
VanBael
, J. W.
Maes
, M.
Jurczak
, J. A.
Kittl
, and S.
VanElshocht
, Chem. Vap. Deposition
16
, 170
(2010
).342.
T.
Hirvikorpi
, M.
Vähä-Nissi
, A.
Harlin
, and M.
Karppinen
, Thin Solid Films
518
, 5463
(2010
).343.
L.
Qian
, W.
Shen
, B.
Shen
, G. W.
Qin
, and B.
Das
, Nanotechnology
21
, 305705
(2010
).344.
M. M.
Aslan
, N. A.
Webster
, C. L.
Byard
, M. B.
Pereira
, C. M.
Hayes
, R. S.
Wiederkehr
, and S. B.
Mendes
, Thin Solid Films
518
, 4935
(2010
).345.
R. A.
Wind
and S. M.
George
, J. Phys. Chem. A
114
, 1281
(2010
).346.
J.-S.
Na
, G.
Scarel
, and G. N.
Parsons
, J. Phys. Chem. C
114
, 383
(2010
).347.
J.-h.
Chang
, D. Y.
Choi
, S.
Han
, and J. J.
Pak
, Microfluid. Nanofluid.
8
, 269
(2010
).348.
G. K.
Hyde
, G.
Scarel
, J. C.
Spagnola
, Q.
Peng
, K.
Lee
, B.
Gong
, K. G.
Roberts
, K. M.
Roth
, C. A.
Hanson
, C. K.
Devine
, S. M.
Stewart
, D.
Hojo
, J.-S.
Na
, J. S.
Jur
, and G. N.
Parsons
, Langmuir
26
, 2550
(2010
).349.
J. F.
John
, S.
Mahurin
, S.
Dai
, and M. J.
Sepaniak
, J. Raman Spectrosc.
41
, 4
(2010
).350.
D.
Gu
, H.
Baumgart
, T. M.
Abdel-Fattah
, and G.
Namkoong
, ACS Nano
4
, 753
(2010
).351.
D. J.
Comstock
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and M. C.
Hersam
, Anal. Chem.
82
, 1270
(2010
).352.
Y. S.
Jung
, A. S.
Cavanagh
, A. C.
Dillon
, M. D.
Groner
, S. M.
George
, and S.-H.
Lee
, J. Electrochem. Soc.
157
, A75
(2010
).353.
X.
Liang
, X.
Lu
, M.
Yu
, A. S.
Cavanagh
, D. L.
Gin
, and A. W.
Weimer
, J. Membr. Sci.
349
, 1
(2010
).354.
G.
Dingemans
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, H76
(2010
).355.
I.
Seo
, D.-J.
Lee
, Q.
Hu
, C.-W.
Kwon
, K.
Lim
, S.-H.
Lee
, H.-M.
Kim
, Y.-S.
Kim
, H. H.
Lee
, D. Y.
Ryu
, K.-B.
Kim
, and T.-S.
Yoon
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, K19
(2010
).356.
S.
Swaminathan
, M.
Shandalov
, Y.
Oshima
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
96
, 082904
(2010
).357.
G.
Dingemans
, R.
Seguin
, P.
Engelhart
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Phys. Status Solidi (RRL)
4
, 10
(2010
).358.
N. T.
Gabriel
and J. J.
Talghader
, Appl. Opt.
49
, 1242
(2010
).359.
H. H.
Park
, P. S.
Kang
, G. T.
Kim
, and J. S.
Ha
, Appl. Phys. Lett.
96
, 102908
(2010
).360.
T. C.
Li
, A. M.
Spokoyny
, C.
She
, O. K.
Farha
, C. A.
Mirkin
, T. J.
Marks
, and J. T.
Hupp
, J. Am. Chem. Soc.
132
, 4580
(2010
).361.
G.
Scarel
, J.-S.
Na
, and G. N.
Parsons
, J. Phys.: Condens. Matter
22
, 155401
(2010
).362.
Y.
Qin
, Y.
Kim
, L.
Zhang
, S.-M.
Lee
, R. B.
Yang
, A.
Pan
, K.
Mathwig
, M.
Alexe
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Small
6
, 910
(2010
).363.
L. J.
Antila
, M. J.
Heikkilä
, V.
Aumanen
, M.
Kemell
, P.
Myllyperkiö
, M.
Leskelä
, and J. E. I.
Korppi-Tommola
, J. Phys. Chem. Lett.
1
, 536
(2010
).364.
E.
Sun
, F.-H.
Su
, C.-H.
Chen
, and M.-J.
Chen
, Appl. Surf. Sci.
256
, 5021
(2010
).365.
W.
Li
, O.
Auciello
, R. N.
Premnath
, and B.
Kabius
, Appl. Phys. Lett.
96
, 162907
(2010
).366.
B.
Shin
, J. R.
Weber
, R. D.
Long
, P. K.
Hurley
, C. G.
Vande Walle
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
96
, 152908
(2010
).367.
J.-T.
Lee
, F.-M.
Wang
, C.-S.
Cheng
, C.-C.
Li
, and C.-H.
Lin
, Electrochim. Acta
55
, 4002
(2010
).368.
H.
Feng
, J. W.
Elam
, J. A.
Libera
, W.
Setthapun
, and P. C.
Stair
, Chem. Mater.
22
, 3133
(2010
).369.
J. C.
Spagnola
, B.
Gong
, S. A.
Arvidson
, J. S.
Jur
, S. A.
Khan
, and G. N.
Parsons
, J. Mater. Chem.
20
, 4213
(2010
).370.
T.-C.
Tien
, F.-M.
Pan
, L.-P.
Wang
, F.-Y.
Tsai
, and C.
Lin
, J. Phys. Chem. C
114
, 10048
(2010
).371.
F.
Mumm
, M.
Kemell
, M.
Leskelä
, and P.
Sikorski
, Bioinsp. Biomim.
5
, 026005
(2010
).372.
J.
Dendooven
, D.
Deduytsche
, J.
Musschoot
, R. L.
Vanmeirhaeghe
, and C.
Detavernier
, J. Electrochem. Soc.
157
, G111
(2010
).373.
J. S.
Jur
, J. C.
Spagnola
, K.
Lee
, B.
Gong
, Q.
Peng
, and G. N.
Parsons
, Langmuir
26
, 8239
(2010
).374.
J.
Malm
, E.
Sahramo
, M.
Karppinen
, and R. H. A.
Ras
, Chem. Mater.
22
, 3349
(2010
).375.
S. E.
Potts
, W.
Keuning
, E.
Langereis
, G.
Dingemans
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
157
, P66
(2010
).376.
M.
Puttaswamy
, K. B.
Haugshøj
, L. H.
Christensen
, and P.
Kingshott
, Chem.–Eur. J.
16
, 13925
(2010
).377.
K.
Gerasopoulos
, M.
McCarthy
, P.
Banerjee
, X.
Fan
, J. N.
Culver
, and R.
Ghodssi
, Nanotechnology
21
, 055304
(2010
).378.
D. J.
Guo
, A. I.
Abdulagatov
, D. M.
Rourke
, K. A.
Bertness
, S. M.
George
, Y. C.
Lee
, and W.
Tan
, Langmuir
26
, 18382
(2010
).379.
Q.
Peng
, Y.-C.
Tseng
, S. B.
Darling
, and J. W.
Elam
, Adv. Mater.
22
, 5129
(2010
).380.
A. J.
Niskanen
, T.
Ylinen-Hinkka
, M.
Pusa
, S.
Kulmala
, and S.
Franssila
, Thin Solid Films
519
, 430
(2010
).381.
S.
Sarkar
, J. H.
Culp
, J. T.
Whyland
, M.
Garvan
, and V.
Misra
, Org. Electron.
11
, 1896
(2010
).382.
K. M.
Roth
, K. G.
Roberts
, and G. K.
Hyde
, Text. Res. J.
80
, 1970
(2010
).383.
F.
Werner
, B.
Veith
, V.
Tiba
, P.
Poodt
, F.
Roozeboom
, R.
Brendel
, and J.
Schmidt
, Appl. Phys. Lett.
97
, 162103
(2010
).384.
J. Y.
Kim
and S. M.
George
, J. Phys. Chem. C
114
, 17597
(2010
).385.
J. W.
Elam
, J. A.
Libera
, T. H.
Huynh
, H.
Feng
, and M. J.
Pellin
, J. Phys. Chem. C
114
, 17286
(2010
).386.
M.
Laamanen
, M.
Blomberg
, R.
Puurunen
, A.
Miranto
, and H.
Kattelus
, Sens. Actuators, A
162
, 210
(2010
).387.
D.
Hojo
and T.
Adschiri
, Chem. Vap. Deposition
16
, 248
(2010
).388.
G.
Gay
, T.
Baron
, C.
Agraffeil
, B.
Salhi
, T.
Chevolleau
, G.
Cunge
, H.
Grampeix
, J.-H.
Tortai
, F.
Martin
, E.
Jalaguier
, and B. D.
Salvo
, Nanotechnology
21
, 435301
(2010
).389.
T.
Hirvikorpi
, M.
Vähä-Nissi
, A.
Harlin
, J.
Marles
, V.
Miikkulainen
, and M.
Karppinen
, Appl. Surf. Sci.
257
, 736
(2010
).390.
T. K.
Minton
, B.
Wu
, J.
Zhang
, N. F.
Lindholm
, A. I.
Abdulagatov
, J.
O'Patchen
, S. M.
George
, and M. D.
Groner
, ACS Appl. Mater. Interfaces
2
, 2515
(2010
).391.
Y.
Xu
, L.
Chen
, Q.-Q.
Sun
, J.-J.
Gu
, H.-L.
Lu
, P.-F.
Wang
, S.-J.
Ding
, and D. W.
Zhang
, Solid State Commun.
150
, 1690
(2010
).392.
S.
Smith
, K.
McAuliffe
, and J. F.
Conley
, Jr., Solid-State Electron.
54
, 1076
(2010
).393.
P.
Poodt
, A.
Lankhorst
, F.
Roozeboom
, K.
Spee
, D.
Maas
, and A.
Vermeer
, Adv. Mater.
22
, 3564
(2010
).394.
J. C.
Spagnola
, B.
Gong
, and G. N.
Parsons
, J. Vac. Sci. Technol. A
28
, 1330
(2010
).395.
A.
Szeghalmi
, K.
Sklarek
, M.
Helgert
, R.
Brunner
, W.
Erfurth
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Small
6
, 2701
(2010
).396.
J.
Lu
and P. C.
Stair
, Angew. Chem., Int. Ed.
49
, 2547
(2010
).397.
S. Y.
No
, D.
Eom
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
153
, F87
(2006
).398.
H. J.
Kim
, S. Y.
No
, D.
Eom
, and C. S.
Hwang
, J. Korean Phys. Soc.
49
, 1271
(2006
).399.
J.-F.
Fan
, J.
Sugioka
, and K.
Toyoda
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L1139
(1991
).400.
J.-F.
Fan
and K.
Toyoda
, Appl. Surf. Sci.
60/61
, 765
(1992
).401.
J.-F.
Fan
and K.
Toyoda
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
32
, L1349
(1993
).402.
H.
Kumagai
, K.
Toyoda
, M.
Matsumoto
, and M.
Obara
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
32
, 6137
(1993
).403.
H.
Kumagai
, M.
Matsumoto
, and Y.
Kawamura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
33
, 7086
(1994
).404.
H.
Kumagai
and K.
Toyoda
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 481
(1994
).405.
H.
Kumagai
, K.
Toyoda
, K.
Kobayashi
, M.
Obara
, and Y.
Iimura
, Appl. Phys. Lett.
70
, 2338
(1997
).406.
A.
Szeghalmi
, E. B.
Kley
, and M.
Knez
, J. Phys. Chem. C
114
, 21150
(2010
).407.
A.
Szeghalmi
, M.
Helgert
, R.
Brunner
, F.
Heyroth
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Adv. Funct. Mater.
20
, 2053
(2010
).408.
J. B.
Kim
, D. R.
Kwon
, K.
Chakrabarti
, C.
Lee
, K. Y.
Oh
, and J. H.
Lee
, J. Appl. Phys.
92
, 6739
(2002
).409.
J.
Kim
, K.
Chakrabarti
, J.
Lee
, K.-Y.
Oh
, and C.
Lee
, Mater. Chem. Phys.
78
, 733
(2003
).410.
S. K.
Kim
and C. S.
Hwang
, J. Appl. Phys.
96
, 2323
(2004
).411.
T.-P.
Lee
, C.
Jang
, B.
Haselden
, M.
Dong
, S.
Park
, L.
Bartholomew
, H.
Chatham
, and Y.
Senzaki
, J. Vac. Sci. Technol. B
22
, 2295
(2004
).412.
S. K.
Kim
, S. W.
Lee
, C. S.
Hwang
, Y. S.
Min
, J. Y.
Won
, and J.
Jeong
, J. Electrochem. Soc.
153
, F69
(2006
).413.
Y.
Hwang
, K.
Heo
, C. H.
Chang
, M. K.
Joo
, and M.
Ree
, Thin Solid Films
510
, 159
(2006
).414.
M. Y.
Li
, Y. Y.
Chang
, H. C.
Wu
, C. S.
Huang
, J. C.
Chen
, J. L.
Lue
, and S. M.
Chang
, J. Electrochem. Soc.
154
, H967
(2007
).415.
J. H.
Kwon
, M.
Dai
, M. D.
Halls
, and Y. J.
Chabal
, Chem. Mater.
20
, 3248
(2008
).416.
G. D.
Zhan
, X. H.
Du
, D. M.
King
, L. F.
Hakim
, X. H.
Liang
, J. A.
McCormick
, and A. W.
Weimer
, J. Am. Ceram. Soc.
91
, 831
(2008
).417.
S.
Diplas
, M.
Avice
, A.
Thøgersen
, J. S.
Christensen
, U.
Grossner
, B. G.
Svensson
, O.
Nilsen
, H.
Fjellvåg
, S.
Hinderc
, and J. F.
Watts
, Surf. Interface Anal.
40
, 822
(2008
).418.
T. O.
Kääriäinen
, D. C.
Cameron
, and M.
Tanttari
, Plasma Processes Polym.
6
, 631
(2009
).419.
A. J.
Niskanen
, T.
Ylinen-Hinkka
, S.
Kulmala
, and S.
Franssila
, Thin Solid Films
517
, 5779
(2009
).420.
A.
Delabie
, A.
Alian
, F.
Bellenger
, M.
Caymax
, T.
Conard
, A.
Franquet
, S.
Sioncke
, S.
VanElshocht
, M. M.
Heyns
, and M.
Meuris
, J. Electrochem. Soc.
156
, G163
(2009
).421.
D.
Tahir
, H. L.
Kwon
, H. C.
Shin
, S. K.
Oh
, H. J.
Kang
, S.
Heo
, J. G.
Chung
, J. C.
Lee
, and S.
Tougaard
, J. Phys. D: Appl. Phys.
43
, 255301
(2010
).422.
Y.
Chung
, B.
Murmann
, S.
Selvarasah
, M. R.
Dokmeci
, and Z.
Bao
, Appl. Phys. Lett.
96
, 133306
(2010
).423.
A.
Delabie
, M.
Caymax
, S.
Gielis
, J. W.
Maes
, L.
Nyns
, M.
Popovici
, J.
Swerts
, H.
Tielens
, J.
Peeters
, and S.
VanElshocht
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, H176
(2010
).424.
J.
Kwon
, M.
Dai
, M. D.
Halls
, and Y. J.
Chabal
, Appl. Phys. Lett.
97
, 162903
(2010
).425.
A.
Pirkle
, S.
McDonnell
, B.
Lee
, J.
Kim
, L.
Colombo
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
97
, 082901
(2010
).426.
V. R.
Rai
, V.
Vandalon
, and S.
Agarwal
, Langmuir
26
, 13732
(2010
).427.
B.
Lee
, G.
Mordi
, M. J.
Kim
, Y. J.
Chabal
, E. M.
Vogel
, R. M.
Wallace
, K. J.
Cho
, L.
Colombo
, and J.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
97
, 043107
(2010
).428.
M.
Rose
, J.
Niinistö
, I.
Endler
, J. W.
Bartha
, P.
Kücher
, and M.
Ritala
, ACS Appl. Mater. Interfaces
2
, 347
(2010
).429.
S. W.
Choi
, C. M.
Jang
, D. Y.
Kim
, J. S.
Ha
, H. S.
Park
, W.
Koh
, and C. S.
Lee
, J. Korean Phys. Soc.
42
, S975
(2003
).430.
S. J.
Yun
, J. W.
Lim
, and J.-H.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, C13
(2004
).431.
J. W.
Lim
and S. J.
Yun
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, F45
(2004
).432.
A.
Niskanen
, K.
Arstila
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
152
, F90
(2005
).433.
J. W.
Lim
, S. J.
Yun
, and J. H.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, F25
(2005
).434.
E.
Langereis
, M.
Creatore
, S. B. S.
Heil
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Appl. Phys. Lett.
89
, 081915
(2006
).435.
J.
Koo
, S.
Kim
, S.
Jeon
, H.
Jeon
, Y.
Kim
, and Y.
Won
, J. Korean Phys. Soc.
48
, 131
(2006
).436.
B.
Hoex
, S. B. S.
Heil
, E.
Langereis
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Appl. Phys. Lett.
89
, 042112
(2006
).437.
S. B. S.
Heil
, P.
Kudlacek
, E.
Langereis
, R.
Engeln
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Appl. Phys. Lett.
89
, 131505
(2006
).438.
P. K.
Park
, E. S.
Cha
, and S. W.
Kang
, Appl. Phys. Lett.
90
, 232906
(2007
).439.
J. W.
Lim
, S. J.
Yun
, and H. T.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
154
, G239
(2007
).440.
S.
Kim
, S.
Woo
, H.
Hong
, H.
Kim
, H.
Jeon
, and C.
Bae
, J. Electrochem. Soc.
154
, H97
(2007
).441.
J. Y.
Kim
, J. H.
Ahn
, S. W.
Kang
, and J. H.
Kim
, J. Appl. Phys.
101
, 073502
(2007
).442.
W. J.
Jeon
, H. S.
Chung
, D.
Joo
, and S. W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, H19
(2008
).443.
S. J.
Yun
, A.
Efremov
, M.
Kim
, D. W.
Kim
, J. W.
Lim
, Y. H.
Kim
, C. H.
Chung
, D. J.
Park
, and K. H.
Kwon
, Vacuum
82
, 1198
(2008
).444.
E.
Langereis
, J.
Keijmel
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, Appl. Phys. Lett.
92
, 231904
(2008
).445.
S. B. S.
Heil
, J. L.
van Hemmen
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
103
, 103302
(2008
).446.
M. T.
Seman
, D. N.
Richards
, P.
Rowlette
, and C. A.
Wolden
, Chem. Vap. Deposition
14
, 296
(2008
).447.
B.
Hoex
, J.
Schmidt
, P.
Pohl
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
104
, 044903
(2008
).448.
J. W.
Lim
, S. J.
Yun
, and H. T.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
47
, 6934
(2008
).449.
D.
Hoogeland
, K. B.
Jinesh
, F.
Roozeboom
, W. F. A.
Besling
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
106
, 114107
(2009
).450.
T. O.
Kääriäinen
and D. C.
Cameron
, Plasma Processes Polym.
6
, S237
(2009
).451.
W.-S.
Kim
, D.-Y.
Moon
, B.-W.
Kang
, J.-W.
Park
, and J.-G.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
55
, 55
(2009
).452.
H.-S.
Yun
and K.-H.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
54
, 707
(2009
).453.
A. J. M.
Mackus
, S. B. S.
Heil
, E.
Langereis
, H. C. M.
Knoops
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
28
, 77
(2010
).454.
D. J.
Park
, J. W.
Lim
, and B. O.
Park
, Solid-State Electron.
54
, 323
(2010
).455.
H.
Kim
, S.
Woo
, J.
Lee
, H.
Lee
, and H.
Jeon
, J. Phys. D: Appl. Phys.
43
, 505301
(2010
).456.
S. K.
Lee
, S. Y.
Park
, Y. S.
Yi
, and J.
Moon
, J. Phys. Chem. C
114
, 13890
(2010
).457.
D. H.
Levy
, D.
Freeman
, S. F.
Nelson
, P. J.
Cowdery-Corvan
, and L. M.
Irving
, Appl. Phys. Lett.
92
, 92101
(2008
).458.
D. A.
Mourey
, D. A.
Zhao
, J.
Sun
, and T. N.
Jackson
, IEEE Trans. Electron Devices
57
, 530
(2010
).459.
V. E.
Drozd
and V. B.
Aleskovskii
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 591
(1994
).460.
W.-S.
Jeon
, S.
Yang
, C.-S.
Lee
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
149
, C306
(2002
).461.
C. W.
Cheng
and E. A.
Fitzgerald
, Appl. Phys. Lett.
93
, 031902
(2008
).462.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and J.
Jokinen
, J. Vac. Sci. Technol. A
15
, 2214
(1997
).463.
R.
Matero
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Langmuir
21
, 3498
(2005
).464.
K. S.
An
, W. T.
Cho
, K. H.
Sung
, S. S.
Lee
, and Y.
Kim
, Bull. Korean Chem. Soc.
24
, 1659
(2003
).465.
W.
Cho
, K.
Sung
, K. S.
An
, S. S.
Lee
, T. M.
Chung
, and Y.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. A
21
, 1366
(2003
).466.
Y.-S.
Min
, Y. J.
Cho
, and C. S.
Hwang
, Chem. Mater.
17
, 626
(2005
).467.
H.
Kim
, W. S.
Jeon
, S. H.
Jung
, and B. T.
Ahn
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G294
(2005
).468.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, and C.
Takoudis
, Appl. Phys. Lett.
89
, 262906
(2006
).469.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, and C.
Takoudis
, J. Electrochem. Soc.
153
, C701
(2006
).470.
C. R.
Wade
, C.
Silvernail
, C.
Banerjee
, A.
Soulet
, J.
Mcandrew
, and J. A.
Belot
, Mater. Lett.
61
, 5079
(2007
).471.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, A.
Nicholls
, and C.
Takoudis
, Thin Solid Films
515
, 6931
(2007
).472.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, and C.
Takoudis
, J. Mater. Res.
22
, 3455
(2007
).473.
P.
Majumder
, R.
Katamreddy
, and C.
Takoudis
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, H291
(2007
).474.
P.
Majumder
, R.
Katamreddy
, and C.
Takoudis
, J. Cryst. Growth
309
, 12
(2007
).475.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, and C.
Takoudis
, Acta Mater.
56
, 710
(2008
).476.
A. L.
Brazeau
and S. T.
Barry
, Chem. Mater.
20
, 7287
(2008
).477.
K.-E.
Elers
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and L.-S.
Johansson
, J. Phys. IV France
5
, C5
–1021
(1995
).478.
J.
Jokinen
, P.
Haussalo
, J.
Keinonen
, M.
Ritala
, D.
Riihelä
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
289
, 159
(1996
).479.
Y. J.
Lee
and S.-W.
Kang
, Thin Solid Films
446
, 227
(2004
).480.
Y. J.
Lee
, J. Cryst. Growth
266
, 568
(2004
).481.
T. M.
Mayer
, J. W.
Rogers
, Jr., and T. A.
Michalske
, Chem. Mater.
3
, 641
(1991
).482.
M. E.
Bartram
, T. A.
Michalske
, J. W.
Rogers
, Jr., and R. T.
Paine
, Chem. Mater.
5
, 1424
(1993
).483.
H.
Liu
, D. C.
Bertolet
, and J. W.
Rogers
, Jr., Surf. Sci.
340
, 88
(1995
).484.
D.
Riihelä
, M.
Ritala
, R.
Matero
, M.
Leskelä
, J.
Jokinen
, and P.
Haussalo
, Chem. Vap. Deposition
2
, 277
(1996
).485.
F. G.
McIntosh
, E. L.
Piner
, J. C.
Roberts
, M. K.
Behbehani
, M. E.
Aumer
, N. A.
El-Masry
, and S. M.
Bedair
, Appl. Surf. Sci.
112
, 98
(1997
).486.
R. L.
Puurunen
, A.
Root
, P.
Sarv
, S.
Haukka
, E. I.
Iiskola
, M.
Lindblad
, and A. O. I.
Krause
, Appl. Surf. Sci.
165
, 193
(2000
).487.
R. L.
Puurunen
, A.
Root
, P.
Sarv
, M. M.
Viitanen
, H. H.
Brongersma
, M.
Lindblad
, and A. O. I.
Krause
, Chem. Mater.
14
, 720
(2002
).488.
M.
Badylevich
, S.
Shamuilia
, V. V.
Afanas’ev
, A.
Stesmans
, Y. G.
Fedorenko
, and C.
Zhao
, J. Appl. Phys.
104
, 093713
(2008
).489.
L. W.
Sang
, Z. X.
Qin
, H.
Fang
, T.
Dai
, Z. J.
Yang
, B.
Shen
, G. Y.
Zhang
, X. P.
Zhang
, J.
Xu
, and D. P.
Yu
, Appl. Phys. Lett.
93
, 122104
(2008
).490.
Y.
Zhou
, D. M.
King
, J.
Li
, K. S.
Barrett
, R. B.
Goldfarb
, and A. W.
Weimer
, Ind. Eng. Chem. Res.
49
, 6964
(2010
).491.
D.
Eom
, S. Y.
No
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
153
, C229
(2006
).492.
M.
Bosund
, P.
Mattila
, A.
Aierken
, T.
Hakkarainen
, H.
Koskenvaara
, M.
Sopanen
, V.-M.
Airaksinen
, and H.
Lipsanen
, Appl. Surf. Sci.
256
, 7434
(2010
).493.
494.
K.-H.
Kim
, N.-W.
Kwak
, and S. H.
Lee
, Electron. Mater. Lett.
5
, 83
(2009
).495.
M. A.
Khan
, J. N.
Kuznia
, R. A.
Skogman
, and D. T.
Olson
, Appl. Phys. Lett.
61
, 2539
(1992
).496.
M. A.
Khan
, J. N.
Kuznia
, and D. T.
Olson
, Appl. Phys. Lett.
63
, 3470
(1993
).497.
H.
Liu
and J. W.
Rogers
, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A
17
, 325
(1999
).498.
J. N.
Kidder
, Jr., J. S.
Kuo
, A.
Ludviksson
, T. P.
Pearsall
, J. W.
Rogers
, Jr., J. M.
Grant
, L. R.
Allen
, and S. T.
Hsu
, J. Vac. Sci. Technol. A
13
, 711
(1995
).499.
A.
Ludviksson
, D. W.
Robinson
, and J. W.
Rogers
, Jr., Thin Solid Films
289
, 6
(1996
).500.
J. N.
Kidder
, Jr., H. K.
Yun
, J. W.
Rogers
, Jr., and T. P.
Pearsall
, Chem. Mater.
10
, 777
(1998
).501.
K. H.
Kim
, R. G.
Gordon
, A.
Ritenour
, and D. A.
Antoniadis
, Appl. Phys. Lett.
90
, 212104
(2007
).502.
M.
Ishii
, S.
Iwai
, H.
Kawata
, T.
Ueki
, and Y.
Aoyagi
, J. Cryst. Growth
180
, 15
(1997
).503.
M.
Ishii
, S.
Iwai
, T.
Ueki
, and Y.
Aoyagi
, Appl. Phys. Lett.
71
, 1044
(1997
).504.
M.
Ishii
, S.
Iwai
, T.
Ueki
, and Y.
Aoyagi
, Thin Solid Films
318
, 6
(1998
).505.
S.
Hirose
, M.
Yamaura
, and H.
Munekata
, Appl. Surf. Sci.
150
, 89
(1999
).506.
R.
Kobayashi
, J. Cryst. Growth
113
, 491
(1991
).507.
M.
Akamatsu
, S.
Narahara
, T.
Kobayashi
, and F.
Hasegawa
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 228
(1994
).508.
S. M.
Bedair
, M. A.
Tischler
, T.
Katsuyama
, and N. A.
El-Masry
, Appl. Phys. Lett.
47
, 51
(1985
).509.
M.
Ozeki
, K.
Mochizuki
, N.
Ohtsuka
, and K.
Kodama
, J. Vac. Sci. Technol. B
5
, 1184
(1987
).510.
S. P.
DenBaars
, P. D.
Dapkus
, C. A.
Beyler
, A.
Hariz
, and K. M.
Dzurko
, J. Cryst. Growth
93
, 195
(1988
).511.
M.
Ozeki
, K.
Mochizuki
, N.
Ohtsuka
, and K.
Kodama
, Thin Solid Films
174
, 63
(1989
).512.
T.
Meguro
, S.
Iwai
, Y.
Aoyagi
, K.
Ozaki
, Y.
Yamamoto
, T.
Suzuki
, Y.
Okano
, and A.
Hirata
, J. Cryst. Growth
99
, 540
(1990
).513.
N.
Ohtsuka
, K.
Kitahara
, M.
Ozeki
, and K.
Kodama
, J. Cryst. Growth
99
, 346
(1990
).514.
Y.
Aoyagi
, T.
Meguro
, S.
Iwai
, and A.
Doi
, Mater. Sci. Eng. B
10
, 121
(1991
).515.
S.
Yokoyama
, M.
Shinohara
, and N.
Inoue
, Appl. Phys. Lett.
60
, 377
(1992
).516.
K.
Kitahara
, M.
Ozeki
, and K.
Nakajima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
32
, 1051
(1993
).517.
M.
Ozeki
and N.
Ohtsuka
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 233
(1994
).518.
N.
Hayafuji
, G. M.
Eldallal
, A.
Dip
, P. C.
Colter
, N. A.
El-Masry
, and S. M.
Bedair
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 18
(1994
).519.
M.
Ishizaki
, N.
Kano
, J.
Yoshino
, and H.
Kukimoto
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L435
(1991
).520.
M.
Ishizaki
, N.
Kano
, J.
Yoshino
, and H.
Kukimoto
, Thin Solid Films
225
, 74
(1993
).521.
H.
Isshiki
, Y.
Aoyagi
, T.
Sugano
, S.
Iwai
, and T.
Meguro
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 57
(1994
).522.
S.
Hirose
, N.
Kano
, M.
Deura
, K.
Hara
, H.
Munekata
, and H.
Kukimoto
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
34
, L1436
(1995
).523.
S.
Hirose
, H.
Ibuka
, A.
Yoshida
, N.
Kano
, K.
Hara
, H.
Munekata
, and H.
Kukimoto
, J. Cryst. Growth
208
, 49
(2000
).524.
D. E.
Aspnes
, I.
Kamiya
, H.
Tanaka
, R.
Bhat
, L. T.
Florez
, J. P.
Harbison
, W. E.
Quinn
, M.
Tamargo
, S.
Gregory
, M. A. A.
Pudensi
, S. A.
Schwarz
, M. J. S. P.
Brasil
, and R. E.
Nahory
, Thin Solid Films
225
, 26
(1993
).525.
K.
Kitahara
, N.
Ohtsuka
, T.
Ashino
, M.
Ozeki
, and K.
Nakajima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
32
, L236
(1993
).526.
K.
Fujii
, I.
Suemune
, and M.
Yamanishi
, Appl. Phys. Lett.
62
, 1420
(1993
).527.
I.
Suemune
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 149
(1994
).528.
M.
Nagano
, S.
Iwai
, K.
Nemoto
, and Y.
Aoyagi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
33
, L1289
(1994
).529.
N.
Kano
, S.
Hirose
, K.
Hara
, J.
Yoshino
, H.
Munekata
, and H.
Kukimoto
, Appl. Phys. Lett.
65
, 1115
(1994
).530.
N.
Kano
, S.
Hirose
, K.
Hara
, J.
Yoshino
, H.
Munekata
, and H.
Kukimoto
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 132
(1994
).531.
S.
Hirose
, N.
Kano
, K.
Hara
, H.
Munekata
, and H.
Kukimoto
, J. Cryst. Growth
172
, 13
(1997
).532.
S.
Hirose
, M.
Yamaura
, A.
Yoshida
, H.
Ibuka
, K.
Hara
, and H.
Munekata
, J. Cryst. Growth
194
, 16
(1998
).533.
S.
Hirose
, A.
Yoshida
, M.
Yamaura
, N.
Kano
, and H.
Munekata
, J. Mater. Sci.: Mater. Electron.
11
, 7
(2000
).534.
V.
Pore
, K.
Knapas
, T.
Hatanpää
, T.
Sarnet
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and K.
Mizohata
, Chem. Mater.
23
, 247
(2011
).535.
V. V.
Brei
, V. A.
Kasperskii
, and A. A.
Chuiko
, [Russ. J. Appl. Chem.
69
, 335
(1996
)].536.
X.
Du
, K.
Zhang
, K.
Holland
, T.
Tombler
, and M.
Moskovits
, Appl. Opt.
48
, 6470
(2009
).537.
L.
Velleman
, G.
Triani
, P. J.
Evans
, J. G.
Shapter
, and D.
Losic
, Microporous Mesoporous Mater.
126
, 87
(2009
).538.
V. E.
Drozd
, A. A.
Tulub
, V. B.
Aleskovskii
, and D. V.
Korol'kov
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 587
(1994
).539.
J. M.
Gaskell
, A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, S.
Przybylak
, P. R.
Chalker
, K.
Black
, H. O.
Davies
, P.
Taechakumput
, S.
Taylor
, and G. W.
Critchlow
, J. Mater. Chem.
16
, 3854
(2006
).540.
J. M.
Gaskell
, S.
Przybylak
, A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, P. R.
Chalker
, K.
Black
, R. J.
Potter
, P.
Taechakumput
, and S.
Taylor
, Chem. Mater.
19
, 4796
(2007
).541.
S.
Yokoyama
, K.
Ohba
, and A.
Nakajima
, Appl. Phys. Lett.
79
, 617
(2001
).542.
J.
Nishizawa
, K.
Aoki
, S.
Suzuki
, and K.
Kikuchi
, J. Electrochem. Soc.
137
, 1898
(1990
).543.
J.
Nishizawa
, K.
Aoki
, S.
Suzuki
, and K.
Kikuchi
, J. Cryst. Growth
99
, 502
(1990
).544.
J. A.
Yarmoff
, D. K.
Shuh
, T. D.
Durbin
, C. W.
Lo
, D. A.
Lapiano-Smith
, F. R.
McFreely
, and F. J.
Himpsel
, J. Vac. Sci. Technol. A
10
, 2303
(1992
).545.
S.
Imai
, T.
Iizuka
, O.
Sugiura
, and M.
Matsumura
, Thin Solid Films
225
, 168
(1993
).546.
S.
Imai
and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 322
(1994
).547.
D. D.
Koleske
and S. M.
Gates
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 344
(1994
).548.
D. D.
Koleske
and S. M.
Gates
, J. Appl. Phys.
76
, 1615
(1994
).549.
S.
Sugahara
, E.
Hasunuma
, S.
Imai
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
107
, 161
(1996
).550.
E.
Hasunuma
, S.
Sugahara
, S.
Hoshino
, S.
Imai
, K.
Ikeda
, and M.
Matsumura
, J. Vac. Sci. Technol. A
16
, 679
(1998
).551.
Y.
Satoh
, K.
Ikeda
, S.
Sugahara
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
39
, 5732
(2000
).552.
Y.
Takahashi
and T.
Urisu
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L209
(1991
).553.
554.
555.
P. A.
Coon
, M. L.
Wise
, A. C.
Dillon
, M. B.
Robinson
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. B
10
, 221
(1992
).556.
F.
Hirose
, M.
Suemitsu
, and N.
Miyamoto
, Appl. Surf. Sci.
60/61
, 592
(1992
).557.
J.
Murota
, M.
Sakuraba
, and S.
Ono
, Appl. Phys. Lett.
62
, 2353
(1993
).558.
M.
Sakuraba
, J.
Murota
, T.
Watanabe
, Y.
Sawada
, and S.
Ono
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 354
(1994
).559.
D. D.
Koleske
, S. M.
Gates
, and D. B.
Beach
, J. Appl. Phys.
72
, 4073
(1992
).560.
S. M.
Gates
, D. D.
Koleske
, J. R.
Heath
, and M.
Copel
, Appl. Phys. Lett.
62
, 510
(1993
).561.
D. D.
Koleske
and S. M.
Gates
, Appl. Phys. Lett.
64
, 884
(1994
).562.
Y.
Suda
, D.
Lubben
, T.
Motooka
, and J.
Greene
, J. Vac. Sci. Technol. B
7
, 1171
(1989
).563.
D.
Lubben
, R.
Tsu
, T. R.
Bramblett
, and J. E.
Greene
, J. Vac. Sci. Technol. A
9
, 3003
(1991
).564.
D.
Lin
, T.
Miller
, and T.
Chiang
, Phys. Rev. B
47
, 6543
(1993
).565.
Y.
Suda
, M.
Ishida
, M.
Yamashita
, and H.
Ikeda
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 332
(1994
).566.
Y.
Suda
, Y.
Misato
, and D.
Shiratori
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
38
, 2390
(1999
).567.
J.
Nishizawa
, A.
Murai
, T.
Ohizumi
, T.
Kurabayashi
, K.
Ohtsuka
, and T.
Yoshida
, J. Cryst. Growth
209
, 327
(2000
).568.
J.
Nishizawa
, A.
Murai
, T.
Oizumi
, T.
Kurabayashi
, K.
Kanamoto
, and T.
Yoshida
, J. Cryst. Growth
233
, 161
(2001
).569.
J.
Nishizawa
, A.
Murai
, T.
Oizumi
, T.
Kurabayashi
, K.
Kanamoto
, and T.
Yoshida
, J. Cryst. Growth
226
, 39
(2001
).570.
Y.
Suda
, N.
Hosoya
, and K.
Miki
, Appl. Surf. Sci.
216
, 424
(2003
).571.
H.
Akazawa
, Y.
Utsumi
, T.
Urisu
, and M.
Nagase
, Phys. Rev. B
47
, 15946
(1993
).572.
H.
Akazawa
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 394
(1994
).573.
H.
Akazawa
and Y.
Utsumi
, J. Appl. Phys.
78
, 2725
(1995
).574.
M.
Ishida
, M.
Yamashita
, Y.
Nagata
, and Y.
Suda
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
35
, 4011
(1996
).575.
H.
Akazawa
, J. Cryst. Growth
173
, 343
(1997
).576.
Y.
Suda
, N.
Hosoya
, and D.
Shiratori
, J. Cryst. Growth
237
, 1404
(2002
).577.
A.
Mahajan
, J.
Irby
, D.
Kinosky
, R.
Qian
, S.
Thomas
, S.
Banerjee
, A.
Tasch
, and T.
Picraux
, Thin Solid Films
225
, 177
(1993
).578.
S.
Imai
, S.
Takagi
, O.
Sugiura
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
30
, 3646
(1991
).579.
G. V.
Sveshnikova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
43
, 1150
(1970
)G. V.
Sveshnikova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
43
, 1155
(1970
)].580.
M. A.
Eremeeva
, A. P.
Nechiporenko
, G. N.
Kuznetsova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
47
, 2332
(1974
)M. A.
Eremeeva
, A. P.
Nechiporenko
, G. N.
Kuznetsova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
47
, 2390
(1974
)].581.
L. V.
Miroshnichenko
, A. A.
Malygin
, and S. I.
Kol'tsov
, [Refractories
26
, 82
(1985
)].582.
O.
Sneh
, M. L.
Wise
, A. W.
Ott
, L. A.
Okada
, and S. M.
George
, Surf. Sci.
334
, 135
(1995
).583.
J. W.
Klaus
, A. W.
Ott
, J. M.
Johnson
, and S. M.
George
, Appl. Phys. Lett.
70
, 1092
(1997
).584.
J. W.
Klaus
, A. W.
Ott
, and S. M.
George
, Surf. Rev. Lett.
6
, 435
(1999
).585.
M. A.
Cameron
, I. P.
Gartland
, J. A.
Smith
, S. F.
Diaz
, and S. M.
George
, Langmuir
16
, 7435
(2000
).586.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
12
, 3472
(2000
).587.
Y.
Fedorenko
, J.
Swerts
, J. W.
Maes
, E.
Tois
, S.
Haukka
, C. G.
Wang
, G.
Wilk
, A.
Delabie
, W.
Deweerd
, and S.
De Gendt
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, H149
(2007
).588.
J. W.
Klaus
, O.
Sneh
, and S. M.
George
, Science
278
, 1934
(1997
).589.
J. W.
Klaus
and S. M.
George
, Surf. Sci.
447
, 81
(2000
).590.
B. A.
McCool
and W. J.
DeSisto
, Ind. Eng. Chem. Res.
43
, 2478
(2004
).591.
B. A.
McCool
and W. J.
DeSisto
, Chem. Vap. Deposition
10
, 190
(2004
).592.
Y.
Du
, X.
Du
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
491
, 43
(2005
).593.
L. K.
Tan
, A. S. M.
Chong
, X. S. E.
Tang
, and H.
Gao
, J. Phys. Chem. C
111
, 4964
(2007
).594.
Y.
Du
, X.
Du
, and S. M.
George
, J. Phys. Chem. C
111
, 219
(2007
).595.
S. W.
Lee
, K.
Park
, B.
Han
, S. H.
Son
, S. K.
Rha
, C. O.
Park
, and W. J.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, G23
(2008
).596.
597.
S. I.
Kol'tsov
, G. N.
Kuznetsova
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
40
, 2774
(1967
)S. I.
Kol'tsov
, G. N.
Kuznetsova
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
40
, 2644
(1967
)].598.
S. I.
Kol'tsov
, [Russ. J. Gen. Chem.
71
, 1531
(2001
)].599.
J.-H.
Lee
, U.-J.
Kim
, C.-H.
Han
, S.-K.
Rha
, W.-J.
Lee
, and C.-O.
Park
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
43
, L328
(2004
).600.
W.-J.
Lee
, C.-H.
Han
, J.-K.
Park
, Y.-S.
Lee
, and S.-K.
Rha
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 071504
(2010
).601.
T.
Murata
, Y.
Miyagawa
, Y.
Nishida
, Y.
Yamamoto
, T.
Yamashita
, M.
Matsuura
, K.
Asai
, and H.
Miyatake
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 04DB11
(2010
).602.
Z.
Ma
, S.
Brown
, J. Y.
Howe
, S. H.
Overbury
, and S.
Dai
, J. Phys. Chem. C
112
, 9448
(2008
).603.
B.
Hatton
, V.
Kitaev
, D.
Perovic
, G.
Ozin
, and J.
Aizenberg
, J. Mater. Chem.
20
, 6009
(2010
).604.
J. D.
Ferguson
, E. R.
Smith
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, J. Electrochem. Soc.
151
, G528
(2004
).605.
Y. K.
Jeong
, H.-J.
Kim
, H. G.
Kim
, and B.-H.
Choi
, Curr. Appl. Phys.
9
, S249
(2009
).606.
Y. B.
Jiang
, N. G.
Liu
, H.
Gerung
, J. L.
Cecchi
, and C. J.
Brinker
, J. Am. Chem. Soc.
128
, 11018
(2006
).607.
J. W.
Lim
, S. J.
Yun
, and J. H.
Kim
, ETRI J.
31
, 675
(2009
).608.
J.
Bachmann
, R.
Zierold
, Y. T.
Chong
, R.
Hauert
, C.
Sturm
, R.
Schmidt-Grund
, B.
Rheinländer
, M.
Grundmann
, U.
Gösele
, and K.
Nielsch
, Angew. Chem., Int. Ed.
47
, 6177
(2008
).609.
K.
Pitzschel
, J. M. M.
Moreno
, J.
Escrig
, O.
Albrecht
, K.
Nielsch
, and J.
Bachmann
, ACS Nano
3
, 3463
(2009
).610.
J.
Lee
, S.
Farhangfar
, R.
Yang
, R.
Scholz
, M.
Alexe
, U.
Gösele
, J.
Lee
, and K.
Nielsch
, J. Mater. Chem.
19
, 7050
(2009
).611.
D.
Hiller
, R.
Zierold
, J.
Bachmann
, M.
Alexe
, Y.
Yang
, J. W.
Gerlach
, A.
Stesmans
, M.
Jivanescu
, U.
Müller
, J.
Vogt
, H.
Hilmer
, P.
Löper
, M.
Künle
, F.
Munnik
, K.
Nielsch
, and M.
Zacharias
, J. Appl. Phys.
107
, 064314
(2010
).612.
O.
Albrecht
, R.
Zierold
, C.
Patzig
, J.
Bachmann
, C.
Sturm
, B.
Rheinländer
, M.
Grundmann
, D.
Görlitz
, B.
Rauschenbach
, and K.
Nielsch
, Phys. Status Solidi B
247
, 1365
(2010
).613.
B. B.
Burton
, M. P.
Boleslawski
, A. T.
Desombre
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
20
, 7031
(2008
).614.
X.
Liang
, K. S.
Barrett
, Y.-B.
Jiang
, and A. W.
Weimer
, ACS Appl. Mater. Interfaces
2
, 2248
(2010
).615.
M.
Lindblad
and A.
Root
, in Preparation of Catalysts VII, Proceedings of the 7th International Symposium on Scientific Bases for the Preparation of Heterogeneous Catalysts, Louvain-la-Neuve, Belgium, September 1–4, 1998
, Stud. Surf. Sci. Catal.
, edited by B.
Delmon
, P. A.
Jacobs
, R.
Maggi
, J. A.
Martens
, P.
Grange
, and G.
Poncelet
(Elsevier
, Amsterdam
, 1998
), Vol. 118
, pp. 817
–826
.616.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, and Y.
Nara
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, F37
(2005
).617.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, and Y.
Nara
, Thin Solid Films
515
, 1517
(2006
).618.
P. S.
Waggoner
, C. P.
Tan
, and H. G.
Craighead
, J. Appl. Phys.
107
, 114505
(2010
).619.
S.-J.
Won
, S.
Suh
, M. S.
Huh
, and H. J.
Kim
, IEEE Electron Device Lett.
31
, 857
(2010
).620.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, Y.
Nara
, and T.
Arikado
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G215
(2005
).621.
Y.
Kinoshita
, F.
Hirose
, H.
Miya
, K.
Hirahara
, Y.
Kimura
, and M.
Niwano
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, G80
(2007
).622.
F.
Hirose
, Y.
Kinoshita
, S.
Shibuya
, Y.
Narita
, Y.
Takahashi
, H.
Miya
, K.
Hirahara
, Y.
Kimura
, and M.
Niwano
, Thin Solid Films
519
, 270
(2010
).623.
B. B.
Burton
, S. W.
Kang
, S. W.
Rhee
, and S. M.
George
, J. Phys. Chem. C
113
, 8249
(2009
).624.
D. M.
King
, X. H.
Liang
, B. B.
Burton
, M. K.
Akhtar
, and A. W.
Weimer
, Nanotechnology
19
, 255604
(2008
).625.
W.
Gasser
, Y.
Uchida
, and M.
Matsumura
, Thin Solid Films
250
, 213
(1994
).626.
K.
Yamaguchi
, S.
Imai
, N.
Ishitobi
, M.
Takemoto
, H.
Miki
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
130–132
, 202
(1998
).627.
S.
Morishita
, Y.
Uchida
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
34
, 5738
(1995
).628.
S.
Morishita
, W.
Gasser
, K.
Usami
, and M.
Matsumura
, J. Non-Cryst. Solids
187
, 66
(1995
).629.
J. W.
Klaus
, A. W.
Ott
, A. C.
Dillon
, and S. M.
George
, Surf. Sci.
418
, L14
(1998
).630.
631.
A.
Nakajima
, T.
Yoshimoto
, T.
Kidera
, and S.
Yokoyama
, Appl. Phys. Lett.
79
, 665
(2001
).632.
W. J.
Lee
, J. H.
Lee
, C. O.
Park
, Y. S.
Lee
, S. J.
Shin
, and S. K.
Rha
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1352
(2004
).633.
S.
Zhu
and A.
Nakajima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
46
, 7699
(2007
).634.
W. J.
Lee
, U. J.
Kim
, C. H.
Han
, M. H.
Chun
, and S. K.
Rha
, J. Korean Phys. Soc.
47
, S598
(2005
).635.
H.
Goto
, K.
Shibahara
, and S.
Yokoyama
, Appl. Phys. Lett.
68
, 3257
(1996
).636.
S.
Yokoyama
, H.
Goto
, T.
Miyamoto
, N.
Ikeda
, and J.
Shibahara
, Appl. Surf. Sci.
112
, 75
(1997
).637.
S.
Yokoyama
, N.
Ikeda
, K.
Kajikawa
, and Y.
Nakashima
, Appl. Surf. Sci.
130–132
, 352
(1998
).638.
S.
Morishita
, S.
Sugahara
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
112
, 198
(1997
).639.
K.
Park
, W.-D.
Yun
, B.-J.
Choi
, H.-D.
Kim
, W.-J.
Lee
, S.-K.
Rha
, and C. O.
Park
, Thin Solid Films
517
, 3975
(2009
).640.
H.
Nagasawa
and Y.
Yamaguchi
, Thin Solid Films
225
, 230
(1993
).641.
H.
Nagasawa
and Y.
Yamaguchi
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 405
(1994
).642.
E.
Sadayuki
, S.
Imai
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
34
, 6166
(1996
).643.
J.
Sumakeris
, L. B.
Rowland
, R. S.
Kern
, S.
Tanaka
, and R. F.
Davis
, Thin Solid Films
225
, 219
(1993
).644.
T.
Fuyuki
, M.
Nakayama
, T.
Yoshinobu
, H.
Shiomi
, and H.
Matsunami
, J. Cryst. Growth
95
, 461
(1989
).645.
S.
Hara
, Y.
Aoyagi
, M.
Kawai
, S.
Misakawa
, E.
Sakuma
, and S.
Yoshida
, Surf. Sci.
273
, 437
(1992
).646.
T.
Fuyuki
, T.
Yoshinobu
, and H.
Matsunami
, Thin Solid Films
125
, 225
(1993
).647.
S.
Hara
, T.
Meguro
, Y.
Aoyagi
, and M.
Kawai
, Thin Solid Films
225
, 240
(1993
).648.
S.
Lee
and K.
Yong
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
46
, 5259
(2007
).649.
S.
Lee
, J.
Kim
, and K.
Yong
, J. Nanosci. Nanotechnol.
8
, 577
(2008
).650.
W. K.
Kim
, S. W.
Kang
, and S. W.
Rhee
, J. Vac. Sci. Technol. A
21
, L16
(2003
).651.
W. K.
Kim
, S. W.
Kang
, S. W.
Rhee
, N. I.
Lee
, J. H.
Lee
, and H. K.
Kang
, J. Vac. Sci. Technol. A
20
, 2096
(2002
).652.
J.
Kim
and K.
Yong
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, F35
(2004
).653.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, R. I.
Hegde
, D. C.
Gilmer
, and P. J.
Tobin
, J. Electrochem. Soc.
151
, F98
(2004
).654.
R. G.
Gordon
, J.
Becker
, D.
Hausmann
, and S.
Suh
, Chem. Mater.
13
, 2463
(2001
).655.
J.
Kim
and K.
Yong
, J. Electrochem. Soc.
152
, F153
(2005
).656.
J.
Kim
and K.
Yong
, J. Electrochem. Soc.
152
, F45
(2005
).657.
J.
Kim
, S.
Lee
, and K.
Yong
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 7080
(2006
).658.
J.
Kim
and K. J.
Yong
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 1147
(2006
).659.
J.
Kim
and K.
Yong
, J. Appl. Phys.
100
, 044106
(2006
).660.
J.
Liu
, W. N.
Lennard
, L. V.
Goncharova
, D.
Landheer
, X.
Wu
, S. A.
Rushworth
, and A. C.
Jones
, J. Electrochem. Soc.
156
, G89
(2009
).661.
S.
Lee
, D.-J.
Yun
, S.-W.
Rhee
, and K.
Yong
, J. Mater. Chem.
19
, 6857
(2009
).662.
J.
Harjuoja
, T.
Hatanpää
, M.
Vehkamäki
, S.
Väyrynen
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and E.
Rauhala
, Chem. Vap. Deposition
11
, 362
(2005
).663.
J.
Harjuoja
, S.
Väyrynen
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, and E.
Rauhala
, J. Cryst. Growth
286
, 376
(2006
).664.
S. I.
Kol'tsov
, A. N.
Volkova
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
42
, 1028
(1969
)S. I.
Kol'tsov
, A. N.
Volkova
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
42
, 980
(1969
)].665.
S. I.
Kol'tsov
, A. N.
Volkova
, and V. B.
Aleskovskii
, [Russ. J. Phys. Chem.
46
, 742
(1972
)].666.
S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Aleskovskii
, A. N.
Volkova
, and V. M.
Smirnov
, Zh. Prikl. Khim.
47
, 1254
(1974
)S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Aleskovskii
, A. N.
Volkova
, and V. M.
Smirnov
, [J. Appl. Chem. USSR
47
, 1292
(1974
)].667.
A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
45
, 3
(1975
)A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
45
, 1
(1975
)].668.
S. A.
Trifonov
, V. A.
Lapikov
, and A. A.
Malygin
, [Russ. J. Appl. Chem.
75
, 969
(2002
)].669.
A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
43
, 724
(1973
)A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
43
, 723
(1973
)].670.
A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
50
, 2633
(1980
)A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
50
, 2121
(1980
)].671.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Jaek
, M.
Leskelä
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
75
, 33
(1994
).672.
O.
Nilsen
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Thin Solid Films
450
, 240
(2004
).673.
M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, P.
Rahkila
, L.
Xu
, S.
Cheng
, L.
Niinistö
, and H. J.
Whitlow
, Thin Solid Films
517
, 5819
(2009
).674.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, T.
Hänninen
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
500
, 322
(2006
).675.
M.
Tammenmaa
, H.
Antson
, M.
Asplund
, L.
Hiltunen
, M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, and E.
Ristolainen
, J. Cryst. Growth
84
, 151
(1987
).676.
J.
Rautanen
, M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, P.
Soininen
, and M.
Utriainen
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 553
(1994
).677.
P.
Soininen
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
75
, 99
(1994
).678.
T.
Hänninen
, I.
Mutikainen
, V.
Saanila
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and J. C.
Hanson
, Chem. Mater.
9
, 1234
(1997
).679.
S.
Dey
and S. J.
Yun
, Appl. Surf. Sci.
143
, 191
(1999
).680.
M.
Ylilammi
and T.
Ranta-aho
, J. Electrochem. Soc.
141
, 1278
(1994
).681.
T.
Pilvi
, K.
Arstila
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
19
, 3387
(2007
).682.
M.
Putkonen
, M.
Nieminen
, J.
Niinistö
, and L.
Niinistö
, Chem. Mater.
13
, 4701
(2001
).683.
P.
de Rouffignac
, A. P.
Yousef
, K. H.
Kim
, and R. G.
Gordon
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, F45
(2006
).684.
A.
Hardy
, C.
Adelmann
, S.
Van Elshocht
, H.
Van den Rul
, M. K.
Van Bael
, S.
De Gendt
, M.
D'Olieslaeger
, M.
Heyns
, J. A.
Kittl
, and J.
Mullens
, Appl. Surf. Sci.
255
, 7812
(2009
).685.
S. M.
Rossnagel
, A.
Sherman
, and F.
Turner
, J. Vac. Sci. Technol. B
18
, 2016
(2000
).686.
H.
Kim
and S. M.
Rossnagel
, J. Vac. Sci. Technol. A
20
, 802
(2002
).687.
V.
Pore
, T.
Kivelä
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Dalton Trans.
2008
, 6467
.688.
689.
A. M.
Shevjakov
, G. N.
Kuznetsova
, and V. B.
Aleskovskii
, in Chemistry of High Temperature Materials, Proceedings of 2nd USSR Conference on High Temperature Chemistry of Oxides, Leningrad, USSR, 26-29 November 1965
, (Nauka
, Leningrad, USSR
, 1967
), pp. 149
–155
(in Russian).690.
691.
692.
693.
G. V.
Sveshnikova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
43
, 430
(1970
)G. V.
Sveshnikova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
43
, 432
(1970
)].694.
V. N.
Pak
, Yu. P.
Kostikov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Kinet. Katal.
15
, 1358
(1974
)V. N.
Pak
, Yu. P.
Kostikov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [Kinet. Catal.
15
, 1205
(1974
)].695.
696.
S. I.
Kol'tsov
, V. E.
Drozd
, and V. B.
Aleskovskii
, Dokl. Akad. Nauk SSSR
229
, 1145
(1976
)S. I.
Kol'tsov
, V. E.
Drozd
, and V. B.
Aleskovskii
, [Dokl. Phys. Chem.
229
, 718
(1976
)].697.
S. I.
Kol'tsov
, V. E.
Drozd
, T. A.
Redova
, and V. B.
Aleskovskii
, Dokl. Akad. Nauk SSSR
235
, 1090
(1977
)S. I.
Kol'tsov
, V. E.
Drozd
, T. A.
Redova
, and V. B.
Aleskovskii
, [Dokl. Phys. Chem.
235
, 794
(1977
)].698.
V. B.
Aleskovskii
, V. E.
Drozd
, V. F.
Kiselev
, S. N.
Kozlov
, S. I.
Kol'tsov
, A. S.
Petrov
, and G. S.
Plotnikov
, Fiz. Tekh. Poluprovodn.
13
, 1397
(1979
)V. B.
Aleskovskii
, V. E.
Drozd
, V. F.
Kiselev
, S. N.
Kozlov
, S. I.
Kol'tsov
, A. S.
Petrov
, and G. S.
Plotnikov
, [Sov. Phys. Semicond.
13
, 817
(1979
)].699.
M. N.
Tsvetkova
, I. M.
Yur'evskaya
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and Yu. I.
Skorik
, Zh. Prikl. Khim.
55
, 256
(1982
)M. N.
Tsvetkova
, I. M.
Yur'evskaya
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and Yu. I.
Skorik
, [J. Appl. Chem. USSR
55
, 229
(1982
)].700.
S. K.
Gordeev
, E. P.
Smirnov
, and S. I.
Kol'tsov
, [J. Gen. Chem. USSR
52
, 1298
(1982
)].701.
702.
703.
704.
V. A.
Tolmachev
, M. A.
Okatov
, and V. V.
Pal'chevskii
, Opt. Mekh. Prom-st.
51
, 57
(1984
)V. A.
Tolmachev
, M. A.
Okatov
, and V. V.
Pal'chevskii
, [Sov. J. Opt. Technol.
51
, 368
(1984
)].705.
M. N.
Tsvetkova
, V. N.
Pak
, A. A.
Malygin
, and S. I.
Kol'tsov
, Neorg. Mater.
20
, 144
(1984
)M. N.
Tsvetkova
, V. N.
Pak
, A. A.
Malygin
, and S. I.
Kol'tsov
, [Inorg. Mater.
20
, 121
(1984
)].706.
A. L.
Egorov
, K.
Ezhovskii
, S. I.
Kol'tsov
, and G. V.
Anikeev
, Zh. Prikl. Khim.
57
, 2593
(1984
)A. L.
Egorov
,. K.
Ezhovskii
, S. I.
Kol'tsov
, and G. V.
Anikeev
, [J. Appl. Chem. USSR
57
, 2395
(1984
)].707.
A. A.
Seitmagzimov
, V. N.
Pak
, and S. I.
Kol'tsov
, [J. Appl. Chem. USSR
58
, 85
(1985
)].708.
L. I.
Petrova
, A. A.
Malkov
, and A. A.
Malygin
, [J. Appl. Chem. USSR
59
, 1131
(1986
)].709.
L. I.
Petrova
, A. A.
Malkov
, and A. A.
Malygin
, [J. Appl. Chem. USSR
59
, 2093
(1986
)].710.
711.
712.
L. I.
Petrova
, A. A.
Malkov
, and A. A.
Malygin
, [J. Appl. Chem. USSR
64
, 1290
(1991
)].713.
N. V.
Dolgushev
, A. A.
Malkov
, A. A.
Malygin
, S. A.
Suvorov
, A. V.
Shchukarev
, A. V.
Beljaev
, and V. A.
Bykov
, Zh. Prikl. Khim.
65
, 1117
(1992
)N. V.
Dolgushev
, A. A.
Malkov
, A. A.
Malygin
, S. A.
Suvorov
, A. V.
Shchukarev
, A. V.
Beljaev
, and V. A.
Bykov
, [J. Appl. Chem. USSR
65
, 921
(1992
)].714.
V. M.
Smirnov
, A. A.
Malkov
, and R. R.
Rachovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
65
, 2213
(1992
)].715.
N. V.
Dolgushev
, A. A.
Malkov
, A. A.
Malygin
, S. A.
Suvorov
, A. V.
Shchukarev
, A. V.
Beljaev
, and V. A.
Bykov
, Thin Solid Films
293
, 91
(1997
).716.
V. N.
Pak
, I.
Yu. Tikhomirova
, T. M.
Burkat
, and B. I.
Lobov
, Zh. Fiz. Khim.
73
, 2024
(1999
)V. N.
Pak
, I.
Yu. Tikhomirova
, T. M.
Burkat
, and B. I.
Lobov
, [Russ. J. Phys. Chem.
73
, 1824
(1999
)].717.
718.
S. A.
Morozov
, A. A.
Malkov
, and A. A.
Malygin
, [Russ. J. Appl. Chem.
76
, 7
(2003
)].719.
S. B.
Desu
, Mater. Sci. Eng. B
13
, 299
(1992
).720.
E.-L.
Lakomaa
, S.
Haukka
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
60/61
, 742
(1992
).721.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, and A.
Root
, J. Phys. Chem.
97
, 5085
(1993
).722.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, and T.
Suntola
, Thin Solid Films
225
, 280
(1993
).723.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, O.
Jylhä
, J.
Vilhunen
, and S.
Hornytzkyj
, Langmuir
9
, 3497
(1993
).724.
M.
Ritala
and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
225
, 288
(1993
).725.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, L.-S.
Johansson
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
228
, 32
(1993
).726.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 548
(1994
).727.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, J. Cryst. Growth
148
, 268
(1995
).728.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, V.
Sammelselg
, H.
Siimon
, and T.
Uustare
, J. Cryst. Growth
169
, 496
(1996
).729.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, and T.
Uustare
, Philos. Mag. Lett.
73
, 115
(1996
).730.
A.
Rosental
, P.
Adamson
, A.
Gerst
, and A.
Niilisk
, Appl. Surf. Sci.
107
, 178
(1996
).731.
V. E.
Drozd
, N. N.
Kopilov
, and V. B.
Aleskovski
, Appl. Surf. Sci.
112
, 258
(1997
).732.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, V.
Sammelselg
, and T.
Uustare
, J. Cryst. Growth
181
, 259
(1997
).733.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.-A.
Kiisler
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Thin Solid Films
305
, 270
(1997
).734.
H.
Siimon
and J.
Aarik
, J. Phys. D: Appl. Phys.
30
, 1725
(1997
).735.
H.
Siimon
, J.
Aarik
, and T.
Uustare
, in Proceedings of the Fourteenth International Conference of Chemical Vapor Deposition and EUROCVD-11
, Electrochem. Soc. Proceedings
, edited by M. D.
Allendorf
and C.
Bernard
(Electrochemical Society, Pennington
, New Jersey, USA
, 1997
), Vol. 97–25
, pp. 131
–138
.736.
M.
Lindblad
, S.
Haukka
, A.
Kytökivi
, E.-L.
Lakomaa
, A.
Rautiainen
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
121/122
, 286
(1997
).737.
A.
Rosental
, P.
Adamson
, A.
Gerst
, H.
Koppel
, and A.
Tarre
, Appl. Surf. Sci.
112
, 82
(1997
).738.
V.
Sammelselg
, A.
Rosental
, A.
Tarre
, L.
Niinistö
, K.
Heiskanen
, K.
Ilmonen
, L.-S.
Johansson
, and T.
Uustare
, Appl. Surf. Sci.
134
, 78
(1998
).739.
A.
Suisalu
, J.
Aarik
, H.
Mändar
, and I.
Sildos
, Thin Solid Films
336
, 295
(1998
).740.
A.
Rosental
, A.
Tarre
, P.
Adamson
, A.
Gerst
, A.
Kasikov
, and A.
Niilisk
, Appl. Surf. Sci.
142
, 204
(1999
).741.
V.
Sammelselg
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Kasikov
, E.
Heikinheimo
, M.
Peussa
, and L.
Niinistö
, J. Anal. At. Spectrom.
14
, 523
(1999
).742.
K.
Schrijnemakers
, N. R. E. N.
Impens
, and E. F.
Vansant
, Langmuir
15
, 5807
(1999
).743.
A.
Turković
, Mater. Sci. Eng. B
75
, 85
(2000
).744.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, and V.
Sammelselg
, J. Cryst. Growth
220
, 531
(2000
).745.
R.
Matero
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
13
, 4506
(2001
).746.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, and T.
Uustare
, Appl. Surf. Sci.
172
, 148
(2001
).747.
A.
Tarre
, A.
Rosental
, V.
Sammelselg
, and T.
Uustare
, Appl. Surf. Sci.
175/176
, 111
(2001
).748.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, T.
Uustare
, M.
Schuisky
, and A.
Hårsta
, J. Cryst. Growth
242
, 189
(2002
).749.
B. J.
Ninness
, D. W.
Bousfield
, and C. P.
Tripp
, Colloids Surf., A
214
, 195
(2003
).750.
K. S.
Finnie
, G.
Triani
, K. T.
Short
, D. R. G.
Mitchell
, D. J.
Attard
, J. R.
Bartlett
, and C. J.
Barbé
, Thin Solid Films
440
, 109
(2003
).751.
D. R. G.
Mitchell
, D. J.
Attard
, and G.
Triani
, Thin Solid Films
441
, 85
(2003
).752.
J. D.
Ferguson
, A. R.
Yoder
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Appl. Surf. Sci.
226
, 393
(2004
).753.
X. D.
Wang
, E.
Graugnard
, J. S.
King
, Z. L.
Wang
, and C. J.
Summers
, Nano Lett.
4
, 2223
(2004
).754.
M. S.
Sander
, M. J.
Côté
, W.
Gu
, B. M.
Kile
, and C. P.
Tripp
, Adv. Mater.
16
, 2052
(2004
).755.
756.
X. D.
Wang
, C.
Neff
, E.
Graugnard
, Y.
Ding
, J. S.
King
, L. A.
Pranger
, R.
Tannenbaum
, Z. L.
Wang
, and C. J.
Summers
, Adv. Mater.
17
, 2103
(2005
).757.
D. R. G.
Mitchell
, D. J.
Attard
, and G.
Triani
, J. Cryst. Growth
285
, 208
(2005
).758.
J. S.
King
, D.
Heineman
, E.
Graugnard
, and C. J.
Summers
, Appl. Surf. Sci.
244
, 511
(2005
).759.
J. S.
King
, E.
Graugnard
, and C. J.
Summers
, Adv. Mater.
17
, 1010
(2005
).760.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, E.
San Andrés
, M.
Toledano-Luque
, I.
Mártil
, G.
González-Díaz
, K.
Kukli
, T.
Uustare
, and J.
Aarik
, Semicond. Sci. Technol.
20
, 1044
(2005
).761.
D. H.
Triyoso
, R. I.
Hegde
, X. D.
Wang
, M. W.
Stoker
, R.
Rai
, M. E.
Ramon
, B. E.
White
, and P. J.
Tobin
, J. Electrochem. Soc.
153
, G834
(2006
).762.
G.
Triani
, P. J.
Evans
, D. J.
Attard
, K. E.
Prince
, J.
Bartlett
, S.
Tan
, and R. P.
Burford
, J. Mater. Chem.
16
, 1355
(2006
).763.
A.
Sinha
, D. W.
Hess
, and C. L.
Henderson
, J. Electrochem. Soc.
153
, G465
(2006
).764.
A.
Sinha
, D. W.
Hess
, and C. L.
Henderson
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 2523
(2006
).765.
M.
Ritala
, M.
Kemell
, M.
Lautala
, A.
Niskanen
, M.
Leskelä
, and S.
Lindfors
, Chem. Vap. Deposition
12
, 655
(2006
).766.
V.
Pore
, M.
Heikkilä
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and S.
Areva
, J. Photochem. Photobiol., A
177
, 68
(2006
).767.
A.
Niilisk
, M.
Moppel
, M.
Pärs
, I.
Sildos
, T.
Jantson
, T.
Avarmaa
, R.
Jaaniso
, and J.
Aarik
, Cent. Eur. J. Phys.
4
, 105
(2006
).768.
S.
Mahurin
, L. L.
Bao
, W. F.
Yan
, C. D.
Liang
, and S.
Dai
, J. Non-Cryst. Solids
352
, 3280
(2006
).769.
D.
Losic
, G.
Triani
, P. J.
Evans
, A.
Atanacio
, J. G.
Mitchell
, and N. H.
Voelcker
, J. Mater. Chem.
16
, 4029
(2006
).770.
M.
Law
, L. E.
Greene
, A.
Radenovic
, T.
Kuykendall
, J.
Liphardt
, and P. D.
Yang
, J. Phys. Chem. B
110
, 22652
(2006
).771.
J. S.
King
, E.
Graugnard
, O. M.
Roche
, D. N.
Sharp
, J.
Scrimgeour
, R. G.
Denning
, A. J.
Turberfield
, and C. J.
Summers
, Adv. Mater.
18
, 1561
(2006
).772.
A.
Kasikov
, J.
Aarik
, H.
Mändar
, M.
Moppel
, M.
Pärs
, and T.
Uustare
, J. Phys. D: Appl. Phys.
39
, 54
(2006
).773.
I.
Jõgi
, J.
Aarik
, M.
Laan
, J.
Lu
, K.
Kukli
, H.
Käämbre
, T.
Sajavaara
, and T.
Uustare
, Thin Solid Films
510
, 39
(2006
).774.
E.
Graugnard
, D. P.
Gaillot
, S. N.
Dunham
, C. W.
Neff
, T.
Yamashita
, and C. J.
Summers
, Appl. Phys. Lett.
89
, 181108
(2006
).775.
V.
Pore
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, S.
Areva
, M.
Järn
, and J.
Järnström
, J. Mater. Chem.
17
, 1361
(2007
).776.
B. A.
Latella
, G.
Triani
, Z.
Zhang
, K. T.
Short
, J. R.
Bartlett
, and M.
Ignat
, Thin Solid Films
515
, 3138
(2007
).777.
L. E.
Greene
, M.
Law
, B. D.
Yuhas
, and P. D.
Yang
, J. Phys. Chem. C
111
, 18451
(2007
).778.
H. E.
Cheng
and C. C.
Chen
, J. Electrochem. Soc.
155
, D604
(2008
).779.
H.
Kawakami
, R.
Ilola
, L.
Straka
, S.
Papula
, J.
Romu
, H.
Hänninen
, R.
Mahlberg
, and M.
Heikkilä
, J. Electrochem. Soc.
155
, C62
(2008
).780.
K.
Fröhlich
, M.
Ťapajna
, A.
Rosová
, E.
Dobročka
, K.
Hušeková
, J.
Aarik
, and A.
Aidla
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, G19
(2008
).781.
L. K.
Tan
, M. A. S.
Chong
, and H.
Gao
, J. Phys. Chem. C
112
, 69
(2008
).782.
I.
Jõgi
, M.
Pärs
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, M.
Laan
, J.
Sundqvist
, L.
Oberbeck
, J.
Heitmann
, and K.
Kukli
, Thin Solid Films
516
, 4855
(2008
).783.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, J.
Lu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Non-Cryst. Solids
354
, 404
(2008
).784.
L. K.
Tan
, H.
Gao
, Y.
Zong
, and W.
Knoll
, J. Phys. Chem. C
112
, 17576
(2008
).785.
C. J. W.
Ng
, H.
Gao
, and T. T. Y.
Tan
, Nanotechnology
19
, 445604
(2008
).786.
D.
Mitchell
, G.
Triani
, and Z.
Zhang
, Thin Solid Films
516
, 8414
(2008
).787.
A. B. F.
Martinson
, J. W.
Elam
, J.
Liu
, M. J.
Pellin
, T. J.
Marks
, and J. T.
Hupp
, Nano Lett.
8
, 2862
(2008
).788.
Z.
Zhang
, G.
Triani
, and L.-J.
Fan
, J. Mater. Res.
23
, 2472
(2008
).789.
V. V.
Antipov
, A. P.
Belyaev
, A. A.
Malygin
, V. P.
Rubets
, and E. A.
Sosnov
, Russ. J. Appl. Chem.
81
, 2051
(2008
).790.
M.-L.
Kääriäinen
, T. O.
Kääriäinen
, and D. C.
Cameron
, Thin Solid Films
517
, 6666
(2009
).791.
J.
Lu
, K. M.
Kosuda
, R. P.
Van Duyne
, and P. C.
Stair
, J. Phys. Chem. C
113
, 12412
(2009
).792.
R. J.
Narayan
, N. A.
Monteiro-Riviere
, R. L.
Brigmon
, M. J.
Pellin
, and J. W.
Elam
, JOM
61
, 12
(2009
).793.
S.
Ghosal
, T. F.
Baumann
, J. S.
King
, S. O.
Kucheyev
, Y.
Wang
, M. A.
Worsley
, J.
Biener
, S. F.
Bent
, and A. V.
Hamza
, Chem. Mater.
21
, 1989
(2009
).794.
M. K.
Kumar
, L. K.
Tan
, N. N.
Gosvami
, and H.
Gao
, J. Phys. Chem. C
113
, 6381
(2009
).795.
H.-E.
Cheng
, C.-M.
Hsu
, and Y.-C.
Chen
, J. Electrochem. Soc.
156
, D275
(2009
).796.
K.
Nevalainen
, R.
Suihkonen
, P.
Eteläaho
, J.
Vuorinen
, P.
Järvelä
, N.
Isomäki
, C.
Hintze
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 929
(2009
).797.
S.
Vilhunen
, M.
Bosund
, M.-L.
Kääriäinen
, D.
Cameron
, and M.
Sillanpää
, Sep. Purif. Technol.
66
, 130
(2009
).798.
E.
Santala
, M.
Kemell
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Nanotechnology
20
, 035602
(2009
).799.
K.
Fröhlich
, J.
Aarik
, M.
Ťapajna
, A.
Rosová
, A.
Aidla
, E.
Dobročka
, and K.
Hušková
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 266
(2009
).800.
A. P.
Belyaev
, A. A.
Malygin
, V. V.
Antipov
, and V. P.
Rubets
, Phys. Solid State
51
, 495
(2009
).801.
S.-Y.
Lu
, C.-W.
Tang
, Y.-H.
Lin
, H.-F.
Kuo
, Y.-C.
Lai
, M.-Y.
Tsai
, H.
Ouyang
, and W.-K.
Hsu
, Appl. Phys. Lett.
96
, 231915
(2010
).802.
R.
Methaapanon
and S. F.
Bent
, J. Phys. Chem. C
114
, 10498
(2010
).803.
M.
Kemell
, E.
Härkönen
, V.
Pore
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Nanotechnology
21
, 035301
(2010
).804.
G.
Testa
, Y.
Huang
, L.
Zeni
, P. M.
Sarro
, and R.
Bernini
, IEEE Photon. Technol. Lett.
22
, 616
(2010
).805.
G.
Triani
, J. A.
Campbell
, P. J.
Evans
, J.
Davis
, B. A.
Latella
, and R. P.
Burford
, Thin Solid Films
518
, 3182
(2010
).806.
W.-J.
Lee
and M.-H.
Hon
, J. Phys. Chem. C
114
, 6917
(2010
).807.
H.
Guo
, M.
Kemell
, M.
Heikkilä
, and M.
Leskelä
, Appl. Catal. B
95
, 358
(2010
).808.
Y.-H.
Chang
, C.-M.
Liu
, Y.-C.
Tseng
, C.
Chen
, C.-C.
Chen
, and H.-E.
Cheng
, Nanotechnology
21
, 225602
(2010
).809.
H.-E.
Cheng
, S. H.
Hsiao
, and D.-M.
Lu
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, D19
(2010
).810.
A. A.
Malkov
, E. A.
Sosnov
, and A. A.
Malygin
, Russ. J. Appl. Chem.
83
, 1511
(2010
).811.
S. K.
Karuturi
, L.
Liu
, L. T.
Su
, Y.
Zhao
, H. J.
Fan
, X.
Ge
, S.
He
, and A. T. I.
Yoong
, J. Phys. Chem. C
114
, 14843
(2010
).812.
H.
Kumagai
, Y.
Tanaka
, M.
Murata
, Y.
Masuda
, and T.
Shinagawa
, J. Phys.: Condens. Matter
22
, 474008
(2010
).813.
L. K.
Tan
, M. K.
Kumar
, W. W.
An
, and H.
Gao
, ACS Appl. Mater. Interfaces
2
, 498
(2010
).814.
R. L.
Puurunen
, T.
Sajavaara
, E.
Santala
, V.
Miikkulainen
, T.
Saukkonen
, M.
Laitinen
, and M.
Leskelä
, J. Nanosci. Nanotechnol.
11
, 8101
(2011
).815.
H.
Kumagai
, M.
Matsumoto
, K.
Toyoda
, M.
Obara
, and M.
Suzuki
, Thin Solid Films
263
, 47
(1995
).816.
D. M.
King
, X.
Du
, A. S.
Cavanagh
, and A.
Weimer
, Nanotechnology
19
, 445401
(2008
).817.
V.
Sammelselg
, A.
Tarre
, J.
Lu
, J.
Aarik
, A.
Niilisk
, T.
Uustare
, I.
Netšipailo
, R.
Rammula
, R.
Pärna
, and A.
Rosental
, Surf. Coat. Technol.
204
, 2015
(2010
).818.
N. G.
Kubala
, P. C.
Rowlette
, and C. A.
Wolden
, J. Phys. Chem. C
113
, 16307
(2009
).819.
N. G.
Kubala
and C. A.
Wolden
, Thin Solid Films
518
, 6733
(2010
).820.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, T.
Uustare
, K.
Kukli
, V.
Sammelselg
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
193
, 277
(2002
).821.
I. L.
Soroka
, M.
Rooth
, J.
Lu
, M.
Boman
, P.
Svedlindh
, J. O.
Carlsson
, and A.
Hårsta
, J. Appl. Phys.
106
, 084313
(2009
).822.
M.
Rooth
, R. A.
Quinlan
, E.
Widenkvist
, J.
Lu
, H.
Grennberg
, B. C.
Holloway
, A.
Hårsta
, and U.
Jansson
, J. Cryst. Growth
311
, 373
(2009
).823.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Schusky
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, T.
Uustare
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
6
, 303
(2000
).824.
K.
Kukli
, A.
Aidla
, J.
Aarik
, M.
Schuisky
, A.
Hårsta
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Langmuir
16
, 8122
(2000
).825.
M.
Schuisky
, A.
Hårsta
, A.
Aidla
, K.
Kukli
, A.-A.
Kiisler
, and J.
Aarik
, J. Electrochem. Soc.
147
, 3319
(2000
).826.
M.
Schuisky
, J.
Aarik
, K.
Kukli
, A.
Aidla
, and A.
Hårsta
, Langmuir
17
, 5508
(2001
).827.
M.
Schuisky
, K.
Kukli
, J.
Aarik
, J.
Lu
, and A.
Hårsta
, J. Cryst. Growth
235
, 293
(2002
).828.
M.
Rose
, J.
Niinistö
, P.
Michalowski
, L.
Gerlich
, L.
Wilde
, I.
Endler
, and J. W.
Bartha
, J. Phys. Chem. C
113
, 21825
(2009
).829.
M.
Rose
, J. W.
Bartha
, and I.
Endler
, Appl. Surf. Sci.
256
, 3778
(2010
).830.
V.
Pore
, A.
Rahtu
, M.
Leskelä
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, and J.
Keinonen
, Chem. Vap. Deposition
10
, 143
(2004
).831.
M.
Kemell
, V.
Pore
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and M.
Lindén
, J. Am. Chem. Soc.
127
, 14178
(2005
).832.
M.
Kemell
, V.
Pore
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
12
, 419
(2006
).833.
P.
Alén
, M.
Vehkamäki
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
153
, G304
(2006
).834.
M.
Kemell
, V.
Pore
, J.
Tupala
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
19
, 1816
(2007
).835.
E.
Färm
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
517
, 972
(2008
).836.
M.
Heikkilä
, E.
Puukilainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Photochem. Photobiol., A
204
, 200
(2009
).837.
A.
Alekhin
, S.
Gudkova
, A.
Markeev
, A.
Mitiaev
, A.
Sigarev
, and V.
Toknova
, Appl. Surf. Sci.
257
, 186
(2010
).838.
M.
Popovici
, S.
Van Elshocht
, N.
Menou
, J.
Swerts
, D.
Pierreux
, A.
Delabie
, B.
Brijs
, T.
Conard
, K.
Opsomer
, J. W.
Maes
, D. J.
Wouters
, and J. A.
Kittl
, J. Electrochem. Soc.
157
, G1
(2010
).839.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and E.
Rauhala
, Chem. Mater.
6
, 556
(1994
).840.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, V.
Sammelselg
, T.
Uustare
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
370
, 163
(2000
).841.
J.
Aarik
, J.
Karlis
, H.
Mändar
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Appl. Surf. Sci.
181
, 339
(2001
).842.
A.
Rahtu
, K.
Kukli
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
13
, 817
(2001
).843.
I.-D.
Kim
, H. L.
Tuller
, H.-S.
Kim
, and J.-S.
Park
, Appl. Phys. Lett.
85
, 4705
(2004
).844.
J. J.
Wang
, X. G.
Deng
, R.
Varghese
, A.
Nikolov
, P.
Sciortino
, F.
Liu
, and L.
Chen
, Opt. Lett.
30
, 1864
(2005
).845.
A. P.
Alekhin
, G. I.
Lapushkin
, A. M.
Markeev
, A. A.
Sigarev
, and V. F.
Toknova
, J. Surf. Invest.
4
, 379
(2010
).846.
H.
Döring
, K.
Hashimoto
, and A.
Fujushima
, Ber. Bunsen-Ges. Phys. Chem.
96
, 620
(1992
).847.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, and P.
Haussalo
, Chem. Mater.
5
, 1174
(1993
).848.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, T.
Uustare
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
161
, 385
(2000
).849.
A.
Rahtu
and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
8
, 21
(2002
).850.
H.
Shin
, D.-K.
Jeong
, J.
Lee
, M. M.
Sung
, and J.
Kim
, Adv. Mater.
16
, 1197
(2004
).851.
J. W.
Lim
and S. J.
Yun
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, H33
(2004
).852.
D. K.
Jeong
, N. H.
Park
, S. H.
Jung
, W. G.
Jung
, H.
Shin
, J. G.
Lee
, and J. Y.
Kim
, Mater. Sci. Forum
449–452
, 1165
(2004
).853.
D.
Jeong
, J.
Lee
, H.
Shin
, J.
Lee
, J.
Kim
, and M.
Sung
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1249
(2004
).854.
J. W.
Lim
, S. J.
Yun
, and J. H.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, F73
(2004
).855.
E.
Seo
, J.
Lee
, H.
Sung-Suh
, and M.
Sung
, Chem. Mater.
16
, 1878
(2004
).856.
W. D.
Kim
, G. W.
Hwang
, O. S.
Kwon
, S. K.
Kim
, M.
Cho
, D. S.
Jeong
, S. W.
Lee
, M. H.
Seo
, C. S.
Hwang
, Y. S.
Min
, and Y. J.
Cho
, J. Electrochem. Soc.
152
, C552
(2005
).857.
A.
Sinha
, D. W.
Hess
, and C. L.
Henderson
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G330
(2006
).858.
K. S.
Park
, E. K.
Seo
, Y. R.
Do
, K.
Kim
, and M. M.
Sung
, J. Am. Chem. Soc.
128
, 858
(2006
).859.
S. K.
Kim
, G. W.
Hwang
, W. D.
Kim
, and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, F5
(2006
).860.
T.
Watanabe
, S.
Hoffmann-Eifert
, L.
Yang
, A.
Rudiger
, C.
Kugeler
, C. S.
Hwang
, and R.
Waser
, J. Electrochem. Soc.
154
, G134
(2007
).861.
S. H.
Qiu
and T. L.
Starr
, J. Electrochem. Soc.
154
, H472
(2007
).862.
B. H.
Lee
, M. K.
Ryu
, S. Y.
Choi
, K. H.
Lee
, S.
Im
, and M. M.
Sung
, J. Am. Chem. Soc.
129
, 16034
(2007
).863.
X.
Chen
, M.
Knez
, A.
Berger
, K.
Nielsch
, U.
Gösele
, and M.
Steinhart
, Angew. Chem., Int. Ed.
46
, 6829
(2007
).864.
Q.
Xie
, J.
Musschoot
, D.
Deduytsche
, R. L.
Van Meirhaeghe
, C.
Detavernier
, S.
Van den Berghe
, Y. L.
Jiang
, G. P.
Ru
, B. Z.
Li
, and X. P.
Qu
, J. Electrochem. Soc.
155
, H688
(2008
).865.
C.
Shan
, X.
Hou
, K.-L.
Choy
, and P.
Choquet
, Surf. Coat. Technol.
202
, 2147
–2151
(2008
).866.
C.
Shan
, X.
Hou
, and K.-L.
Choy
, Surf. Coat. Technol.
202
, 2399
–2402
(2008
).867.
D. M.
King
, X.
Liang
, Y.
Zhou
, C. S.
Carney
, L. F.
Hakim
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, Powder Technol.
183
, 356
(2008
).868.
G.-M.
Kim
, S.-M.
Lee
, G. H.
Michler
, H.
Roggendorf
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Chem. Mater.
20
, 3085
(2008
).869.
Y. M.
Hua
, W. P.
King
, and C. L.
Henderson
, Microelectron. Eng.
85
, 934
(2008
).870.
T. W.
Hamann
, A. B. F.
Martinson
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and J. T.
Hupp
, J. Phys. Chem. C
112
, 10303
(2008
).871.
T. W.
Hamann
, O. K.
Farha
, and J. T.
Hupp
, J. Phys. Chem. C
112
, 19756
(2008
).872.
A.
Langner
, M.
Knez
, F.
Müller
, and U.
Gösele
, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
93
, 399
(2008
).873.
H.
Kim
, E.
Pippel
, U.
Gösele
, and M.
Knez
, Langmuir
25
, 13284
(2009
).874.
S.-M.
Lee
, E.
Pippel
, U.
Gösele
, C.
Dresbach
, Y.
Qin
, C. V.
Chandran
, T.
Braeuniger
, G.
Hause
, and M.
Knez
, Science
324
, 488
(2009
).875.
Y.
Lin
, S.
Zhou
, X.
Liu
, S.
Sheehan
, and D.
Wang
, J. Am. Chem. Soc.
131
, 2772
(2009
).876.
A.
Kim
, H.
Park
, K.
Lee
, K.
Jeong
, C.
Kim
, E.
Lee
, and J.
Lee
, Electron. Mater. Lett.
5
, 35
(2009
).877.
Y.
Yang
, R.
Scholz
, H. J.
Fan
, D.
Hesse
, U.
Gösele
, and M.
Zacharias
, ACS Nano
3
, 555
(2009
).878.
J.
Joo
and S. M.
Rossnagel
, J. Korean Phys. Soc.
54
, 1048
(2009
).879.
H.
Kwon
, H.-H.
Park
, B.-H.
Kim
, and J. S.
Ha
, J. Electrochem. Soc.
156
, G13
(2009
).880.
Y.
Luo
, K.-D.
Kim
, H. O.
Seo
, M. J.
Kim
, W. S.
Tai
, K. H.
Lee
, D. C.
Lim
, and Y. D.
Kim
, Bull. Korean Chem. Soc.
31
, 1661
(2010
).881.
J.
Lee
, H.
Ju
, J. K.
Lee
, H. S.
Kim
, and J.
Lee
, Electrochem. Commun.
12
, 210
(2010
).882.
X.
Liang
, D. M.
King
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, J. Am. Ceram. Soc.
92
, 649
(2009
).883.
H.
Wang
, S.
Xu
, and R. G.
Gordon
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, G75
(2010
).884.
J.
Keränen
, E.
Iiskola
, C.
Guimon
, A.
Auroux
, and L.
Niinistö
, in Proceedings of the 8th International Symposium on Scientific Bases for the Preparation of Heterogeneous Catalysts, Louvain-la-Neuve, Belgium, 9-12 September
2002
, Stud. Surf. Sci. Catal.
, edited by E.
Gaigneaux
, D. E.
De Vos
, P.
Grange
, P. A.
Jacobs
, J. A.
Martens
, P.
Ruiz
, and G.
Poncelet
(Elsevier
, Amsterdam
, 2002
), Vol. 143
, pp. 777
–785
.885.
D.-S.
Kil
, J.-M.
Lee
, and J.-S.
Roh
, Chem. Vap. Deposition
8
, 195
(2002
).886.
A.
Niskanen
, K.
Arstila
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
13
, 152
(2007
).887.
J. Y.
Kim
, J. H.
Kim
, J. H.
Ahn
, P. K.
Park
, and S. W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
154
, H1008
(2007
).888.
V. R.
Rai
and S.
Agarwal
, J. Phys. Chem. C
113
, 12962
(2009
).889.
S.-W.
Nam
, M. J.
Rooks
, K.-B.
Kim
, and S. M.
Rossnagel
, Nano Lett.
9
, 2044
(2009
).890.
G.-J.
Choi
, S. K.
Kim
, S.-J.
Won
, H. J.
Kim
, and C. S.
Hwang
, J. Electrochem. Soc.
156
, G138
(2009
).891.
J.-S.
Park
, J. K.
Jeong
, Y.-G.
Mo
, and S.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
94
, 042105
(2009
).892.
D.-K.
Joo
, J.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, H77
(2009
).893.
B. J.
Choi
, S. H.
Oh
, S.
Choi
, T.
Eom
, Y. C.
Shin
, K. M.
Kim
, K.-W.
Yi
, C. S.
Hwang
, Y. J.
Kim
, H. C.
Park
, T. S.
Baek
, and S. K.
Hong
, J. Electrochem. Soc.
156
, H59
(2009
).894.
S.-W.
Nam
, M.-H.
Lee
, S.-H.
Lee
, D.-J.
Lee
, S. M.
Rossnagel
, and K.-B.
Kim
, Nano Lett.
10
, 3324
(2010
).895.
H. Y.
Jeong
, J. Y.
Lee
, M.-K.
Ryu
, and S.-Y.
Choi
, Phys. Status Solidi RRL
4
, 28
(2010
).896.
S.-W.
Kim
, T. H.
Han
, J.
Kim
, H.
Gwon
, H.-S.
Moon
, S.-W.
Kang
, S. O.
Kim
, and K.
Kang
, ACS Nano
3
, 1085
(2009
).897.
T. H.
Han
, J. K.
Oh
, J. S.
Park
, S.-H.
Kwon
, S.-W.
Kim
, and S. O.
Kim
, J. Mater. Chem.
19
, 3512
(2009
).898.
T. H.
Han
, H.-S.
Moon
, J. O.
Hwang
, S. I.
Seok
, S. H.
Im
, and S. O.
Kim
, Nanotechnology
21
, 185601
(2010
).899.
S. K.
Kim
, W.-D.
Kim
, K.-M.
Kim
, C. S.
Hwang
, and J.
Jeong
, Appl. Phys. Lett.
85
, 4112
(2004
).900.
S. K.
Kim
, K. M.
Kim
, O. S.
Kwon
, S. W.
Lee
, C. B.
Jeon
, W. Y.
Park
, C. S.
Hwang
, and J.
Jeong
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, F59
(2005
).901.
S. K.
Kim
, S. Y.
Lee
, M.
Seo
, G. J.
Choi
, and C. S.
Hwang
, J. Appl. Phys.
102
, 024109
(2007
).902.
S. K.
Kim
, G. J.
Choi
, and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, G27
(2008
).903.
V. R.
Rai
and S.
Agarwal
, J. Phys. Chem. C
112
, 9552
(2008
).904.
S. K.
Kim
, G. J.
Choi
, S. Y.
Lee
, M.
Seo
, S. W.
Lee
, J. H.
Han
, H. S.
Ahn
, S.
Han
, and C. S.
Hwang
, Adv. Mater.
20
, 1429
(2008
).905.
S. K.
Kim
, G. J.
Choi
, J. H.
Kim
, and C. S.
Hwang
, Chem. Mater.
20
, 3723
(2008
).906.
G.-J.
Choi
, S. K.
Kim
, S. Y.
Lee
, W. Y.
Park
, M.
Seo
, B. J.
Choi
, and C. S.
Hwang
, J. Electrochem. Soc.
156
, G71
(2009
).907.
S.-J.
Won
, S.
Suh
, S. W.
Lee
, G.-J.
Choi
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, G13
(2010
).908.
E.
Rauwel
, G.
Clavel
, M.-G.
Willinger
, P.
Rauwel
, and N.
Pinna
, Angew. Chem., Int. Ed.
47
, 3592
(2008
).909.
E.
Rauwel
, M. G.
Willinger
, F.
Ducroquet
, P.
Rauwel
, I.
Matko
, D.
Kiselev
, and N.
Pinna
, J. Phys. Chem. C
112
, 12754
(2008
).910.
M.-G.
Willinger
, G.
Neri
, A.
Bonavita
, G.
Micali
, E.
Rauwel
, T.
Herntrich
, and N.
Pinna
, Phys. Chem. Chem. Phys.
11
, 3615
(2009
).911.
E.
Rauwel
, F.
Ducroquet
, P.
Rauwel
, M. G.
Willinger
, I.
Matko
, and N.
Pinna
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 230
(2009
).912.
J. P.
Lee
, M. H.
Park
, T. M.
Chung
, Y.
Kim
, and M. M.
Sung
, Bull. Korean Chem. Soc.
25
, 475
(2004
).913.
T.
Watanabe
, S.
Hoffmann-Eifert
, C. S.
Hwang
, and R.
Waser
, J. Electrochem. Soc.
153
, F199
(2006
).914.
Q.
Xie
, Y. L.
Jiang
, C.
Detavernier
, D.
Deduytsche
, R. L.
Van Meirhaeghe
, G. P.
Ru
, B. Z.
Li
, and X. P.
Qu
, J. Appl. Phys.
102
, 083521
(2007
).915.
T.
Watanabe
, S.
Hoffmann-Eifert
, F.
Peter
, S.
Mi
, C.
Jia
, C. S.
Hwang
, and R.
Waser
, J. Electrochem. Soc.
154
, G262
(2007
).916.
S. K.
Kim
, S.
Hoffmann-Eifert
, S.
Mi
, and R.
Waser
, J. Electrochem. Soc.
156
, D296
(2009
).917.
L. I.
Chernaya
, P. E.
Matkovskii
, V. M.
Rudakov
, Yu. M.
Shul'ga
, I. V.
Markov
, V. I.
Tomilo
, and Z. G.
Busheva
, Zh. Obshch. Khim.
62
, 28
(1992
)L. I.
Chernaya
, P. E.
Matkovskii
, V. M.
Rudakov
, Yu. M.
Shul'ga
, I. V.
Markov
, V. I.
Tomilo
, and Z. G.
Busheva
, [J. Gen. Chem. USSR
62
, 21
(1992
)].918.
W. J.
Maeng
and H.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G191
(2006
).919.
I.
Alessandri
, M.
Zucca
, M.
Ferroni
, E.
Bontempi
, and L. E.
Depero
, Small
5
, 336
(2009
).920.
T.
Gougousi
and J. W.
Lacis
, Thin Solid Films
518
, 2006
(2010
).921.
I.
Alessandri
and L. E.
Depero
, ACS Appl. Mater. Interfaces
2
, 594
(2010
).922.
E.
Bontempi
, P.
Zanola
, M.
Gelfi
, M.
Zucca
, L. E.
Depero
, B.
Girault
, P.
Goudeau
, G.
Geandier
, E.
Le Bourhis
, and P.-O.
Renault
, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B
268
, 365
(2010
).923.
K.
Gerasopoulos
, X.
Chen
, J.
Culver
, C.
Wang
, and R.
Ghodssi
, Chem. Comm.
46
, 7349
(2010
).924.
E. R.
Cleveland
, P.
Banerjee
, I.
Perez
, S. B.
Lee
, and G. W.
Rubloff
, ACS Nano
4
, 4637
(2010
).925.
M.
Rose
and J. W.
Bartha
, Appl. Surf. Sci.
255
, 6620
(2009
).926.
J.-J.
Park
, W.-J.
Lee
, G.-H.
Lee
, I.-S.
Kim
, B.-C.
Shin
, and S.-G.
Yoon
, Integr. Ferroelectr.
68
, 129
(2004
).927.
C.-S.
Lee
, J.
Kim
, J. Y.
Son
, W.
Choi
, and H.
Kim
, Appl. Catal. B
91
, 628
(2009
).928.
C.-S.
Lee
, J.
Kim
, J. Y.
Son
, W. J.
Maeng
, D.-H.
Jo
, W.
Choi
, and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
156
, D188
(2009
).929.
B.-W.
Kang
, W.-S.
Kim
, C.-M.
Hwang
, D.-Y.
Moon
, J.-J.
Kim
, J.-G.
Park
, and J.-W.
Park
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 08JG05
(2010
).930.
C.-S.
Lee
, J.
Kim
, G. H.
Gu
, D.-H.
Jo
, C. G.
Park
, W.
Choi
, and H.
Kim
, Thin Solid Films
518
, 4757
(2010
).931.
J. C. F.
Rodríguez-Reyes
and A. V.
Teplyakov
, J. Phys. Chem. C
112
, 9695
(2008
).932.
Y. A.
Wasslen
, E.
Tois
, S.
Haukka
, K. A.
Kreisel
, G. P. A.
Yap
, M. D.
Halls
, and S. T.
Barry
, Inorg. Chem.
49
, 1976
(2010
).933.
L.
Hiltunen
, M.
Leskelä
, M.
Mäkelä
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, and P.
Soininen
, Thin Solid Films
166
, 149
(1988
).934.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, E.
Rauhala
, and P.
Haussalo
, J. Electrochem. Soc.
142
, 2731
(1995
).935.
M.
Ritala
, T.
Asikainen
, M.
Leskelä
, J.
Jokinen
, R.
Lappalainen
, M.
Utriainen
, L.
Niinistö
, and E.
Ristolainen
, Appl. Surf. Sci.
120
, 199
(1997
).936.
P.
Mårtensson
, M.
Juppo
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and J.-O.
Carlsson
, J. Vac. Sci. Technol. B
17
, 2122
(1999
).937.
J.
Uhm
, S.
Lee
, J.
Lee
, Y. D.
Kim
, H.
Jeon
, T.
Cha
, and K.
Yi
, J. Korean Phys. Soc.
35
, S765
(1999
).938.
H.
Jeon
, J.-W.
Lee
, Y.-D.
Kim
, D.-S.
Kim
, and K.-S.
Yi
, J. Vac. Sci. Technol. A
18
, 1595
(2000
).939.
C. H.
Ahn
, S. G.
Cho
, H. J.
Lee
, K. H.
Park
, and S. H.
Jeong
, Met. Mater. Int.
7
, 621
(2001
).940.
J.
Uhm
and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
40
, 4657
(2001
).941.
M.
Juppo
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
14
, 281
(2002
).942.
A.
Satta
, J.
Schuhmacher
, C. M.
Whelan
, W.
Vandervorst
, S. H.
Brongersma
, G. P.
Beyer
, K.
Maex
, A.
Vantomme
, M. M.
Viitanen
, H. H.
Brongersma
, and W. F. A.
Besling
, J. Appl. Phys.
92
, 7641
(2002
).943.
S.
Li
, Z. L.
Dong
, B. K.
Lim
, M. H.
Liang
, C. Q.
Sun
, W.
Gao
, H. S.
Park
, and T.
White
, J. Phys. Chem. B
106
, 12797
(2002
).944.
K.-E.
Elers
, V.
Saanila
, P. J.
Soininen
, J. T.
Kostamo
, S.
Haukka
, J.
Juhanoja
, and W. F. A.
Besling
, Chem. Vap. Deposition
8
, 149
(2002
).945.
K.-E.
Elers
, V.
Saanila
, W.-M.
Li
, P. J.
Soininen
, J. T.
Kostamo
, S.
Haukka
, J.
Juhanoja
, and W. F. A.
Besling
, Thin Solid Films
434
, 94
(2003
).946.
J.
Kim
, H.
Hong
, S.
Ghosh
, K.-Y.
Oh
, and C.
Lee
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
42
, 1375
(2003
).947.
J.
Kim
, H.
Hong
, K.
Oh
, and C.
Lee
, Appl. Surf. Sci.
210
, 231
(2003
).948.
A.
Satta
, A.
Vantomme
, J.
Schuhmacher
, C. M.
Whelan
, V.
Sutcliffe
, and K.
Maex
, Appl. Phys. Lett.
84
, 4571
(2004
).949.
S. C.
Song
, B. H.
Lee
, Z.
Zhang
, K.
Choi
, S. H.
Bae
, and P.
Zeitzoff
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G261
(2005
).950.
K. E.
Elers
, J.
Winkler
, K.
Weeks
, and S.
Marcus
, J. Electrochem. Soc.
152
, G589
(2005
).951.
K.
Choi
, P.
Lysaght
, H.
Alshareef
, C.
Huffman
, H. C.
Wen
, R.
Harris
, H.
Luan
, P. Y.
Hung
, C.
Sparks
, M.
Cruz
, K.
Matthews
, P.
Majhi
, and B. H.
Lee
, Thin Solid Films
486
, 141
(2005
).952.
H. E.
Cheng
, W. J.
Lee
, and C. M.
Hsu
, Thin Solid Films
485
, 59
(2005
).953.
H.
Tiznado
and F.
Zaera
, J. Phys. Chem. B
110
, 13491
(2006
).954.
M. Q.
Snyder
, B. A.
McCool
, J.
DiCarlo
, C. P.
Tripp
, and W. J.
DeSisto
, Thin Solid Films
514
, 97
(2006
).955.
H. E.
Cheng
and W. J.
Lee
, Mater. Chem. Phys.
97
, 315
(2006
).956.
M. Q.
Snyder
, S. A.
Trebukhova
, B.
Ravdel
, M. C.
Wheeler
, J.
DiCarlo
, C. P.
Tripp
, and W. J.
DeSisto
, J. Power Sources
165
, 379
(2007
).957.
M.
Bosund
, A.
Aierken
, J.
Tiilikainen
, T.
Hakkarainen
, and H.
Lipsanen
, Appl. Surf. Sci.
254
, 5385
(2008
).958.
J. S.
Park
and S. W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, C87
(2004
).959.
S. B. S.
Heil
, E.
Langereis
, A.
Kemmeren
, F.
Roozeboom
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, L5
(2005
).960.
S. B. S.
Heil
, E.
Langereis
, F.
Roozeboom
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
153
, G956
(2006
).961.
E.
Langereis
, S. B. S.
Heil
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
100
, 023534
(2006
).962.
J. S.
Park
, S. W.
Kang
, and H.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 1327
(2006
).963.
S. B. S.
Heil
, J. L.
van Hemmen
, C. J.
Hodson
, N.
Singh
, J. H.
Klootwijk
, F.
Roozeboom
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
25
, 1357
(2007
).964.
H. C. M.
Knoops
, L.
Baggetto
, E.
Langereis
, M. C. M.
van de Sanden
, J. H.
Klootwijk
, F.
Roozeboom
, R. A. H.
Niessen
, P. H. L.
Notten
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
155
, G287
(2008
).965.
J.-D.
Kwon
and J.-S.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
57
, 806
(2010
).966.
M.
Juppo
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
147
, 3377
(2000
).967.
M.
Juppo
, P.
Alén
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Electrochem. Solid-State Lett.
5
, C4
(2002
).968.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, E.
Rauhala
, and J.
Jokinen
, J. Electrochem. Soc.
145
, 2914
(1998
).969.
J.-S.
Min
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, Appl. Phys. Lett.
75
, 1521
(1999
).970.
J.-W.
Lim
, J.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Appl. Phys.
87
, 4632
(2000
).971.
J.-W.
Lim
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Appl. Phys.
88
, 6327
(2000
).972.
J.-W.
Lim
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
148
, C403
(2001
).973.
J. H.
Yun
, E. S.
Choi
, C. M.
Jang
, and C. S.
Lee
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
41
, L418
(2002
).974.
J. Y.
Kim
, H. K.
Kim
, Y.
Kim
, Y. D.
Kim
, W. M.
Kim
, and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
40
, 176
(2002
).975.
H. K.
Kim
, J. Y.
Kim
, J. Y.
Park
, Y.
Kim
, Y. D.
Kim
, H.
Jeon
, and W. M.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
41
, 739
(2002
).976.
J. W.
Elam
, M.
Schuisky
, J. D.
Ferguson
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
436
, 145
(2003
).977.
J. Y.
Kim
, G. H.
Choi
, Y. D.
Kim
, Y.
Kim
, and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
42
, 4245
(2003
).978.
S. G.
Park
and D.-H.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
43
, 303
(2004
).979.
980.
F.
Fillot
, T.
Morel
, S.
Minoret
, I.
Matko
, S.
Maitrejean
, B.
Guillaumot
, B.
Chenevier
, and T.
Billon
, Microelectron. Eng.
82
, 248
(2005
).981.
A.
Dube
, M.
Sharma
, P. F.
Ma
, and J. R.
Engstrom
, Appl. Phys. Lett.
89
, 164106
(2006
).982.
J. C. F.
Rodríguez-Reyes
and A. V.
Teplyakov
, J. Phys. Chem. C
111
, 4800
(2007
).983.
J. C. F.
Rodríguez-Reyes
and A. V.
Teplyakov
, J. Phys. Chem. C
111
, 16498
(2007
).984.
A.
Dube
, M.
Sharma
, P. F.
Ma
, P. A.
Ercius
, D. A.
Muller
, and J. R.
Engstrom
, J. Phys. Chem. C
111
, 11045
(2007
).985.
G. K.
Hyde
, S. D.
McCullen
, S.
Jeon
, S. M.
Stewart
, H.
Jeon
, E. G.
Loboa
, and G. N.
Parsons
, Biomed. Mater.
4
, 025001
(2009
).986.
J.
Musschoot
, Q.
Xie
, D.
Deduytsche
, S.
Van den Berghe
, R. L.
Van Meirhaeghe
, and C.
Detavernier
, Microelectron. Eng.
86
, 72
(2009
).987.
T.
Hayashida
, K.
Endo
, Y.
Liu
, T.
Kamei
, T.
Matsukawa
, S.-i.
O'uchi
, K.
Sakamoto
, J.
Tsukada
, Y.
Ishikawa
, H.
Yamauchi
, A.
Ogura
, and M.
Masahara
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 04DA16
(2010
).988.
J. Y.
Kim
, D. Y.
Kim
, H. O.
Park
, and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1639
(2004
).989.
J. Y.
Kim
, D. Y.
Kim
, H. O.
Park
, and H.
Jeon
, J. Electrochem. Soc.
152
, G29
(2005
).990.
S.
Jeon
and S.
Park
, J. Electrochem. Soc.
157
, H930
(2010
).991.
J. Y.
Kim
, Y.
Kim
, and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
42
, L414
(2003
).992.
D.-H.
Kim
, Y. J.
Kim
, J.-H.
Park
, and J. H.
Kim
, Mater. Sci. Eng. C
24
, 289
(2004
).993.
J. Y.
Kim
, S.
Seo
, D. Y.
Kim
, H.
Jeon
, and Y.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. A
22
, 8
(2004
).994.
S. H.
Kwon
, O. K.
Kwon
, J. S.
Min
, and S. W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
153
, G578
(2006
).995.
P.
Caubet
, T.
Blomberg
, R.
Benaboud
, C.
Wyon
, E.
Blanquet
, J. P.
Gonchond
, M.
Juhel
, P.
Bouvet
, M.
Gros-Jean
, J.
Michailos
, C.
Richard
, and B.
Iteprat
, J. Electrochem. Soc.
155
, H625
(2008
).996.
J.-S.
Min
, Y.-W.
Son
, W.-G.
Kang
, S.-S.
Chun
, and S.-W.
Kang
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
37
, 4999
(1998
).997.
D.-J.
Kim
, Y.-B.
Jung
, M.-B.
Lee
, Y.-H.
Lee
, J.-H.
Lee
, and J.-H.
Lee
, Thin Solid Films
372
, 276
(2000
).998.
B.-C.
Kan
, J.-H.
Boo
, I.
Lee
, and F.
Zaera
, J. Phys. Chem. A
113
, 3946
(2009
).999.
V.
Pore
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
13
, 163
(2007
).1000.
A.
Rahtu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
13
, 1528
(2001
).1001.
1002.
A. A.
Malygin
, A. N.
Volkova
, S. I.
Kol'tsov
, and A. A.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
43
, 1436
(1972
)A. A.
Malygin
, A. N.
Volkova
, S. I.
Kol'tsov
, and A. A.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
43
, 1426
(1973
)].1003.
W.
Hanke
, R.
Bienert
, and H.-G.
Jerschkewitz
, Z. Anorg. Allg. Chem.
414
, 109
(1975
).1004.
W.
Hanke
, K.
Heise
, H.-G.
Jerschkewitz
, G.
Lischke
, G.
Öhlmann
, and B.
Parlitz
, Z. Anorg. Allg. Chem.
438
, 176
(1978
).1005.
I.
Povey
, M.
Bardosova
, F.
Chalvet
, M.
Pemble
, and H.
Yates
, Surf. Coat. Technol.
201
, 9345
(2007
).1006.
J. C.
Badot
, S.
Ribes
, E. B.
Yousfi
, V.
Vivier
, J. P.
Pereira-Ramos
, N.
Baffier
, and D.
Lincot
, Electrochem. Solid-State Lett.
3
, 485
(2000
).1007.
J. C.
Badot
, A.
Mantoux
, N.
Baffier
, O.
Dubrunfaut
, and D.
Lincot
, J. Mater. Chem.
14
, 3411
(2004
).1008.
K.
Le Van
, H.
Groult
, A.
Mantoux
, L.
Perrigaud
, F.
Lantelme
, R.
Lindström
, R.
Badour-Hadjean
, S.
Zanna
, and D.
Lincot
, J. Power Sources
160
, 592
(2006
).1009.
H.
Groult
, E.
Balnois
, A.
Mantoux
, K.
Le Van
, and D.
Lincot
, Appl. Surf. Sci.
252
, 5917
(2006
).1010.
J.
Musschoot
, D.
Deduytsche
, H.
Poelman
, J.
Haemers
, R. L.
Van Meirhaeghe
, S.
Van den Berghe
, and C.
Detavernier
, J. Electrochem. Soc.
156
, P122
(2009
).1011.
J. W.
Elam
, G.
Xiong
, C. Y.
Han
, H. H.
Wang
, J. P.
Birrell
, U.
Welp
, J. N.
Hryn
, M. J.
Pellin
, T. F.
Baumann
, J. F.
Poco
, and J. H.
Satcher
, J. Nanomater
2006
, 64501
.1012.
J.
Keränen
, C.
Guimon
, E.
Iiskola
, A.
Auroux
, and L.
Niinistö
, J. Phys. Chem. B
107
, 10773
(2003
).1013.
J.
Keränen
, C.
Guimon
, A.
Auroux
, E. I.
Iiskola
, and L.
Niinistö
, Phys. Chem. Chem. Phys.
5
, 5333
(2003
).1014.
J.
Keränen
, C.
Guimon
, E.
Iiskola
, A.
Auroux
, and L.
Niinistö
, Catal. Today
78
, 149
(2003
).1015.
M.-G.
Willinger
, G.
Neri
, E.
Rauwel
, A.
Bonavita
, G.
Micali
, and N.
Pinna
, Nano Lett.
8
, 4201
(2008
).1016.
S.
Santangelo
, G.
Messina
, G.
Faggio
, M. G.
Willinger
, N.
Pinna
, A.
Donato
, A.
Arena
, N.
Donato
, and G.
Neri
, Diamond Relat. Mater.
19
, 590
(2010
).1017.
J.
Keränen
, A.
Auroux
, S.
Ek
, and L.
Niinistö
, Appl. Catal., A
228
, 213
(2002
).1018.
A.
Gervasini
, P.
Carniti
, J.
Keränen
, L.
Niinistö
, and A.
Auroux
, Catal. Today
96
, 187
(2004
).1019.
P.
Dagur
, A. U.
Mane
, and S.
Shivashankar
, J. Cryst. Growth
275
, e1223
(2005
).1020.
A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, V. M.
Smirnov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
42
, 1431
(1972
)A. N.
Volkova
, A. A.
Malygin
, V. M.
Smirnov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
42
, 1422
(1972
)].1021.
A. A.
Malygin
, A. N.
Volkova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Obshch. Khim.
42
, 2373
(1972
)A. A.
Malygin
, A. N.
Volkova
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Gen. Chem. USSR
42
, 2368
(1972
)].1022.
A. P.
Nechiporenko
, T. M.
Sukhareva
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
51
, 2447
(1978
)A. P.
Nechiporenko
, T. M.
Sukhareva
, A. A.
Malygin
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
51
, 2333
(1978
)].1023.
S. I.
Kol'tsov
, A. A.
Malygin
, and V. B.
Aleskovskii
, [Russ. J. Phys. Chem.
54
, 2331
(1980
)].1024.
A. P.
Nechiporenko
, G. K.
Shevchenko
, and S. I.
Kol'tsov
, Zh. Prikl. Khim.
55
, 1239
(1982
)A. P.
Nechiporenko
, G. K.
Shevchenko
, and S. I.
Kol'tsov
, [J. Appl. Chem. USSR
55
, 1133
(1982
)].1025.
G. N.
Kuznetsova
, T. V.
Shakina
, A. A.
Malygin
, and S. I.
Kol'tsov
, Kolloidn. Zh.
45
, 574
(1983
)G. N.
Kuznetsova
, T. V.
Shakina
, A. A.
Malygin
, and S. I.
Kol'tsov
, [Colloid J. USSR
45
, 503
(1983
)].1026.
Y. K.
Ezhovskii
and M. A.
Kirillova
, Inorg. Mater.
43
, 1318
(2007
).1027.
E. A.
Sosnov
, V. P.
Dorofeev
, A. A.
Malkov
, A. A.
Malygin
, N. A.
Kulikov
, and G. L.
Brusilovsky
, Semiconductors
41
, 498
(2007
).1028.
Y. K.
Ezhovskii
and V. Y.
Kholkin
, Russ. J. Phys. Chem. A
82
, 1154
(2008
).1029.
Y. K.
Ezhovskii
and A. L.
Egorov
, Inorg. Mater.
42
, 368
(2006
).1030.
H.
Mändar
, T.
Uustare
, J.
Aarik
, A.
Tarre
, and A.
Rosental
, Thin Solid Films
515
, 4570
(2007
).1031.
A.
Tarre
, J.
Aarik
, H.
Mändar
, A.
Niilisk
, R.
Pärna
, R.
Rammula
, T.
Uustare
, A.
Rosental
, and V.
Sammelselg
, Appl. Surf. Sci.
254
, 5149
(2008
).1032.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
75
, 220
(1994
).1033.
A.
Kytökivi
, J.-P.
Jacobs
, A.
Hakuli
, J.
Meriläinen
, and H. H.
Brongersma
, J. Catal.
162
, 190
(1996
).1034.
A.
Hakuli
, A.
Kytökivi
, and A. O. I.
Krause
, Appl. Catal., A
190
, 219
(2000
).1035.
J. M.
Kanervo
and A. O. I.
Krause
, J. Phys. Chem. B
105
, 9778
(2001
).1036.
R. L.
Puurunen
, S. M. K.
Airaksinen
, and A. O. I.
Krause
, J. Catal.
213
, 281
(2003
).1037.
B. B.
Burton
, F. H.
Fabreguette
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
517
, 5658
(2009
).1038.
O.
Nilsen
, M.
Peussa
, H.
Fjellvåg
, L.
Niinistö
, and A.
Kjekshus
, J. Mater. Chem.
9
, 1781
(1999
).1039.
O.
Nilsen
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Thin Solid Films
444
, 44
(2003
).1040.
O.
Nilsen
, S.
Foss
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Thin Solid Films
468
, 65
(2004
).1041.
S.
Foss
, O.
Nilsen
, A.
Olsen
, and J.
Tafto
, Philos. Mag.
85
, 2689
(2005
).1042.
M. A.
Herman
, O.
Jylhä
, and M.
Pessa
, J. Cryst. Growth
66
, 480
(1984
).1043.
M.
Pessa
and O.
Jylhä
, Appl. Phys. Lett.
45
, 646
(1984
).1044.
W.
Faschinger
, F.
Hauzenberger
, P.
Juza
, A.
Pesek
, and H.
Sitter
, J. Electron. Mater.
22
, 497
(1993
).1045.
W.
Faschinger
, Phys. Scr., T
49
, 492
(1993
).1046.
J. M.
Hartmann
, G.
Feuillet
, M.
Charleux
, and H.
Mariette
, J. Appl. Phys.
79
, 3035
(1996
).1047.
J. M.
Hartmann
, M.
Charleux
, J. L.
Rouvière
, and H.
Mariette
, Appl. Phys. Lett.
70
, 1113
(1997
).1048.
S.
Kuroda
, Y.
Terai
, K.
Takita
, T.
Okuno
, and Y.
Masumoto
, J. Cryst. Growth
184/185
, 274
(1998
).1049.
F.
Kany
, J. M.
Hartmann
, H.
Ulmer-Tuffigo
, and H.
Mariette
, Superlattices Microstruct.
23
, 1359
(1998
).1050.
J. M.
Hartmann
, F.
Kany
, M.
Charleux
, Y.
Samson
, J. L.
Rouvière
, and H.
Mariette
, J. Appl. Phys.
84
, 4300
(1998
).1051.
J. M.
Hartmann
, F.
Kany
, F.
Chautain
, J. L.
Rouvière
, A.
Wasiela
, and H.
Mariette
, J. Cryst. Growth
184/185
, 279
(1998
).1052.
M.
Ozeki
, T.
Haraguchi
, and A.
Fujita
, J. Cryst. Growth
298
, 90
(2007
).1053.
B. S.
Lim
, A.
Rahtu
, and R. G.
Gordon
, Nature Mater.
2
, 749
(2003
).1054.
M.
Aronniemi
, J.
Saino
, and J.
Lahtinen
, Thin Solid Films
516
, 6110
(2008
).1055.
M.
de Ridder
, P. C.
van de Ven
, R. G.
van Welzenis
, H. H.
Brongersma
, S.
Helfensteyn
, C.
Creemers
, P.
Van Der Voort
, M.
Baltes
, M.
Mathieu
, and E. F.
Vansant
, J. Phys. Chem. B
106
, 13146
(2002
).1056.
K.
Zhou
, J.-Q.
Huang
, Q.
Zhang
, and F.
Wei
, Nanoscale Res. Lett.
5
, 1555
(2010
).1057.
O.
Nilsen
, M.
Lie
, S.
Foss
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Appl. Surf. Sci.
227
, 40
(2004
).1058.
M.
Lie
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Thin Solid Films
488
, 74
(2005
).1059.
L.
Hannevold
, O.
Nilsen
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, Appl. Catal., A
284
, 177
(2005
).1060.
M.
Lie
, K. B.
Klepper
, O.
Nilsen
, H.
Fjellvåg
, and A.
Kjekshus
, Dalton Trans.
2008
, 253
.1061.
J. A.
Libera
, J. W.
Elam
, N. F.
Sather
, T.
Rajh
, and N. M.
Dimitrijevic
, Chem. Mater.
22
, 409
(2010
).1062.
M.
Rooth
, A.
Johansson
, K.
Kukli
, J.
Aarik
, M.
Boman
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
14
, 67
(2008
).1063.
J. R.
Scheffe
, A.
Frances
, D. M.
King
, X.
Liang
, B. A.
Branch
, A. S.
Cavanagh
, S. M.
George
, and A. W.
Weimer
, Thin Solid Films
517
, 1874
(2009
).1064.
J.
Escrig
, J.
Bachmann
, J.
Jing
, M.
Daub
, D.
Altbir
, and K.
Nielsch
, Phys. Rev. B
77
, 214421
(2008
).1065.
J.
Bachmann
, J.
Escrig
, K.
Pitzschel
, J. M.
Montero Moreno
, J.
Jing
, D.
Goerlitz
, D.
Altbir
, and K.
Nielsch
, J. Appl. Phys.
105
, 07B521
(2009
).1066.
J.
Bachmann
, J.
Jing
, M.
Knez
, S.
Barth
, H.
Shen
, S.
Mathur
, U.
Gösele
, and K.
Nielsch
, J. Am. Chem. Soc.
129
, 9554
(2007
).1067.
Z. W.
Li
, R. G.
Gordon
, D. B.
Farmer
, Y. B.
Lin
, and J.
Vlassak
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G182
(2005
).1068.
H.-B.-R.
Lee
, W.-H.
Kim
, J. W.
Lee
, J.-M.
Kim
, K.
Heo
, I. C.
Hwang
, Y.
Park
, S.
Hong
, and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
157
, D10
(2010
).1069.
H.-B.-R.
Lee
, J.
Kim
, H.
Kim
, W.-H.
Kim
, J. W.
Lee
, and I.
Hwang
, J. Korean Phys. Soc.
56
, 104
(2010
).1070.
J.-M.
Kim
, H. -B.-R.
Lee
, C.
Lansalot
, C.
Dussarrat
, J.
Gatineau
, and H.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 05FA10
(2010
).1071.
H. B. R.
Lee
, J. Y.
Son
, and H.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
90
, 213509
(2007
).1072.
H. -B.-R.
Lee
, G. H.
Gu
, J. Y.
Son
, C. G.
Park
, and H.
Kim
, Small
4
, 2247
(2008
).1073.
H. B. R.
Lee
and H.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G323
(2006
).1074.
K.
Lee
, K.
Kim
, H.
Jeon
, Y.
Lee
, J.
Kim
, and S.
Yeom
, J. Korean Phys. Soc.
50
, 1141
(2007
).1075.
K.
Kim
, K.
Lee
, S.
Han
, T.
Park
, Y.
Lee
, J.
Kim
, S.
Yeom
, and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
46
, L173
(2007
).1076.
K.
Lee
, K.
Kim
, T.
Park
, H.
Jeon
, Y.
Lee
, J.
Kim
, and S.
Yeom
, J. Electrochem. Soc.
154
, H899
(2007
).1077.
K.
Kim
, K.
Lee
, S.
Han
, W.
Jeong
, and H.
Jeon
, J. Electrochem. Soc.
154
, H177
(2007
).1078.
M.
Rooth
, E.
Lindahl
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
12
, 209
(2006
).1079.
L. B.
Backman
, A.
Rautiainen
, M.
Lindblad
, and A. O. I.
Krause
, Appl. Catal., A
191
, 55
(2000
).1080.
A.
Rautiainen
, M.
Lindblad
, L. B.
Backman
, and R. L.
Puurunen
, Phys. Chem. Chem. Phys.
4
, 2466
(2002
).1081.
L. B.
Backman
, A.
Rautiainen
, M.
Lindblad
, and A. O. I.
Krause
, Appl. Catal., A
360
, 183
(2009
).1082.
L. B.
Backman
, A.
Rautiainen
, A. O. I.
Krause
, and M.
Lindblad
, Catal. Today
43
, 11
(1998
).1083.
L. B.
Backman
, A.
Rautiainen
, M.
Lindblad
, O.
Jylhä
, and A. O. I.
Krause
, Appl. Catal., A
208
, 223
(2001
).1084.
V. G.
Milt
, M. A.
Ulla
, and E. A.
Lombardo
, Catal. Lett.
65
, 67
(2000
).1085.
V. G.
Milt
, M. A.
Ulla
, and E. A.
Lombardo
, J. Catal.
200
, 241
(2001
).1086.
V. G.
Milt
, E. A.
Lombardo
, and M. A.
Ulla
, Appl. Catal., B
37
, 63
(2002
).1087.
R. L.
Puurunen
, T. A.
Zeelie
, and A. O. I.
Krause
, Catal. Lett.
83
, 27
(2002
).1088.
H.
Seim
, M.
Nieminen
, L.
Niinistö
, H.
Fjellvåg
, and L.-S.
Johansson
, Appl. Surf. Sci.
112
, 243
(1997
).1089.
K. B.
Klepper
, O.
Nilsen
, and H.
Fjellvåg
, Thin Solid Films
515
, 7772
(2007
).1090.
K. B.
Klepper
, O.
Nilsen
, and H.
Fjellvåg
, J. Cryst. Growth
307
, 457
(2007
).1091.
H. -B.-R.
Lee
and H.
Kim
, J. Cryst. Growth
312
, 2215
(2010
).1092.
M.
Utriainen
, M.
Kröger-Laukkanen
, L.-S.
Johansson
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
157
, 151
(2000
).1093.
H. -B.-R.
Lee
, S.-H.
Bang
, W.-H.
Kim
, G. H.
Gu
, Y. K.
Lee
, T.-M.
Chung
, C. G.
Kim
, C. G.
Park
, and H.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
49
, 05FA11
(2010
).1094.
C.-M.
Yang
, S.-W.
Yun
, J.-B.
Ha
, K.-I.
Na
, H.-I.
Cho
, H.-B.
Lee
, J.-H.
Jeong
, S.-H.
Kong
, S.-H.
Hahm
, and J.-H.
Lee
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
46
, 1981
(2007
).1095.
J.-B.
Ha
, S.-W.
Yun
, and J.-H.
Lee
, Curr. Appl. Phys.
10
, 41
(2010
).1096.
J.
Chae
, H.-S.
Park
, and S. W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
5
, C64
(2002
).1097.
H. L.
Lu
, G.
Scarel
, M.
Alia
, M.
Fanciulli
, S. J.
Ding
, and D. W.
Zhang
, Appl. Phys. Lett.
92
, 22907
(2008
).1098.
S.
Spiga
, A.
Lamperti
, C.
Wiemer
, M.
Perego
, E.
Cianci
, G.
Tallarida
, H. L.
Lu
, M.
Alia
, F. G.
Volpe
, and M.
Fanciulli
, Microelectron. Eng.
85
, 2414
(2008
).1099.
A.
Lamperti
, S.
Spiga
, H. L.
Lu
, C.
Wiemer
, M.
Perego
, E.
Cianci
, M.
Alia
, and M.
Fanciulli
, Microelectron. Eng.
85
, 2425
(2008
).1100.
H. L.
Lu
, G.
Scarel
, C.
Wiemer
, M.
Perego
, S.
Spiga
, M.
Fanciulli
, and G.
Pavia
, J. Electrochem. Soc.
155
, H807
(2008
).1101.
B. S.
So
, Y. H.
You
, K. H.
Kim
, J.
Hwang
, W.
Cho
, S. S.
Lee
, T. M.
Chung
, Y. K.
Lee
, C. G.
Kim
, K. S.
An
, Y. C.
Kim
, Y. H.
Lee
, and W. S.
Seo
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, J61
(2007
).1102.
T. S.
Yang
, W. T.
Cho
, M.
Kim
, K. S.
An
, T. M.
Chung
, C. G.
Kim
, and Y.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 1238
(2005
).1103.
J. H.
Yang
, S. Y.
Lee
, W. S.
Song
, Y. S.
Shin
, C. Y.
Park
, H. J.
Kim
, W.
Cho
, and K. S.
An
, J. Vac. Sci. Technol. B
26
, 1021
(2008
).1104.
M.
Lindblad
, L. P.
Lindfors
, and T.
Suntola
, Catal. Lett.
27
, 323
(1994
).1105.
J. P.
Jacobs
, L. P.
Lindfors
, J. G. H.
Reintjes
, O.
Jylhä
, and H. H.
Brongersma
, Catal. Lett.
25
, 315
(1994
).1106.
P.
Mäki-Arvela
, L. P.
Tiainen
, M.
Lindblad
, K.
Demirkan
, R. S. N.
Kumar
, T.
Ollonqvist
, J.
Väyrynen
, T.
Salmi
, and D.
Yu. Murzin
, Appl. Catal., A
241
, 271
(2003
).1107.
M.
Utriainen
, M.
Kröger-Laukkanen
, and L.
Niinistö
, Mater. Sci. Eng., B
54
, 98
(1998
).1108.
E.
Lindahl
, M.
Ottosson
, and J.-O.
Carlsson
, Chem. Vap. Deposition
15
, 186
(2009
).1109.
E.
Lindahl
, J.
Lu
, M.
Ottosson
, and J. O.
Carlsson
, J. Cryst. Growth
311
, 4082
(2009
).1110.
E.
Lindahl
, M.
Ottosson
, and J.-O.
Carlsson
, Surf. Coat. Technol.
205
, 710
(2010
).1111.
H.
Seim
, H.
Mölsä
, M.
Nieminen
, H.
Fjellvåg
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
7
, 449
(1997
).1112.
P.
Mårtensson
and J.-O.
Carlsson
, Chem. Vap. Deposition
3
, 45
(1997
).1113.
T.
Törndahl
, M.
Ottosson
, and J.-O.
Carlsson
, Thin Solid Films
458
, 129
(2004
).1114.
A.
Johansson
, T.
Törndahl
, L. M.
Ottosson
, M.
Boman
, and J.-O.
Carlsson
, Mater. Sci. Eng., C
23
, 823
(2003
).1115.
M.
Juppo
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. A
15
, 2330
(1997
).1116.
A.
Niskanen
, A.
Rahtu
, T.
Sajavaara
, K.
Arstila
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
152
, G25
(2005
).1117.
L.
Wu
and E.
Eisenbraun
, J. Vac. Sci. Technol. B
25
, 2581
(2007
).1118.
L.
Wu
and E.
Eisenbraun
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, H107
(2008
).1119.
P.
Mårtensson
and J.-O.
Carlsson
, J. Electrochem. Soc.
145
, 2926
(1998
).1120.
A. U.
Mane
and S. A.
Shivashankar
, Mater. Sci. Semicond. Process.
7
, 343
(2004
).1121.
R.
Gupta
and B. G.
Willis
, Appl. Phys. Lett.
90
, 253102
(2007
).1122.
I. J.
Hsu
, B. E.
McCandless
, C.
Weiland
, and B. G.
Willis
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 660
(2009
).1123.
C.
Jezewski
, W. A.
Lanford
, C. J.
Wiegand
, J. P.
Singh
, P. I.
Wang
, J. J.
Senkevich
, and T. M.
Lu
, J. Electrochem. Soc.
152
, C60
(2005
).1124.
R.
Solanki
and B.
Pathangey
, Electrochem. Solid-State Lett.
3
, 479
(2000
).1125.
S.-W.
Kang
, J.-Y.
Yun
, and Y. H.
Chang
, Chem. Mater.
22
, 1607
(2010
).1126.
D.-Y.
Moon
, W.-S.
Kim
, T.-S.
Kim
, B.-W.
Kang
, J.-W.
Park
, S. J.
Yeom
, and J. H.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
54
, 1330
(2009
).1127.
Z. W.
Li
, A.
Rahtu
, and R. G.
Gordon
, J. Electrochem. Soc.
153
, C787
(2006
).1128.
S.
Kucheyev
, J.
Biener
, T.
Baumann
, Y.
Wang
, A.
Hamza
, Z.
Li
, D.
Lee
, and R.
Gordon
, Langmuir
24
, 943
(2008
).1129.
O.
Seitz
, M.
Dai
, F. S.
Aguirre-Tostado
, R. M.
Wallace
, and Y. J.
Chabal
, J. Am. Chem. Soc.
131
, 18159
(2009
).1130.
Q.
Ma
, H.
Guo
, R. G.
Gordon
, and F.
Zaera
, Chem. Mater.
22
, 352
(2010
).1131.
M.
Dai
, J.
Kwon
, M. D.
Halls
, R. G.
Gordon
, and Y. J.
Chabal
, Langmuir
26
, 3911
(2010
).1132.
B. H.
Lee
, J. K.
Hwang
, J. W.
Nam
, S. U.
Lee
, J. T.
Kim
, S.-M.
Koo
, A.
Baunemann
, R. A.
Fischer
, and M. M.
Sung
, Angew. Chem., Int. Ed.
48
, 4536
(2009
).1133.
K. H.
Park
, A. Z.
Bradley
, J. S.
Thompson
, and W. J.
Marshall
, Inorg. Chem.
45
, 8480
(2006
).1134.
R. G.
van Welzenis
, R. A. M.
Bink
, and H. H.
Brongersma
, Appl. Surf. Sci.
107
, 255
(1996
).1135.
S.
Haukka
and T.
Suntola
, Interface Sci.
75
, 119
(1997
).1136.
A. M.
Molenbroek
, S.
Haukka
, and B. S.
Clausen
, J. Phys. Chem. B
102
, 10680
(1998
).1137.
S.
Haukka
, E.-L.
Lakomaa
, and T.
Suntola
, in Adsorption and its Applications in Industry and Environmental Protection
, Studies in Surface Science and Catalysis
, edited by A.
Dabrowski
(Elsevier
, Amsterdam
, 1999
), Vol. 120A
, pp. 715
–750
.1138.
J. S.
Huo
, R.
Solanki
, and J.
McAndrew
, J. Mater. Res.
17
, 2394
(2002
).1139.
T.
Waechtler
, S.
Oswald
, N.
Roth
, A.
Jakob
, H.
Lang
, R.
Ecke
, S. E.
Schulz
, T.
Gessner
, A.
Moskvinova
, S.
Schulze
, and M.
Hietschold
, J. Electrochem. Soc.
156
, H453
(2009
).1140.
Z. W.
Li
and R. G.
Gordon
, Chem. Vap. Deposition
12
, 435
(2006
).1141.
T.
Törndahl
, M.
Ottosson
, and J. O.
Carlsson
, J. Electrochem. Soc.
153
, C146
(2006
).1142.
L.
Reijnen
, B.
Meester
, A.
Goossens
, and J.
Schoonman
, J. Phys. IV
11
, Pr3
–1103
(2001
).1143.
B.
Meester
, L.
Reijnen
, A.
Goossens
, and J.
Schoonman
, J. Phys. IV
11
, Pr3
–1147
(2001
).1144.
J.
Johansson
, J.
Kostamo
, M.
Karppinen
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
12
, 1022
(2002
).1145.
L.
Reijnen
, B.
Meester
, A.
Goossens
, and J.
Schoonman
, Chem. Vap. Deposition
9
, 15
(2003
).1146.
L.
Reijnen
, B.
Meester
, F.
de Lange
, J.
Schoonman
, and A.
Goossens
, Chem. Mater.
17
, 2724
(2005
).1147.
A. B. F.
Martinson
, J. W.
Elam
, and M. J.
Pellin
, Appl. Phys. Lett.
94
, 123107
(2009
).1148.
V.
Pore
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Am. Chem. Soc.
131
, 3478
(2009
).1149.
J. A.
Libera
, J. W.
Elam
, and M. J.
Pellin
, Thin Solid Films
516
, 6158
(2008
).1150.
K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, E.
Łusakowska
, W.
Paszkowicz
, J.
Domagała
, E.
Dynowska
, A.
Szczerbakow
, A.
Wójcik
, and M. R.
Phillips
, Vacuum
74
, 269
(2004
).1151.
K. S. A.
Butcher
, P.
Afifuddin
, P.-T.
Chen
, M.
Godlewski
, A.
Szczerbakow
, E. M.
Goldys
, T. L.
Tansley
, and J. A.
Freitas
, Jr., J. Cryst. Growth
246
, 237
(2002
).1152.
N. A.
Stepanova
, V. M.
Smirnov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Prikl. Khim.
50
, 465
(1977
)N. A.
Stepanova
, V. M.
Smirnov
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [J. Appl. Chem. USSR
50
, 450
(1977
)].1153.
K.
Kaiya
, N.
Yoshii
, N.
Takahashi
, and T.
Nakamura
, J. Mater. Sci. Lett.
19
, 2089
(2000
).1154.
K.
Kaiya
, N.
Yoshii
, K.
Omichi
, N.
Takahashi
, T.
Nakamura
, S.
Okamoto
, and H.
Yamamoto
, Chem. Mater.
13
, 1952
(2001
).1155.
K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, J. Z.
Domagała
, E.
Łusakowska
, R.
Minikayev
, W.
Paszkowicz
, and A.
Szczerbakow
, Chem. Mater.
16
, 1447
(2004
).1156.
B. W.
Sanders
and A.
Kitai
, Chem. Mater.
4
, 1005
(1992
).1157.
V.
Lujala
, J.
Skarp
, M.
Tammenmaa
, and T.
Suntola
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 34
(1994
).1158.
M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, J.
Szade
, A.
Wójcik-Glodowska
, L.
Wachnicki
, T.
Krajewski
, K.
Kopalko
, R.
Jakiela
, S.
Yatsunenko
, E.
Przezdziecka
, P.
Kruszewski
, N.
Huby
, G.
Tallarida
, and S.
Ferrari
, Microelectron. Eng.
85
, 2434
(2008
).1159.
G.
Łuka
, T.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, A.
Szczepanik
, J. D.
Fidelus
, A.
Szczerbakow
, E.
Łusakowska
, K.
Kopalko
, E.
Guziewicz
, and M.
Godlewski
, Acta Phys. Pol. A
114
, 1229
(2008
).1160.
E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, T.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, A.
Szczepanik
, K.
Kopalko
, A.
Wójcik-Glodowska
, E.
Przezdziecka
, W.
Paszkowicz
, E.
Łusakowska
, P.
Kruszewski
, N.
Huby
, G.
Tallarida
, and S.
Ferrari
, J. Appl. Phys.
105
, 122413
(2009
).1161.
H.
Makino
, A.
Miyake
, T.
Yamada
, N.
Yamamoto
, and T.
Yamamoto
, Thin Solid Films
517
, 3138
(2009
).1162.
L.
Wachnicki
, M.
Łukasiewicz
, B.
Witkowski
, T.
Krajewski
, G.
Łuka
, K.
Kopalko
, R.
Minikayev
, E.
Przezdziecka
, J. Z.
Domagała
, M.
Godlewski
, and E.
Guziewicz
, Phys. Status Solidi B
247
, 1699
(2010
).1163.
P. C.
Rowlette
, C. G.
Allen
, O. B.
Bromley
, and C. A.
Wolden
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 761
(2009
).1164.
P. C.
Rowlette
, C. G.
Allen
, O. B.
Bromley
, A. E.
Dubetz
, and C. A.
Wolden
, Chem. Vap. Deposition
15
, 15
(2009
).1165.
K.-S.
An
, W.
Cho
, B. K.
Lee
, S. S.
Lee
, and C. G.
Kim
, J. Nanosci. Nanotechnol.
8
, 4856
(2008
).1166.
B.
Sang
and M.
Konagai
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
35
, L602
(1996
).1167.
K.
Saito
, Y.
Watanabe
, K.
Takahashi
, T.
Matsuzawa
, B.
Sang
, and M.
Konagai
, Sol. Energy Mater. Sol. Cells
49
, 187
(1997
).1168.
A.
Yamada
, B.
Sang
, and M.
Konagai
, Appl. Surf. Sci.
112
, 216
(1997
).1169.
B.
Sang
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Sol. Energy Mater. Sol. Cells
49
, 19
(1997
).1170.
B.
Sang
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
37
, L1125
(1998
).1171.
B.
Sang
, K.
Dairiki
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
38
, 4983
(1999
).1172.
S.
Chaisitsak
, T.
Sugiyama
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
38
, 4989
(1999
).1173.
A.
Yamada
and M.
Konagai
, Solid State Phenom.
67/68
, 237
(1999
).1174.
A. W.
Ott
and R. P. H.
Chang
, Mater. Chem. Phys.
58
, 132
(1999
).1175.
A.
Shimizu
, S.
Chaisitsak
, T.
Sugiyama
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Thin Solid Films
361/362
, 193
(2000
).1176.
E. B.
Yousfi
, J.
Fouache
, and D.
Lincot
, Appl. Surf. Sci.
153
, 223
(2000
).1177.
E. B.
Yousfi
, T.
Asikainen
, V.
Pietu
, P.
Cowache
, M.
Powalla
, and D.
Lincot
, Thin Solid Films
361/362
, 183
(2000
).1178.
E. B.
Yousfi
, B.
Weinberger
, F.
Donsanti
, P.
Cowache
, and D.
Lincot
, Thin Solid Films
387
, 29
(2001
).1179.
Y.
Yamamoto
, K.
Saito
, K.
Takahashi
, and M.
Konagai
, Sol. Energy Mater. Sol. Cells
65
, 125
(2001
).1180.
C. H.
Liu
, M.
Yan
, X.
Liu
, E.
Seelig
, and R. P. H.
Chang
, Chem. Phys. Lett.
355
, 43
(2002
).1181.
C. H.
Liu
and R. P. H.
Chang
, J. Chem. Phys.
116
, 8139
(2002
).1182.
J.
Sterner
, J.
Kessler
, and L.
Stolt
, J. Vac. Sci. Technol. A
20
, 278
(2002
).1183.
M.
Schuisky
, J. W.
Elam
, and S. M.
George
, Appl. Phys. Lett.
81
, 180
(2002
).1184.
J.
Lim
, K.
Shin
, K. W.
Kim
, and C.
Lee
, Mater. Sci. Eng., B
107
, 301
(2004
).1185.
J.
Lim
, K.
Shin
, H. W.
Kim
, and C.
Lee
, J. Lumin.
109
, 181
(2004
).1186.
S.-H. K.
Park
and Y. E.
Lee
, J. Mater. Sci.
39
, 2195
(2004
).1187.
J.
Lim
, K.
Shin
, H.
Kim
, and C.
Lee
, Thin Solid Films
475
, 256
(2005
).1188.
J. D.
Ferguson
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 118
(2005
).1189.
S. H. K.
Park
, J. I.
Lee
, C. S.
Hwang
, and H. Y.
Chu
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
44
, L242
(2005
).1190.
S. J.
Kwon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
44
, 1062
(2005
).1191.
M.
Scharrer
, X.
Wu
, A.
Yamilov
, H.
Cao
, and R. P. H.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
86
, 151113
(2005
).1192.
S. O.
Kucheyev
, J.
Biener
, Y. M.
Wang
, T. F.
Baumann
, K. J.
Wu
, T.
van Buuren
, A. V.
Hamza
, J. H.
Satcher
, J. W.
Elam
, and M. J.
Pellin
, Appl. Phys. Lett.
86
, 083108
(2005
).1193.
S. K.
Kim
, C. S.
Hwang
, S. -H. K.
Park
, and S. J.
Yun
, Thin Solid Films
478
, 103
(2005
).1194.
C.
Platzer-Björkman
, T.
Törndahl
, D.
Abou-Ras
, J.
Malmström
, J.
Kessler
, and L.
Stolt
, J. Appl. Phys.
100
, 044506
(2006
).1195.
C.
Lee
and J.
Lim
, J. Vac. Sci. Technol. A
24
, 1031
(2006
).1196.
H. W.
Kim
and S. H.
Shim
, J. Korean Phys. Soc.
49
, 241
(2006
).1197.
H. C.
Liao
, P. C.
Kuo
, C. C.
Lin
, and S. Y.
Chen
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 2198
(2006
).1198.
Y. S.
Min
, E. J.
Bae
, J. B.
Park
, U. J.
Kim
, W.
Park
, J.
Song
, C. S.
Hwang
, and N.
Park
, Appl. Phys. Lett.
90
, 263104
(2007
).1199.
S. J.
Lim
, S. J.
Kwon
, H.
Kim
, and J. S.
Park
, Appl. Phys. Lett.
91
, 183517
(2007
).1200.
J.
Lim
and C.
Lee
, Thin Solid Films
515
, 3335
(2007
).1201.
I.
Kowalik
, E.
Guziewicz
, K.
Kopalko
, S.
Yatsunenko
, M.
Godlewski
, A.
Wójcik
, V.
Osinniy
, T.
Krajewski
, T.
Story
, E.
Łusakowska
, and W.
Paszkowicz
, Acta Phys. Pol. A
112
, 401
(2007
).1202.
C.-W.
Lin
, D.-J.
Ke
, Y.-C.
Chao
, L.
Chang
, M.-H.
Liang
, and Y.-T.
Ho
, J. Cryst. Growth
298
, 472
(2007
).1203.
E. H.
Kim
, D. H.
Lee
, B. H.
Chung
, H. S.
Kim
, Y.
Kim
, and S. J.
Noh
, J. Korean Phys. Soc.
50
, 1716
(2007
).1204.
S. H. K.
Park
, C. S.
Hwang
, H. Y.
Jeong
, H. Y.
Chu
, and K. I.
Cho
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, H10
(2008
).1205.
J.
Sun
, D. A.
Mourey
, D. L.
Zhao
, S. K.
Park
, S. F.
Nelson
, D. H.
Levy
, D.
Freeman
, P.
Cowdery-Corvan
, L.
Tutt
, and T. N.
Jackson
, IEEE Electron Device Lett.
29
, 721
(2008
).1206.
R. H. A.
Ras
, E.
Sahramo
, J.
Malm
, J.
Raula
, and M.
Karppinen
, J. Am. Chem. Soc.
130
, 11252
(2008
).1207.
S. J.
Lim
, S. J.
Kwon
, and H.
Kim
, Thin Solid Films
516
, 1523
(2008
).1208.
D. M.
King
, X.
Liang
, C. S.
Carney
, L. F.
Hakim
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, Adv. Funct. Mater.
18
, 607
(2008
).1209.
H. W.
Kim
, S. H.
Shim
, and J. W.
Lee
, Nanotechnology
19
, 145601
(2008
).1210.
H. W.
Kim
, J. W.
Lee
, and S. H.
Shim
, J. Phys. Chem. Solids
69
, 1491
(2008
).1211.
T. Y.
Shvareva
, S. V.
Ushakov
, A.
Navrotsky
, J. A.
Libera
, and J. W.
Elam
, J. Mater. Res.
23
, 1907
(2008
).1212.
T. W.
Hamann
, A. B. F.
Martinson
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and J. T.
Hupp
, Adv. Funct. Mater.
20
, 1560
(2008
).1213.
E.
Guziewicz
, I. A.
Kowalik
, M.
Godlewski
, K.
Kopalko
, V.
Osinniy
, A.
Wójcik
, S.
Yatsunenko
, E.
Łusakowska
, W.
Paszkowicz
, and M.
Guziewicz
, J. Appl. Phys.
103
, 033515
(2008
).1214.
H. C.
Chen
, M. J.
Chen
, M. K.
Wu
, Y. C.
Cheng
, and F. Y.
Tsai
, IEEE J. Sel. Top. Quantum Electron.
14
, 1053
(2008
).1215.
S.
Jeon
, S.
Bang
, S.
Lee
, S.
Kwon
, W.
Jeong
, H.
Jeon
, H. J.
Chang
, and H.-H.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 3287
(2008
).1216.
E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, K.
Kopalko
, I. A.
Kowalik
, S.
Yatsunenko
, V.
Osinnyi
, W.
Paszkowicz
, E.
Łusakowska
, and P.
Dluzewski
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 2880
(2008
).1217.
J.-S.
Hur
, S.
Jang
, D.
Kim
, D.
Byun
, and C.-S.
Son
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 3033
(2008
).1218.
L.
Dunlop
, A.
Kursumovic
, and J. L.
MacManus-Driscoll
, Appl. Phys. Lett.
93
, 172111
(2008
).1219.
E.
Przezdziecka
, T.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, A.
Szczepanik
, A.
Wójcik-Glodowska
, S.
Yatsunenko
, E.
Łusakowska
, W.
Paszkowicz
, E.
Guziewicz
, and M.
Godlewski
, Acta Phys. Pol. A
114
, 1303
(2008
).1220.
S.-Y.
Pung
, K.-L.
Choy
, X.
Hou
, and C.
Shan
, Nanotechnology
19
, 435609
(2008
).1221.
M. K.
Wu
, Y. T.
Shih
, W. C.
Li
, H. C.
Chen
, M. J.
Chen
, H.
Kuan
, J. R.
Yang
, and M.
Shiojiri
, IEEE Photon. Technol. Lett.
20
, 1772
(2008
).1222.
H.
Makino
, S.
Kishimoto
, T.
Yamada
, A.
Miyake
, N.
Yamamoto
, and T.
Yamamoto
, Phys. Status Solidi A
205
, 1971
(2008
).1223.
D. M.
King
, X.
Liang
, P.
Li
, and A. W.
Weimer
, Thin Solid Films
516
, 8517
(2008
).1224.
S.
Park
, H.
Kim
, J. W.
Lee
, H. W.
Kim
, and C.
Lee
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 657
(2008
).1225.
E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, T. A.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, G.
Łuka
, W.
Paszkowicz
, J. Z.
Domagała
, E.
Przezdziecka
, E.
Łusakowska
, and B. S.
Witkowski
, Acta Phys. Pol. A
116
, 814
(2009
).1226.
S.
Yang
, B. H.
Lin
, W. R.
Liu
, J. H.
Lin
, C. S.
Chang
, C. H.
Hsu
, and W. F.
Hsieh
, Cryst. Growth Des.
9
, 5184
(2009
).1227.
T. A.
Krajewski
, G.
Łuka
, L.
Wachnicki
, R.
Jakiela
, B.
Witkowski
, E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, N.
Huby
, and G.
Tallarida
, Opt. Appl.
39
, 865
(2009
).1228.
M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, G.
Łuka
, T.
Krajewski
, M.
Łukasiewicz
, L.
Wachnicki
, A.
Wachnicka
, K.
Kopalko
, A.
Sarem
, and B.
Dalati
, Thin Solid Films
518
, 1145
(2009
).1229.
C.-S.
Ku
, J.-M.
Huang
, C.-M.
Lin
, and H.-Y.
Lee
, Thin Solid Films
518
, 1373
(2009
).1230.
S.
Bang
, S.
Lee
, J.
Park
, S.
Park
, W.
Jeong
, and H.
Jeon
, J. Phys. D: Appl. Phys.
42
, 235102
(2009
).1231.
J. Y.
Park
, S.-W.
Choi
, J.-W.
Lee
, C.
Lee
, and S. S.
Kim
, J. Am. Ceram. Soc.
92
, 2551
(2009
).1232.
S.-W.
Choi
, J. Y.
Park
, and S. S.
Kim
, Nanotechnology
20
, 465603
(2009
).1233.
E.
Przezdziecka
, L.
Wachnicki
, W.
Paszkowicz
, E.
Łusakowska
, T.
Krajewski
, G.
Łuka
, E.
Guziewicz
, and M.
Godlewski
, Semicond. Sci. Technol.
24
, 105014
(2009
).1234.
Y. T.
Shih
, M. K.
Wu
, W. C.
Li
, H.
Kuan
, J. R.
Yang
, M.
Shiojiri
, and M. J.
Chen
, Nanotechnology
20
, 165201
(2009
).1235.
I. A.
Kowalik
, E.
Guziewicz
, K.
Kopalko
, S.
Yatsunenko
, A.
Wójcik-Glodowska
, M.
Godlewski
, P.
Dluzewski
, E.
Łusakowska
, and W.
Paszkowicz
, J. Cryst. Growth
311
, 1096
(2009
).1236.
C. X.
Shan
, J. Y.
Zhang
, B.
Yao
, D. Z.
Shen
, X. W.
Fan
, and K. L.
Choy
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 1765
(2009
).1237.
I.
Alessandri
, M.
Zucca
, M.
Ferroni
, E.
Bontempi
, and L. E.
Depero
, Cryst. Growth Des.
9
, 1258
(2009
).1238.
T.
Krajewski
, E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, L.
Wachnicki
, I. A.
Kowalik
, A.
Wójcik-Glodowska
, M.
Łukasiewicz
, K.
Kopalko
, V.
Osinniy
, and M.
Guziewicz
, Microelectron. J.
40
, 293
(2009
).1239.
S.
Park
, J.
Jun
, H. W.
Kim
, and C.
Lee
, Solid State Commun.
149
, 315
(2009
).1240.
A.
Pourret
, P.
Guyot-Sionnest
, and J. W.
Elam
, Adv. Mater.
21
, 232
(2009
).1241.
K.
Grigoras
, V. M.
Airaksinen
, and S.
Franssila
, J. Nanosci. Nanotechnol.
9
, 3763
(2009
).1242.
L.
Wachnicki
, T.
Krajewski
, G.
Łuka
, B.
Witkowski
, B.
Kowalski
, K.
Kopalko
, J. Z.
Domagała
, M.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, and E.
Guziewicz
, Thin Solid Films
518
, 4556
(2010
).1243.
E.
Janik
, A.
Wachnicka
, E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, S.
Kret
, W.
Zaleszczyk
, E.
Dynowska
, A.
Presz
, G.
Karczewski
, and T.
Wojtowicz
, Nanotechnology
21
, 015302
(2010
).1244.
H.-C.
Chen
, M.-J.
Chen
, M.-K.
Wu
, W.-C.
Li
, H.-L.
Tsai
, J.-R.
Yang
, H.
Kuan
, and M.
Shiojiri
, IEEE J. Quantum Electron.
46
, 265
(2010
).1245.
S. J.
Lim
, J.-M.
Kim
, D.
Kim
, S.
Kwon
, J.-S.
Park
, and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
157
, H214
(2010
).1246.
C.-S.
Ku
, H.-Y.
Lee
, J.-M.
Huang
, and C.-M.
Lin
, Cryst. Growth Des.
10
, 1460
(2010
).1247.
C.-S.
Ku
, H.-Y.
Lee
, J.-M.
Huang
, and C.-M.
Lin
, Mater. Chem. Phys.
120
, 236
(2010
).1248.
E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, T. A.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, G.
Łuka
, J. Z.
Domagała
, W.
Paszkowicz
, B. J.
Kowalski
, B. S.
Witkowski
, A.
Dużyńska
, and A.
Suchocki
, Phys. Status Solidi B
247
, 1611
(2010
).1249.
M.
Ceh
, H.-C.
Chen
, M.-J.
Chen
, J.-R.
Yang
, and M.
Shiojiri
, Mater. Trans.
51
, 219
(2010
).1250.
Y.-S.
Min
, C. J.
An
, S. K.
Kim
, J.
Song
, and C. S.
Hwang
, Bull. Korean Chem. Soc.
31
, 2503
(2010
).1251.
H.
Chen
, M.
Chen
, T.
Liu
, J.
Yang
, and M.
Shiojiri
, Thin Solid Films
519
, 536
(2010
).1252.
D. D.
Fong
, J. A.
Eastman
, S. K.
Kim
, T. T.
Fister
, M. J.
Highland
, P. M.
Baldo
, and P. H.
Fuoss
, Appl. Phys. Lett.
97
, 191904
(2010
).1253.
F. L.
Kuo
, M.-T.
Lin
, B. A.
Mensah
, T. W.
Scharf
, and N. D.
Shepherd
, Phys. Status Solidi A
207
, 2487
(2010
).1254.
J. Y.
Park
, S.-W.
Choi
, and S. S.
Kim
, Nanotechnology
21
, 475601
(2010
).1255.
X.
Li
, C.
Li
, Y.
Zhang
, D.
Chu
, W.
Milne
, and H.
Fan
, Nanoscale Res. Lett.
5
, 1836
(2010
).1256.
H.-Y.
Lee
, C. J.
An
, S. J.
Piao
, D. Y.
Ahn
, M.-T.
Kim
, and Y.-S.
Min
, J. Phys. Chem. C
114
, 18601
(2010
).1257.
G.
Łuka
, P.
Stakhira
, V.
Cherpak
, D.
Volynyuk
, Z.
Hotra
, M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, B.
Witkowski
, W.
Paszkowicz
, and A.
Kostruba
, J. Appl. Phys.
108
, 064518
(2010
).1258.
S.
Lee
, S.
Bang
, J.
Park
, S.
Park
, W.
Jeong
, and H.
Jeon
, Phys. Status Solidi A
207
, 1845
(2010
).1259.
Y.-M.
Chang
, S.-R.
Jian
, H.-Y.
Lee
, C.-M.
Lin
, and J.-Y.
Juang
, Nanotechnology
21
, 385705
(2010
).1260.
C. H.
Ahn
, C. H.
Woo
, S.
Hwang
, J. Y.
Lee
, H. K.
Cho
, H. J.
Cho
, and G. Y.
Yeom
, Surf. Interface Anal.
42
, 955
(2010
).1261.
G.
Łuka
, T.
Krajewski
, L.
Wachnicki
, B.
Witkowski
, E.
Łusakowska
, W.
Paszkowicz
, E.
Guziewicz
, and M.
Godlewski
, Phys. Status Solidi A
207
, 1568
(2010
).1262.
Y.-H.
Chang
, S.-M.
Wang
, C.-M.
Liu
, and C.
Chen
, J. Electrochem. Soc.
157
, K236
(2010
).1263.
Y. T.
Shih
, C. Y.
Chiu
, C. W.
Chang
, J. R.
Yang
, M.
Shiojiri
, and M. J.
Chen
, J. Electrochem. Soc.
157
, II879
(2010
).1264.
R. J.
Narayan
, S. P.
Adiga
, M. J.
Pellin
, L. A.
Curtiss
, A. J.
Hryn
, S.
Stafslien
, B.
Chisholm
, C.-C.
Shih
, C.-M.
Shih
, S.-J.
Lin
, Y.-Y.
Su
, C.
Jin
, J.
Zhang
, N. A.
Monteiro-Riviere
, and J. W.
Elam
, Philos. Trans. R. Soc. London, Ser. A
368
, 2033
(2010
).1265.
J.
Malm
, E.
Sahramo
, J.
Perälä
, T.
Sajavaara
, and M.
Karppinen
, Thin Solid Films
519
, 5319
(2011
).1266.
S.-K.
Kwon
, D.-W.
Kim
, Y.-H.
Jung
, and B.-J.
Lee
, J. Korean Phys. Soc.
55
, 999
(2009
).1267.
K. H.
Lee
, A.
Park
, S.
Im
, Y.
Park
, S. H.
Kim
, M. M.
Sung
, and S.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, H261
(2010
).1268.
D. M.
King
, J.
Li
, X.
Liang
, S. I.
Johnson
, M. M.
Channel
, and A. W.
Weimer
, Cryst. Growth Des.
9
, 2828
(2009
).1269.
D. M.
King
, S. I.
Johnson
, J.
Li
, X.
Du
, X.
Liang
, and A. W.
Weimer
, Nanotechnology
20
, 195401
(2009
).1270.
S. H. K.
Park
, C. S.
Hwang
, H. S.
Kwack
, J. H.
Lee
, and H. Y.
Chu
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G299
(2006
).1271.
C. R.
Kim
, J. Y.
Lee
, C. M.
Shin
, J. Y.
Leem
, H.
Ryu
, J. H.
Chang
, H. C.
Lee
, C. S.
Son
, W. J.
Lee
, W. G.
Jung
, S. T.
Tan
, J. L.
Zhao
, and X. W.
Sun
, Solid State Commun.
148
, 395
(2008
).1272.
S. -H. K.
Park
, C.-S.
Hwang
, M.
Ryu
, S.
Yang
, C.
Byun
, J.
Shin
, J.-I.
Lee
, K.
Lee
, M. S.
Oh
, and S.
Im
, Adv. Mater.
21
, 678
(2009
).1273.
1274.
S. J.
Lim
, J.-M.
Kim
, D.
Kim
, C.
Lee
, J.-S.
Park
, and H.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, H151
(2010
).1275.
J. Y.
Lee
, C. M.
Shin
, J. H.
Heo
, C. R.
Kim
, J. H.
Park
, T. M.
Lee
, H.
Ryu
, C. S.
Son
, B. C.
Shin
, and W. J.
Lee
, Curr. Appl. Phys.
10
, S290
(2010
).1276.
P. Y.
Lin
, J. R.
Gong
, P. C.
Li
, T. Y.
Lin
, D. Y.
Lyu
, D. Y.
Lin
, H. J.
Lin
, T. C.
Li
, K. J.
Chang
, and W. J.
Lin
, J. Cryst. Growth
310
, 3024
(2008
).1277.
Y.-T.
Lin
, P.-H.
Chung
, H.-W.
Lai
, H.-L.
Su
, D.-Y.
Lyu
, K.-Y.
Yen
, T.-Y.
Lin
, C.-Y.
Kung
, and J.-R.
Gong
, Appl. Surf. Sci.
256
, 819
(2009
).1278.
K.-Y.
Yen
, K.-P.
Liu
, J.-R.
Gong
, K.-Y.
Tsai
, D.-Y.
Lyu
, T.-Y.
Lin
, G.-Y.
Ni
, and F.-W.
Jih
, J. Mater. Sci.: Mater. Electron.
20
, 1255
(2009
).1279.
M.
Tammenmaa
, T.
Koskinen
, L.
Hiltunen
, L.
Niinistö
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
124
, 125
(1985
).1280.
K.
Kobayashi
and S.
Okudaira
, Chem. Lett.
26
, 511
(1997
).1281.
A.
Wójcik
, K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, E.
Łusakowska
, W.
Paszkowicz
, K.
Dybko
, J.
Domagała
, A.
Szczerbakow
, and E.
Kamińska
, Acta Phys. Pol. A
105
, 667
(2004
).1282.
A.
Wójcik
, K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, E.
Łusakowska
, E.
Guziewicz
, R.
Minikayev
, W.
Paszkowicz
, K.
Świątek
, M.
Klepka
, R.
Jakiela
, M.
Kiecana
, M.
Sawicki
, K.
Dybko
, and M. R.
Phillips
, Opt. Appl.
35
, 413
(2005
).1283.
A.
Wójcik
, M.
Kiecana
, K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, S.
Yatsunenko
, E.
Łusakowska
, R.
Minikayev
, W.
Paszkowicz
, and K.
Świątek
, Acta Phys. Pol. A
108
, 915
(2005
).1284.
A.
Wójcik
, K.
Kopalko
, M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, R.
Jakiela
, R.
Minikayev
, and W.
Paszkowicz
, Appl. Phys. Lett.
89
, 051907
(2006
).1285.
A.
Wójcik
, M.
Godlewski
, E.
Guziewicz
, R.
Minikayev
, and W.
Paszkowicz
, J. Cryst. Growth
310
, 284
(2008
).1286.
T.
Suntola
and J.
Antson
, U.S. patent 4,058,430 (15 November, 1977
).1287.
W.
Faschinger
, P.
Juza
, S.
Ferreira
, H.
Zajicek
, A.
Pesek
, H.
Sitter
, and K.
Lischka
, Thin Solid Films
225
, 270
(1993
).1288.
T.
Tadokoro
, S.
Ohta
, T.
Ishiguro
, Y.
Ichinose
, S.
Kobayashi
, and N.
Yamamoto
, J. Cryst. Growth
148
, 223
(1995
).1289.
A.
Koukitu
, T.
Miyazawa
, H.
Ikeda
, and H.
Seki
, J. Cryst. Growth
123
, 95
(1992
).1290.
1291.
M.
Pessa
, R.
Mäkelä
, and T.
Suntola
, Appl. Phys. Lett.
38
, 131
(1981
).1292.
J. A.
Lahtinen
, A.
Lu
, T.
Tuomi
, and M.
Tammenmaa
, J. Appl. Phys.
58
, 1851
(1985
).1293.
1294.
J.
Hyvärinen
, M.
Sonninen
, and R.
Törnqvist
, J. Cryst. Growth
86
, 695
(1988
).1295.
M.
Oikkonen
, M.
Tammenmaa
, and M.
Asplund
, Mater. Res. Bull.
23
, 133
(1988
).1296.
M.
Oikkonen
, T.
Tuomi
, and M.
Luomajärvi
, J. Appl. Phys.
63
, 1070
(1988
).1297.
V.
Balek
, J.
Fusek
, O.
Kříž
, M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, E.
Nykänen
, J.
Rautanen
, and P.
Soininen
, J. Mater. Res.
9
, 119
(1994
).1298.
J.
Ihanus
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Prohaska
, R.
Resch
, G.
Friedbacher
, and M.
Grasserbauer
, Appl. Surf. Sci.
120
, 43
(1997
).1299.
J.
Ihanus
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and E.
Rauhala
, Appl. Surf. Sci.
112
, 154
(1997
).1300.
A.
Szczerbakow
, M.
Godlewski
, E.
Dynowska
, V.
Yu. Ivanov
, K.
Świątek
, E. M.
Goldys
, and M. R.
Phillips
, Acta Phys. Pol. A
97
, 579
(1998
).1301.
A.
Szczerbakow
, E.
Dynowska
, M.
Godlewski
, and K.
Świątek
, J. Cryst. Growth
183
, 708
(1998
).1302.
1303.
J. S.
King
, C. W.
Neff
, C. J.
Summers
, W.
Park
, S.
Blomquist
, E.
Forsythe
, and D.
Morton
, Appl. Phys. Lett.
83
, 2566
(2003
).1304.
B.
Soenen
, J.
Ihanus
, G.
Stuyven
, P.
De Visschere
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, SID Int. Symp. Digest Tech. Papers
Suppl. 1, 33
(2000
).1305.
J.
Ihanus
, M. P.
Lankinen
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
98
, 113526
(2005
).1306.
A.
Hunter
and A. H.
Kitai
, J. Cryst. Growth
91
, 111
(1988
).1307.
M. D.
Bhise
, B.
Sanders
, N.
Dalacu
, and A. H.
Kitai
, J. Mater. Sci.
24
, 3164
(1989
).1308.
Y.-H.
Wu
, T.
Toyoda
, Y.
Kawakami
, S.
Fujita
, and S.
Fujita
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
29
, L727
(1990
).1309.
S.
Yamaga
and A.
Yoshikawa
, J. Cryst. Growth
117
, 152
(1992
).1310.
C. H.
Liu
, M.
Yokoyama
, and Y. K.
Su
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
35
, 5416
(1996
).1311.
C. H.
Liu
, M.
Yokoyama
, Y. K.
Su
, and N. C.
Lee
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
35
, 2749
(1996
).1312.
C.-T.
Hsu
, M.
Yokoyama
, and Y. K.
Su
, Mater. Chem. Phys.
51
, 102
(1997
).1313.
C. T.
Hsu
, Thin Solid Films
335
, 284
(1998
).1314.
M.
Yokoyama
and N.-T.
Chen
, J. Cryst. Growth
223
, 369
(2001
).1315.
R. A.
Bisengaliev
, B. V.
Novikov
, V. B.
Aleskovskii
, V. E.
Drozd
, D. A.
Ageev
, V. I.
Gubaidullin
, and A. P.
Savchenko
, Fiz. Tverd. Tela
40
, 820
(1998
)R. A.
Bisengaliev
, B. V.
Novikov
, V. B.
Aleskovskii
, V. E.
Drozd
, D. A.
Ageev
, V. I.
Gubaidullin
, and A. P.
Savchenko
, [Phys. Solid State
40
, 754
(1998
)].1316.
G.
Stuyven
, P.
De Visschere
, A.
Hikavyy
, and K.
Neyts
, J. Cryst. Growth
234
, 690
(2002
).1317.
Y. S.
Kim
and S. J.
Yun
, Appl. Surf. Sci.
229
, 105
(2004
).1318.
E.
Soininen
, G.
Härkönen
, and K.
Vasama
, SID Int. Symp. Digest Tech. Papers
Suppl. 1, 77
(2000
).1319.
S.
Farhangfar
, R. B.
Yang
, M.
Pelletier
, and K.
Nielsch
, Nanotechnology
20
, 325602
(2009
).1320.
J. R.
Bakke
, J. S.
King
, H. J.
Jung
, R.
Sinclair
, and S. F.
Bent
, Thin Solid Films
518
, 5400
(2010
).1321.
H.
Fujiwara
, H.
Kiryu
, and I.
Shimizu
, J. Appl. Phys.
77
, 3927
(1995
).1322.
M.
Oikkonen
, M.
Blomberg
, T.
Tuomi
, and M.
Tammenmaa
, Thin Solid Films
124
, 317
(1985
).1323.
T.
Yao
and T.
Takeda
, Appl. Phys. Lett.
48
, 160
(1986
).1324.
T.
Yao
, T.
Takeda
, and R.
Watanuki
, Appl. Phys. Lett.
48
, 1615
(1986
).1325.
T.
Yao
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
25
, L544
(1986
).1326.
T.
Takeda
, T.
Kurosu
, M.
Lida
, and T.
Yao
, Surf. Sci.
174
, 548
(1996
).1327.
T.
Yao
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
25
, L942
(1986
).1328.
S.
Dosho
, Y.
Takemura
, M.
Konagai
, and K.
Takahashi
, J. Cryst. Growth
95
, 580
(1989
).1329.
Y.
Takemura
, M.
Konagai
, K.
Yamasaki
, C. H.
Lee
, and K.
Takahashi
, J. Electron. Mater.
22
, 437
(1993
).1330.
M.
Konagai
, Y.
Takemura
, K.
Yamasaki
, and K.
Takahashi
, Thin Solid Films
225
, 256
(1993
).1331.
H.
Akinaga
and K.
Tanaka
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 298
(1994
).1332.
Y.
Ohtake
, K.
Kushiya
, M.
Ichikawa
, A.
Yamada
, and M.
Konagai
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
34
, 5949
(1995
).1333.
K.
Arai
, Z. Q.
Zhu
, T.
Sekiguchi
, T.
Yasuda
, F.
Lu
, N.
Kuroda
, Y.
Segawa
, and T.
Yao
, J. Cryst. Growth
184/185
, 254
(1998
).1334.
A.
Szczerbakow
, E.
Dynowska
, K.
Świątek
, and M.
Godlewski
, J. Cryst. Growth
207
, 148
(1999
).1335.
A.
Ohtake
, T.
Hanada
, T.
Yasuda
, K.
Arai
, and T.
Yao
, Phys. Rev. B
60
, 8326
(1999
).1336.
A.
Ohtake
, T.
Hanada
, K.
Arai
, T.
Komura
, S.
Miwa
, K.
Kimura
, T.
Yasuda
, C.
Jin
, and T.
Yao
, J. Cryst. Growth
201/202
, 490
(1999
).1337.
E.
Guziewicz
, M.
Godlewski
, K.
Kopalko
, E.
Łusakowska
, E.
Dynowska
, M.
Guziewicz
, M. M.
Godlewski
, and M.
Phillips
, Thin Solid Films
446
, 172
(2004
).1338.
J. Y.
Lee
, J. H.
Chang
, M.
Yang
, H. S.
Ahn
, S. N.
Yi
, K.
Goto
, K.
Godo
, H.
Makino
, M.
Cho
, T.
Yao
, and J. S.
Song
, Curr. Appl. Phys.
4
, 611
(2004
).1339.
E. M.
Larramendi
, Z. -B. K.
Gutierrez
, C.
Arens
, U.
Woggon
, D.
Schikora
, and K.
Lischka
, J. Appl. Phys.
107
, 103510
(2010
).1340.
A.
Koukitu
, A.
Saegusa
, M.
Kitho
, H.
Ikeda
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
31
, L2165
(1992
).1341.
R.
Kimura
, M.
Konagai
, and K.
Takahashi
, J. Cryst. Growth
116
, 283
(1992
).1342.
C. D.
Lee
, B. H.
Lim
, C.
Lim
, H. L.
Park
, C. H.
Chung
, and S. K.
Chang
, J. Cryst. Growth
117
, 148
(1992
).1343.
C. D.
Lee
, B. K.
Kim
, J. W.
Kim
, S. K.
Chang
, and S. H.
Suh
, J. Appl. Phys.
76
, 928
(1994
).1344.
C. D.
Lee
, B. K.
Kim
, J. W.
Kim
, H. L.
Park
, C. H.
Chung
, S. K.
Chang
, J. I.
Lee
, and S. K.
Noh
, J. Cryst. Growth
138
, 136
(1994
).1345.
A.
Yoshikawa
, T.
Okamoto
, H.
Yasuda
, S.
Yamaga
, and H.
Kasai
, J. Cryst. Growth
101
, 86
(1990
).1346.
A.
Yoshikawa
, M.
Kobayashi
, and S.
Tokita
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 316
(1994
).1347.
I.
Bhat
and S.
Akram
, J. Cryst. Growth
138
, 127
(1994
).1348.
C. D.
Lee
, S. I.
Min
, and S. K.
Chang
, J. Korean Phys. Soc.
28
, S136
(1995
).1349.
C. D.
Lee
, S. I.
Min
, and S. K.
Chang
, J. Cryst. Growth
159
, 108
(1996
).1350.
C.-T.
Hsu
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
35
, 4476
(1996
).1351.
C.-T.
Hsu
, J. Cryst. Growth
193
, 33
(1998
).1352.
C.-T.
Hsu
, Mater. Chem. Phys.
52
, 240
(1998
).1353.
C. T.
Hsu
, Mater. Chem. Phys.
58
, 6
(1999
).1354.
M.
Yokoyama
, N. T.
Chen
, and H. Y.
Ueng
, J. Cryst. Growth
212
, 97
(2000
).1355.
Y. G.
Kim
, Y. S.
Joh
, J. H.
Song
, K. S.
Baek
, S. K.
Chang
, and E. D.
Sim
, Appl. Phys. Lett.
83
, 2656
(2003
).1356.
W. S.
Rees
, D. M.
Green
, T. J.
Anderson
, E.
Bretschneider
, B.
Pathangey
, C.
Park
, and J.
Kim
, J. Electron. Mater.
21
, 361
(1992
).1357.
M.
Ahonen
, M.
Pessa
, and T.
Suntola
, Thin Solid Films
65
, 301
(1980
).1358.
Y.
Takemura
, H.
Nakanishi
, M.
Konagai
, and K.
Takahashi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L246
(1991
).1359.
Y.
Takemura
, M.
Konagai
, H.
Nakanishi
, and K.
Takahashi
, J. Cryst. Growth
117
, 144
(1992
).1360.
F.
Hauzenberger
, W.
Faschinger
, P.
Juza
, A.
Pesek
, K.
Lischka
, and H.
Sitter
, Thin Solid Films
225
, 265
(1993
).1361.
B.
Daudin
, S.
Tatarenko
, and D.
Brun-Le Cunff
, Phys. Rev. B
52
, 7822
(1995
).1362.
J. T.
Sadowski
and M. A.
Herman
, Appl. Surf. Sci.
112
, 148
(1997
).1363.
E. M.
Larramendi
, E.
Purón
, L. C.
Hernández
, M.
Sánchez
, S.
De Roux
, O.
de Melo
, G.
Romero-Paredes
, R.
Peña-Sierra
, and M.
Tamura
, J. Cryst. Growth
223
, 447
(2001
).1364.
E. M.
Larramendi
, E.
López-Luna
, O.
De Melo
, and I.
Hernández-Calderón
, Surf. Rev. Lett.
9
, 1725
(2002
).1365.
O.
de Melo
, E. M.
Larramendi
, J. M. M.
Duart
, M. H.
Velez
, J.
Stangl
, and H.
Sitter
, J. Cryst. Growth
307
, 253
(2007
).1366.
Y. K.
Ezhovskii
and D. V.
Pavlov
, Inorg. Mater.
43
, 692
(2007
).1367.
W.-S.
Wang
, H.
Ehsani
, and I.
Bhat
, J. Electron. Mater.
22
, 873
(1993
).1368.
M.
Nieminen
, L.
Niinistö
, and E.
Rauhala
, J. Mater. Chem.
6
, 27
(1996
).1369.
M.
Utriainen
, S.
Lehto
, L.
Niinistö
, C.
Dücso
, N. Q.
Khanh
, Z. E.
Horváth
, I.
Bársony
, and B.
Pécz
, Thin Solid Films
297
, 39
(1997
).1370.
F. K.
Shan
, G. X.
Liu
, W. J.
Lee
, G. H.
Lee
, I. S.
Kim
, and B. C.
Shin
, J. Appl. Phys.
98
, 023504
(2005
).1371.
N. J.
Seong
, E. T.
Kim
, and S. G.
Yoon
, Integr. Ferroelectr.
74
, 181
(2005
).1372.
G. X.
Liu
, F. K.
Shan
, W. J.
Lee
, B. C.
Shin
, S. C.
Kim
, H. S.
Kim
, and C. R.
Cho
, Integr. Ferroelectr.
94
, 11
(2007
).1373.
C. L.
Dezelah
IV, J.
Niinistö
, K.
Arstila
, L.
Niinistö
, and C. H.
Winter
, Chem. Mater.
18
, 471
(2006
).1374.
C.
Adelmann
, E.
Martinez-Guerrero
, J.
Barjon
, J.
Brault
, L. S.
Dang
, H.
Mariette
, G.
Mula
, and B.
Daudin
, Phys. Status Solidi A
188
, 673
(2001
).1375.
C.
Adelmann
, J.
Brault
, J.-L.
Rouvière
, H.
Mariette
, G.
Mula
, and B.
Daudin
, J. Appl. Phys.
91
, 5498
(2002
).1376.
A.
Koukitu
, Y.
Kumagai
, T.
Taki
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
38
, 4980
(1999
).1377.
Y.
Kumagai
, M.
Mayumi
, A.
Koukitu
, and H.
Seki
, Appl. Surf. Sci.
159/160
, 427
(2000
).1378.
H.
Tsuchiya
, M.
Akamatsu
, M.
Ishida
, and F.
Hasegawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
35
, L748
(1996
).1379.
O. H.
Kim
, D.
Kim
, and T.
Anderson
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 923
(2009
).1380.
N. H.
Karam
, T.
Parodos
, P.
Colter
, D.
McNulty
, W.
Rowland
, J.
Schetzina
, N.
El-Masry
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
67
, 94
(1995
).1381.
K. S.
Boutros
, F. G.
McIntosh
, J. C.
Roberts
, S. M.
Bedair
, E. L.
Piner
, and N. A.
El-Masry
, Appl. Phys. Lett.
67
, 1856
(1995
).1382.
E. L.
Piner
, M. K.
Behbehani
, N. A.
El-Masry
, F. G.
McIntosh
, J. C.
Roberts
, K. S.
Boutros
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
70
, 461
(1997
).1383.
S.-C.
Huang
, H.-Y.
Wang
, C.-J.
Hsu
, J.-R.
Gong
, C.-I.
Chiang
, S.-L.
Tu
, and H.
Chang
, J. Mater. Sci. Lett.
17
, 1281
(1998
).1384.
H. Y.
Wang
, S. C.
Huang
, T. Y.
Yan
, J. R.
Gong
, T. Y.
Lin
, and Y. F.
Chen
, Mater. Sci. Eng., B
57
, 218
(1999
).1385.
M.
Asif Khan
, R. A.
Skogman
, J. M.
Van Hove
, D. T.
Olson
, and J. N.
Kuznia
, Appl. Phys. Lett.
60
, 1366
(1992
).1386.
M.
Asif Khan
, J. N.
Kuznia
, D. T.
Olson
, J. M.
Van Hove
, M.
Blasingame
, and L. F.
Reitz
, Appl. Phys. Lett.
60
, 2917
(1992
).1387.
J.
Sumakeris
, Z.
Sitar
, K. S.
Ailey-Trent
, K. L.
More
, and R. F.
Davis
, Thin Solid Films
225
, 244
(1993
).1388.
A.
Usui
, H.
Sunakawa
, F. J.
Stützler
, and K.
Ishida
, Appl. Phys. Lett.
56
, 289
(1990
).1389.
B. T.
McDermott
, K. G.
Reid
, N. A.
El-Masry
, S. M.
Bedair
, W. M.
Duncan
, X.
Yin
, and F. H.
Pollak
, Appl. Phys. Lett.
56
, 1172
(1990
).1390.
Y.
Sakuma
, M.
Ozeki
, N.
Ohtsuka
, and K.
Kodama
, J. Appl. Phys.
68
, 5660
(1990
).1391.
B. T.
McDermott
, N. A.
El-Masry
, B. L.
Jiang
, F.
Hyuga
, S. M.
Bedair
, and W. M.
Duncan
, J. Cryst. Growth
107
, 96
(1991
).1392.
J. R.
Gong
, S.
Nakamura
, M.
Leonard
, S. M.
Bedair
, and N. A.
El-Masry
, J. Electron. Mater.
21
, 965
(1992
).1393.
H.
Isshiki
, Y.
Aoyagi
, and T.
Sugano
, Microelectron. Eng.
43/44
, 301
(1998
).1394.
M.
Ozeki
, T.
Haraguchi
, T.
Takeuchi
, and K.
Maeda
, J. Cryst. Growth
276
, 374
(2005
).1395.
E.
Graugnard
, V.
Chawla
, D.
Lorang
, and C. J.
Summers
, Appl. Phys. Lett.
89
, 211102
(2006
).1396.
M.
Yoshimoto
, A.
Kajimoto
, and H.
Matsunami
, Thin Solid Films
225
, 70
(1993
).1397.
A.
Usui
and H.
Sunakawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
25
, L212
(1986
).1398.
A.
Koukitu
, H.
Nakai
, A.
Saegusa
, T.
Suzuki
, O.
Nomura
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
27
, L744
(1988
).1399.
J.
Ahopelto
, H. P.
Kattelus
, J.
Saarilahti
, and I.
Suni
, J. Cryst. Growth
99
, 550
(1990
).1400.
A.
Koukitu
, H.
Ikeda
, H.
Suzuki
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L1712
(1991
).1401.
A.
Koukitu
, H.
Ikeda
, H.
Yasutake
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L1847
(1991
).1402.
C.
Sasaoka
, Y.
Kato
, and A.
Usui
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
30
, L1756
(1991
).1403.
C.
Sasaoka
, Y.
Kato
, and A.
Usui
, J. Cryst. Growth
115
, 94
(1991
).1404.
K.
Nishi
, A.
Usui
, and H.
Sakaki
, Appl. Phys. Lett.
61
, 31
(1992
).1405.
A.
Usui
, Thin Solid Films
225
, 53
(1993
).1406.
K.
Nishi
, A.
Usui
, and H.
Sakaki
, Thin Solid Films
225
, 47
(1993
).1407.
Y.
Takahashi
, M.
Yagi
, A.
Koukitu
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
32
, L1277
(1993
).1408.
A.
Koukitu
, N.
Takahashi
, Y.
Miura
, and H.
Seki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
33
, L613
(1994
).1409.
A.
Koukitu
, N.
Takahashi
, and H.
Seki
, J. Cryst. Growth
146
, 467
(1995
).1410.
A.
Koukitu
, N.
Takahashi
, and H.
Seki
, J. Cryst. Growth
163
, 180
(1996
).1411.
H. P.
Kattelus
, J.
Ahopelto
, and I.
Suni
, Acta Polytech. Scand., Electr. Eng. Ser.
64
, 155
(1989
).1412.
Y.
Jin
, R.
Kobayashi
, K.
Fujii
, and F.
Hasegawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
29
, L1350
(1990
).1413.
K.
Ishikawa
, R.
Kobayashi
, S.
Narahara
, and F.
Hasegawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
31
, 1716
(1992
).1414.
R.
Kobayashi
, K.
Ishikawa
, S.
Narahara
, and F.
Hasegawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
31
, L1730
(1992
).1415.
R.
Kobayashi
, S.
Narahara
, K.
Ishikawa
, and F.
Hasegawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
32
, L164
(1993
).1416.
T.
Taki
and A.
Koukitu
, Appl. Surf. Sci.
112
, 127
(1997
).1417.
J.
Nishizawa
, H.
Abe
, and T.
Kurabayashi
, J. Electrochem. Soc.
132
, 1197
(1985
).1418.
A.
Doi
, Y.
Aoyagi
, and S.
Namba
, Appl. Phys. Lett.
49
, 785
(1986
).1419.
M. A.
Tischler
and S. M.
Bedair
, J. Cryst. Growth
77
, 89
(1986
).1420.
M. A.
Tischler
and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
48
, 1681
(1986
).1421.
M. A.
Tischler
, N. G.
Anderson
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
49
, 1199
(1986
).1422.
S. P.
DenBaars
, C. A.
Beyler
, A.
Hariz
, and P. D.
Dapkus
, Appl. Phys. Lett.
51
, 1530
(1987
).1423.
M.
Ozeki
, K.
Mochizuki
, N.
Ohtsuka
, and K.
Kodama
, Appl. Phys. Lett.
53
, 1509
(1988
).1424.
K.
Mochizuki
, M.
Ozeki
, K.
Kodama
, and N.
Ohtsuka
, J. Cryst. Growth
93
, 557
(1988
).1425.
Y.
Ide
, B. T.
McDermott
, M.
Hashemi
, S. M.
Bedair
, and W. D.
Goodhue
, Appl. Phys. Lett.
53
, 2314
(1988
).1426.
K.
Kitahara
, N.
Ohtsuka
, and M.
Ozeki
, J. Vac. Sci. Technol. B
7
, 700
(1989
).1427.
K.
Kodama
, M.
Ozeki
, K.
Mochizuki
, and N.
Ohtsuka
, Appl. Phys. Lett.
54
, 656
(1989
).1428.
P. D.
Dapkus
, S. P.
DenBaars
, Q.
Chen
, W. G.
Jeong
, and B. Y.
Maa
, Prog. Cryst. Growth Charact. Mater.
19
, 137
(1989
).1429.
E.
Colas
, R.
Bhat
, B. J.
Skromme
, and G. C.
Nihous
, Appl. Phys. Lett.
55
, 2769
(1989
).1430.
Y.
Kawakyu
, H.
Ishikawa
, M.
Sasaki
, and M.
Mashita
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
28
, L1439
(1989
).1431.
A.
Watanabe
, T.
Isu
, M.
Hata
, T.
Kamijoh
, and Y.
Katayama
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
28
, L1080
(1989
).1432.
M. L.
Yu
, U.
Memmert
, and T. F.
Kuech
, Appl. Phys. Lett.
55
, 1011
(1989
).1433.
1434.
B. Y.
Maa
and P. D.
Dapkus
, J. Electron. Mater.
19
, 289
(1990
).1435.
M.
Hashemi
, J.
Ramdani
, B. T.
McDermott
, K.
Reid
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
56
, 964
(1990
).1436.
K.
Kodama
, M.
Ozeki
, Y.
Sakuma
, K.
Mochizuki
, and N.
Ohtsuka
, J. Cryst. Growth
99
, 535
(1990
).1437.
J. R.
Creighton
, K. R.
Lykke
, V. A.
Shamamian
, and B. D.
Kay
, Appl. Phys. Lett.
57
, 279
(1990
).1438.
T. H.
Chiu
, J. E.
Cunningham
, A.
Robertson
, Jr., and D. L.
Malm
, J. Cryst. Growth
105
, 155
(1990
).1439.
K.
Kitahara
, N.
Ohtsuka
, O.
Ueda
, M.
Funagura
, and M.
Ozeki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
29
, L2457
(1990
).1440.
A.
Watanabe
, T.
Kamijoh
, M.
Hata
, T.
Isu
, and Y.
Katayama
, Vacuum
41
, 965
(1990
).1441.
M.
de Keijser
and C.
van Opdorp
, Appl. Phys. Lett.
58
, 1187
(1991
).1442.
J. R.
Gong
, P. S.
Colter
, D.
Jung
, S. A.
Hussien
, C. A.
Parker
, A.
Dip
, F.
Huyga
, W. M.
Duncam
, and S. M.
Bedair
, J. Cryst. Growth
107
, 83
(1991
).1443.
S.
Yokoyama
, M.
Shinohara
, and N.
Inoue
, Appl. Phys. Lett.
59
, 2148
(1991
).1444.
S.
Yokoyama
, M.
Shinohara
, and N.
Inoue
, J. Cryst. Growth
115
, 89
(1991
).1445.
K. G.
Reid
, H. M.
Urdianyk
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
59
, 2397
(1991
).1446.
M.
Sasaki
, Y.
Kawakyu
, H.
Ishikawa
, and M.
Mashita
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
31
, L1313
(1992
).1447.
J. P.
Simko
, T.
Meguro
, S.
Iwai
, K.
Ozasa
, A.
Hirata
, Y.
Aoyagi
, and T.
Sugano
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
31
, L1518
(1992
).1448.
D. E.
Aspnes
, I.
Kamiya
, and R.
Bhat
, J. Vac. Sci. Technol. B
10
, 1725
(1992
).1449.
N.
Kobayashi
and Y.
Kobayashi
, Thin Solid Films
225
, 32
(1993
).1450.
1451.
M. L.
Yu
, Thin Solid Films
225
, 7
(1993
).1452.
J. R.
Creighton
and B. A.
Bansenauer
, Thin Solid Films
225
, 17
(1993
).1453.
K. G.
Reid
, A. F.
Myers
, N. A.
El-Masry
, and S. M.
Bedair
, Thin Solid Films
225
, 59
(1993
).1454.
A.
Dip
, G. M.
Eldallal
, P. C.
Colter
, N.
Hayafuji
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
62
, 2378
(1993
).1455.
H.
Liu
, P. A.
Zawadzki
, and P. E.
Norris
, Thin Solid Films
225
, 105
(1993
).1456.
M.
Mashita
, M.
Sasaki
, Y.
Kawakyu
, and H.
Ishikawa
, J. Cryst. Growth
131
, 61
(1993
).1457.
H.
Isshiki
, Y.
Aoyagi
, T.
Sugano
, S.
Iwai
, and T.
Meguro
, Appl. Phys. Lett.
63
, 1528
(1993
).1458.
C. A.
Wang
and D. M.
Tracy
, J. Electron. Mater.
23
, 185
(1994
).1459.
S. J.
Park
, J. S.
Ha
, J. R.
Ro
, J. K.
Sim
, E. H.
Lee
, and C.
Jeon
, J. Vac. Sci. Technol. B
12
, 1623
(1994
).1460.
H.
Yokoyama
, M.
Tanimoto
, M.
Shinohara
, and N.
Inoue
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
33
, L1292
(1994
).1461.
J.
Nishizawa
and T.
Kurabayashi
, Appl. Surf. Sci.
106
, 11
(1996
).1462.
J.-S.
Lee
, S.
Iwai
, H.
Isshiki
, T.
Meguro
, T.
Sugano
, and Y.
Aoyagi
, Appl. Surf. Sci.
103
, 275
(1996
).1463.
J.-S.
Lee
, S.
Iwai
, H.
Isshiki
, T.
Meguro
, T.
Sugano
, and Y.
Aoyagi
, J. Cryst. Growth
160
, 21
(1996
).1464.
K.
Mukai
, N.
Ohtsuka
, H.
Shoji
, and M.
Sugawara
, Appl. Surf. Sci.
112
, 102
(1997
).1465.
S.
Hirose
, A.
Yoshida
, M.
Yamaura
, and H.
Munekata
, Appl. Phys. Lett.
74
, 964
(1999
).1466.
K.
Kono
, T.
Kurabayashi
, J.
Nishizawa
, and M.
Esashi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
39
, 5737
(2000
).1467.
I. M.
Povey
, D.
Whitehead
, K.
Thomas
, M. E.
Pemble
, M.
Bardosova
, and J.
Renard
, Appl. Phys. Lett.
89
, 104103
(2006
).1468.
B. Y.
Maa
and P. D.
Dapkus
, Appl. Phys. Lett.
58
, 1762
(1991
).1469.
B. Y.
Maa
and P. D.
Dapkus
, Appl. Phys. Lett.
58
, 2261
(1991
).1470.
B. Y.
Maa
and P. D.
Dapkus
, J. Electron. Mater.
20
, 589
(1991
).1471.
Q.
Chen
, C. A.
Beyler
, P. D.
Dapkus
, J. J.
Alwan
, and J. J.
Coleman
, Appl. Phys. Lett.
60
, 2418
(1992
).1472.
B. Y.
Maa
and P. D.
Dapkus
, Thin Solid Films
225
, 12
(1993
).1473.
B. Y.
Maa
, P. D.
Dapkus
, P.
Chen
, and A.
Madhukar
, Appl. Phys. Lett.
62
, 2551
(1993
).1474.
M. Y.
Jow
, B. Y.
Maa
, T.
Morishita
, and P. D.
Dapkus
, J. Electron. Mater.
24
, 25
(1995
).1475.
E.
Arès
, S. P.
Watkins
, P.
Yeo
, G. A.
Horley
, P.
O'Brien
, and A. C.
Jones
, J. Appl. Phys.
83
, 3390
(1998
).1476.
J. A.
Gupta
, J. C.
Woicik
, S. P.
Watkins
, K. E.
Miyano
, J. G.
Pellegrino
, and E. D.
Crozier
, J. Cryst. Growth
195
, 34
(1998
).1477.
T.
Meguro
, T.
Suzuki
, K.
Ozaki
, Y.
Okano
, A.
Hirata
, Y.
Yamamoto
, S.
Iwai
, Y.
Aoyagi
, and S.
Namba
, J. Cryst. Growth
93
, 190
(1988
).1478.
H.
Ohno
, S.
Ohtsuka
, H.
Ishii
, Y.
Matsubara
, and H.
Hasegawa
, Appl. Phys. Lett.
54
, 2000
(1989
).1479.
Q.
Chen
and P. D.
Dapkus
, Thin Solid Films
225
, 115
(1993
).1480.
1481.
T.
Kurabayashi
, K.
Kono
, H.
Kikuchi
, J.
Nishizawa
, and M.
Esashi
, J. Cryst. Growth
229
, 152
(2001
).1482.
Y.
Oyama
, K.
Tezuka
, K.
Suto
, and J.-I.
Nishizawa
, J. Cryst. Growth
246
, 15
(2002
).1483.
J.
Nishizawa
, T.
Kurabayashi
, P.
Płotka
, H.
Kikuchi
, and T.
Hamano
, J. Cryst. Growth
244
, 236
(2002
).1484.
J.
Nishizawa
, T.
Kurabayashi
, P.
Plotka
, H.
Kikuchi
, and T.
Hamano
, Mater. Sci. Semicond. Process.
6
, 429
(2003
).1485.
T.
Ohno
, Y.
Oyama
, K.
Saito
, K.
Suto
, and J.
Nishizawa
, Thin Solid Films
464/465
, 123
(2004
).1486.
M.
Aït-Lhouss
, J. L.
Castaño
, B. J.
García
, and J.
Piqueras
, J. Appl. Phys.
78
, 5834
(1995
).1487.
K.
Fujii
, I.
Suemune
, T.
Koui
, and M.
Yamanishi
, Appl. Phys. Lett.
60
, 1498
(1992
).1488.
K.
Fujii
, I.
Suemune
, and M.
Yamanishi
, Appl. Phys. Lett.
61
, 2577
(1992
).1489.
C.
Sasaoka
, M.
Yoshida
, and A.
Usui
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
27
, L490
(1988
).1490.
K.
Mori
, M.
Yoshida
, A.
Usui
, and H.
Terao
, Appl. Phys. Lett.
52
, 27
(1988
).1491.
P.
Yeo
, R.
Arès
, S. P.
Watkins
, G. A.
Horley
, P.
O'Brien
, and A. C.
Jones
, J. Electron. Mater.
26
, 1174
(1997
).1492.
S.
Sugahara
, Y.
Uchida
, T.
Kitamura
, T.
Nagai
, M.
Matsuyama
, T.
Hattori
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
36
, 1609
(1997
).1493.
M.
Matsuyama
, S.
Sugahara
, K.
Ikeda
, Y.
Uchida
, and M.
Matsumura
, Jpn. J. Appl. Phys.
39
, 2536
(2000
).1494.
S.
Sugahara
, T.
Kitamura
, S.
Imai
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 380
(1994
).1495.
S.
Sugahara
, M.
Kadoshima
, T.
Kitamura
, S.
Imai
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
90
, 349
(1995
).1496.
S.
Sugahara
, K.
Hosaka
, and M.
Matsumura
, Appl. Surf. Sci.
132
, 327
(1998
).1497.
Y.
Takahashi
, H.
Ishii
, and K.
Fujinaga
, J. Electrochem. Soc.
136
, 1826
(1989
).1498.
Y.
Takahashi
, Y.
Sese
, and T.
Urisu
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
28
, 2387
(1989
).1499.
M.
Sakuraba
, J.
Murota
, N.
Mikoshiba
, and S.
Ono
, J. Cryst. Growth
115
, 79
(1991
).1500.
K. H.
Huang
, T. S.
Ku
, and D. S.
Lin
, Phys. Rev. B
56
, 4878
(1997
).1501.
D.-S.
Lin
, J.-L.
Wu
, S.-Y.
Pan
, and T.-C.
Chiang
, Phys. Rev. Lett.
90
, 046102
(2003
).1502.
S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Aleskovskii
, G. N.
Kuznetsova
, and N. G.
Roslyakova
, Neorg. Mater.
3
, 1509
(1967
)S. I.
Kol'tsov
, V. B.
Aleskovskii
, G. N.
Kuznetsova
, and N. G.
Roslyakova
, [Inorg. Mater.
3
, 1318
(1967
)].1503.
M.
Perego
, G.
Scarel
, I. L.
Fedushkin
, and A. A.
Skatova
, Appl. Phys. Lett.
90
, 162115
(2007
).1504.
K.
Knapas
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
22
, 1386
(2010
).1505.
M.
Vehkamäki
, T.
Hänninen
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, E.
Rauhala
, and J.
Keinonen
, Chem. Vap. Deposition
7
, 75
(2001
).1506.
1507.
T. P.
Holme
and F. B.
Prinz
, J. Phys. Chem. A
111
, 8147
(2007
).1508.
A.
Kosola
, M.
Putkonen
, L.-S.
Johansson
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
211
, 102
(2003
).1509.
J.
Ihanus
, T.
Hänninen
, T.
Hatanpää
, T.
Aaltonen
, I.
Mutikainen
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
14
, 1937
(2002
).1510.
J.
Ihanus
, T.
Hänninen
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
151
, H221
(2004
).1511.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Jaek
, M.
Leskelä
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
4
, 1239
(1994
).1512.
P.
Soininen
, E.
Nykänen
, L.
Niinistö
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
2
, 69
(1996
).1513.
R.
Lappalainen
, M.
Karjalainen
, R.
Serimaa
, S.
Sevanto
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
87
, 1153
(2000
).1514.
W.-C.
Shin
, S.-O.
Ryu
, I.-K.
You
, B.-G.
Yu
, W.-J.
Lee
, K.-J.
Choi
, and S.-G.
Yoon
, J. Electrochem. Soc.
151
, C292
(2004
).1515.
J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Chem. Mater.
16
, 2953
(2004
).1516.
C. N.
Ginestra
, R.
Sreenivasan
, A.
Karthikeyan
, S.
Ramanathan
, and P. C.
McIntyre
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, B161
(2007
).1517.
J. H.
Shim
, C. C.
Chao
, H.
Huang
, and F. B.
Prinz
, Chem. Mater.
19
, 3850
(2007
).1518.
C.-C.
Chao
, Y. B.
Kim
, and F. B.
Prinz
, Nano Lett.
9
, 3626
(2009
).1519.
J. H.
Shim
, J. S.
Park
, J.
An
, T. M.
Guer
, S.
Kang
, and F. B.
Prinz
, Chem. Mater.
21
, 3290
(2009
).1520.
T.
Roessler
, J.
Gluch
, M.
Albert
, and J. W.
Bartha
, Thin Solid Films
518
, 4680
(2010
).1521.
J.
Niinistö
, K.
Kukli
, T.
Sajavaara
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, L.
Oberbeck
, J.
Sundqvist
, and U.
Schröder
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, G1
(2009
).1522.
P.
Majumder
, G.
Jursich
, and C.
Takoudis
, J. Appl. Phys.
105
, 104106
(2009
).1523.
Q.
Tao
, G.
Jursich
, P.
Majumder
, M.
Singh
, W.
Walkosz
, P.
Gu
, R.
Klie
, and C.
Takoudis
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, G50
(2009
).1524.
H.
Mölsä
, L.
Niinistö
, and M.
Utriainen
, Adv. Mater. Opt. Electron.
4
, 389
(1994
).1525.
M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, L.-S.
Johansson
, and L.
Niinistö
, Chem. Vap. Deposition
7
, 44
(2001
).1526.
M.
Håkansson
, M.
Helin
, M.
Putkonen
, Q.
Jiang
, A.
Kotiranta
, J.
Suomi
, A. J.
Niskanen
, T.
Ala-Kleme
, and S.
Kulmala
, Anal. Chim. Acta
541
, 135
(2005
).1527.
T. T.
Van
and J. P.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
87
, 011907
(2005
).1528.
T. T.
Van
and J. P.
Chang
, Appl. Surf. Sci.
246
, 250
(2005
).1529.
T. T.
Van
and J. P.
Chang
, Surf. Sci.
596
, 1
(2005
).1530.
T. T.
Van
, J.
Hoang
, R.
Ostroumov
, K. L.
Wang
, J. R.
Bargar
, J.
Lu
, H. O.
Blom
, and J. P.
Chang
, J. Appl. Phys.
100
, 073512
(2006
).1531.
T. T.
Van
, J. R.
Bargar
, and J. P.
Chang
, J. Appl. Phys.
100
, 023115
(2006
).1532.
J.
Hoang
, T. T.
Van
, M. S.
-Mathur
, B.
Hoex
, M. C. M.
van de Sanden
, W. M. M.
Kessels
, R.
Ostroumov
, K. L.
Wang
, J. R.
Bargar
, and J. P.
Chang
, J. Appl. Phys.
101
, 123116
(2007
).1533.
P.
de Rouffignac
, J. S.
Park
, and R. G.
Gordon
, Chem. Mater.
17
, 4808
(2005
).1534.
T.
Pilvi
, E.
Puukilainen
, F.
Munnik
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
15
, 27
(2009
).1535.
K.
Kukli
, M.
Peussa
, L.-S.
Johansson
, E.
Nykänen
, and L.
Niinistö
, Mater. Sci. Forum
315–317
, 216
(1999
).1536.
M.
Ritala
and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
75
, 333
(1994
).1537.
A.
Kytökivi
, E.-L.
Lakomaa
, and A.
Root
, Langmuir
12
, 4395
(1996
).1538.
A.
Kytökivi
, E.-L.
Lakomaa
, A.
Root
, H.
Österholm
, J.-P.
Jacobs
, and H. H.
Brongersma
, Langmuir
13
, 2717
(1997
).1539.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Nanostruct. Mater.
8
, 785
(1997
).1540.
M.
Copel
, M.
Gribelyuk
, and E.
Gusev
, Appl. Phys. Lett.
76
, 436
(2000
).1541.
H.
Zhang
, R.
Solanki
, B.
Roberds
, G.
Bai
, and I.
Banerjee
, J. Appl. Phys.
87
, 1921
(2000
).1542.
M.
Cassir
, F.
Goubina
, C.
Bernay
, P.
Vernoux
, and D.
Lincot
, Appl. Surf. Sci.
193
, 120
(2002
).1543.
A.
Javey
, H.
Kim
, M.
Brink
, Q.
Wang
, A.
Ural
, J.
Guo
, P.
McIntyre
, P.
McEuen
, M.
Lundstrom
, and H. J.
Dai
, Nature Mater.
1
, 241
(2002
).1544.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Thin Solid Films
408
, 97
(2002
).1545.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, J.
Aarik
, T.
Uustare
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
92
, 1833
(2002
).1546.
A.
Rahtu
and M.
Ritala
, J. Mater. Chem.
12
, 1484
(2002
).1547.
H.
Kim
, C. O.
Chui
, K. C.
Saraswat
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
83
, 2647
(2003
).1548.
E.
Bonera
, G.
Scarel
, and M.
Fanciulli
, J. Non-Cryst. Solids
322
, 105
(2003
).1549.
G.
Scarel
, S.
Ferrari
, S.
Spiga
, C.
Wiemer
, G.
Tallarida
, and M.
Fanciulli
, J. Vac. Sci. Technol. A
21
, 1359
(2003
).1550.
S.-Y.
Lee
, H.
Kim
, P. C.
McIntyre
, K. C.
Saraswat
, and J.-S.
Byun
, Appl. Phys. Lett.
82
, 2874
(2003
).1551.
S.
Ferrari
, M.
Modreanu
, G.
Scarel
, and M.
Fanciulli
, Thin Solid Films
450
, 124
(2004
).1552.
J.
Lee
, J.
Koo
, H. S.
Sim
, H.
Jeon
, and Y.
Won
, J. Korean Phys. Soc.
44
, 915
(2004
).1553.
J.
Okabayashi
, S.
Toyoda
, H.
Kumigashira
, M.
Oshima
, K.
Usuda
, M.
Niwa
, and G. L.
Liu
, Appl. Phys. Lett.
85
, 5959
(2004
).1554.
H. S.
Kim
, P. C.
McIntyre
, and K. C.
Saraswat
, J. Mater. Res.
19
, 643
(2004
).1555.
H.
Kim
, K. C.
Saraswat
, and P. C.
McIntyre
, J. Mater. Res.
20
, 3125
(2005
).1556.
S. N.
Tkachev
, M. H.
Manghnani
, A.
Niilisk
, J.
Aarik
, and H.
Mändar
, Spectrochim. Acta, Part A
61
, 2434
(2005
).1557.
S. N.
Tkachev
, M. H.
Manghnani
, A.
Niilisk
, J.
Aarik
, and H.
Mändar
, J. Mater. Sci.
40
, 4293
(2005
).1558.
H.
Kim
and P. C.
McIntyre
, J. Korean Phys. Soc.
48
, 5
(2006
).1559.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Kasikov
, H.
Mändar
, R.
Rammula
, and V.
Sammelselg
, Appl. Surf. Sci.
252
, 5723
(2006
).1560.
A.
Delabie
, F.
Bellenger
, M.
Houssa
, T.
Conard
, S.
Van Elshocht
, M.
Caymax
, M.
Heyns
, and M.
Meuris
, Appl. Phys. Lett.
91
, 082904
(2007
).1561.
S.
Bang
, S.
Lee
, S.
Jeon
, S.
Kwon
, W.
Jeong
, S.
Kim
, and H.
Jeon
, J. Electrochem. Soc.
155
, H633
(2008
).1562.
S.
Lee
, S.
Bang
, S.
Jeon
, S.
Kwon
, W.
Jeong
, S.
Kim
, and H.
Jeon
, J. Electrochem. Soc.
155
, H516
(2008
).1563.
I.
Jõgi
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, and J.
Lu
, Microelectron. Eng.
87
, 144
(2010
).1564.
N.
Yoshii
, N.
Takahashi
, T.
Nakamura
, and M.
Yoshioka
, Electrochem. Solid-State Lett.
5
, C85
(2002
).1565.
N.
Takahashi
, N.
Yoshii
, S.
Nonobe
, T.
Nakamura
, and M.
Yoshioka
, J. Electron. Mater.
32
, 1107
(2003
).1566.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
416
, 72
(2002
).1567.
K.
Kukli
, K.
Forsgren
, J.
Aarik
, T.
Uustare
, A.
Aidla
, A.
Niskanen
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and A.
Hårsta
, J. Cryst. Growth
231
, 262
(2001
).1568.
K.
Kukli
, K.
Forsgren
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, J.
Aarik
, and A.
Hårsta
, J. Electrochem. Soc.
148
, F227
(2001
).1569.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Uustare
, J.
Aarik
, K.
Forsgren
, T.
Sajavaara
, M.
Leskelä
, and A.
Hårsta
, Thin Solid Films
410
, 53
(2002
).1570.
K.
Forsgren
, J.
Westlinder
, J.
Lu
, J.
Olsson
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
8
, 105
(2002
).1571.
M.
Putkonen
and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
11
, 3141
(2001
).1572.
M.
Kröger-Laukkanen
, M.
Peussa
, M.
Leskelä
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
183
, 290
(2002
).1573.
C.
Brahim
, A.
Ringuede
, M.
Cassir
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
253
, 3962
(2007
).1574.
M.
Putkonen
, J.
Niinistö
, K.
Kukli
, T.
Sajavaara
, M.
Karppinen
, H.
Yamauchi
, and L.
Niinistö
, Chem. Vap. Deposition
9
, 207
(2003
).1575.
J.
Niinistö
, A.
Rahtu
, M.
Putkonen
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and L.
Niinistö
, Langmuir
21
, 7321
(2005
).1576.
J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
95
, 84
(2004
).1577.
K. B.
Jinesh
, W. F. A.
Besling
, E.
Tois
, J. H.
Klootwijk
, R.
Wolters
, W.
Dekkers
, M.
Kaiser
, F.
Bakker
, M.
Tuominen
, and F.
Roozeboom
, Appl. Phys. Lett.
93
, 062903
(2008
).1578.
K.
Kukli
, J.
Niinistö
, A.
Tamm
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 226
(2009
).1579.
C. L.
Dezelah
IV, J.
Niinistö
, K.
Kukli
, F.
Munnik
, J.
Lu
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and L.
Niinistö
, Chem. Vap. Deposition
14
, 358
(2008
).1580.
J.
Niinistö
, K.
Kukli
, A.
Tamm
, M.
Putkonen
, C. L.
Dezelah
IV, L.
Niinistö
, J.
Lu
, F.
Song
, P.
Williams
, P. N.
Heys
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Chem.
18
, 3385
(2008
).1581.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, A.
Gómez
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, J.
Niinistö
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 389
(2009
).1582.
K.
Knapas
and M.
Ritala
, Chem. Mater.
20
, 5698
(2008
).1583.
I.
Jõgi
, A.
Tamm
, K.
Kukli
, M.
Kemell
, J.
Lu
, T.
Sajavaara
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
157
, G202
(2010
).1584.
A.
Tamm
, M.
Heikkilä
, M.
Kemell
, J.
Kozlova
, K.
Kukli
, V.
Sammelselg
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
519
, 666
(2010
); special section: Romanian Conference on Advanced Materials 2009.1585.
K.
Black
, H. C.
Aspinall
, A. C.
Jones
, K.
Przybylak
, J.
Bacsa
, P. R.
Chalker
, S.
Taylor
, C. Z.
Zhao
, S. D.
Elliott
, A.
Zydor
, and P. N.
Heys
, J. Mater. Chem.
18
, 4561
(2008
).1586.
C.
Nistorica
, J. F.
Liu
, I.
Gory
, G. D.
Skidmore
, F. M.
Mantiziba
, B. E.
Gnade
, and J.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 836
(2005
).1587.
R.
Matero
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, A. C.
Jones
, and J. L.
Roberts
, Chem. Mater.
16
, 5630
(2004
).1588.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
6
, 297
(2000
).1589.
A.
Nakajima
, T.
Kidera
, H.
Ishii
, and S.
Yokoyama
, Appl. Phys. Lett.
81
, 2824
(2002
).1590.
J.
Park
, B.
Choi
, N.
Park
, H. J.
Shin
, J. G.
Lee
, and J.
Kim
, Integr. Ferroelectr.
48
, 23
(2002
).1591.
H.
Ishii
, A.
Nakajima
, and S.
Yokoyama
, J. Appl. Phys.
95
, 536
(2004
).1592.
D.
Jeong
, J.
Lee
, and J.
Kim
, Integr. Ferroelectr.
67
, 41
(2004
).1593.
B. H.
Lee
, K. K.
Im
, K. H.
Lee
, S.
Im
, and M. M.
Sung
, Thin Solid Films
517
, 4056
(2009
).1594.
B. H.
Lee
, S.
Cho
, J. K.
Hwang
, S. H.
Kim
, and M. M.
Sung
, Thin Solid Films
518
, 6432
(2010
).1595.
J.
Koo
, Y.
Kim
, and H.
Jeon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
41
, 3043
(2002
).1596.
Y.
Kim
, J.
Koo
, J.
Han
, S.
Choi
, H.
Jeon
, and C.-G.
Park
, J. Appl. Phys.
92
, 5443
(2002
).1597.
K.
Endo
and T.
Tatsumi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
42
, L685
(2003
).1598.
K.
Endo
and T.
Tatsumi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
43
, L1296
(2004
).1599.
R.
Matero
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, A. C.
Jones
, P. A.
Williams
, J. F.
Bickley
, A.
Steiner
, T. J.
Leedham
, and H. O.
Davies
, J. Non-Cryst. Solids
303
, 24
(2002
).1600.
Y.
Tak
and K.
Yong
, Surf. Rev. Lett.
12
, 215
(2005
).1601.
D. M.
Hausmann
, E.
Kim
, J.
Becker
, and R. G.
Gordon
, Chem. Mater.
14
, 4350
(2002
).1602.
D. M.
Hausmann
and R. G.
Gordon
, J. Cryst. Growth
249
, 251
(2003
).1603.
T. C.
Li
, M. S.
Goes
, F.
Fabregat-Santiago
, J.
Bisquert
, P. R.
Bueno
, C.
Prasittichai
, J. T.
Hupp
, and T. J.
Marks
, J. Phys. Chem. C
113
, 18385
(2009
).1604.
W.
Lee
and F. B.
Prinz
, J. Electrochem. Soc.
156
, G125
(2009
).1605.
D.
Gu
, H.
Baumgart
, G.
Namkoong
, and T. M.
Abdel-Fattah
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, K25
(2009
).1606.
S.
Abermann
, G.
Pozzovivo
, J.
Kuzmik
, C.
Ostermaier
, C.
Henkel
, O.
Bethge
, G.
Strasser
, D.
Pogany
, J. F.
Carlin
, N.
Grandjean
, and E.
Bertagnolli
, Electron. Lett.
45
, 570
(2009
).1607.
S.
Abermann
, C.
Henkel
, O.
Bethge
, G.
Pozzovivo
, P.
Klang
, and E.
Bertagnolli
, Appl. Surf. Sci.
256
, 5031
(2010
).1608.
J. Y.
Kim
, S. H.
Kim
, H.
Seo
, J. H.
Kim
, and H.
Jeon
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G82
(2005
).1609.
B.
Lee
, K. J.
Choi
, A.
Hande
, M. J.
Kim
, R. M.
Wallace
, J.
Kim
, Y.
Senzaki
, D.
Shenai
, H.
Li
, M.
Rousseau
, and J.
Suydam
, Microelectron. Eng.
86
, 272
(2009
).1610.
D. H.
Triyoso
, R. I.
Hegde
, and R.
Gregory
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, H354
(2007
).1611.
D. H.
Triyoso
, R.
Gregory
, M.
Park
, K.
Wang
, and S. I.
Lee
, J. Electrochem. Soc.
155
, H43
(2008
).1612.
S. K.
Kim
and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, G9
(2008
).1613.
J. H.
Kim
, V. A.
Ignatova
, J.
Heitmann
, and L.
Oberbeck
, J. Phys. D: Appl. Phys.
41
, 172005
(2008
).1614.
W.
Weinreich
, V. A.
Ignatova
, L.
Wilde
, S.
Teichert
, M.
Lemberger
, A. J.
Bauer
, R.
Reiche
, E.
Erben
, J.
Heitmann
, L.
Oberbeck
, and U.
Schröder
, J. Appl. Phys.
106
, 034107
(2009
).1615.
M.-Y.
Li
, B.-S.
Tsai
, P.-C.
Jiang
, H.-C.
Wu
, Y.-H.
Wu
, and Y.-J.
Lin
, Thin Solid Films
518
, 5272
(2010
).1616.
S. J.
Yun
, J. W.
Lim
, and J. H.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, F81
(2004
).1617.
S. J.
Yun
, J. W.
Lim
, and J. H.
Lee
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, F47
(2005
).1618.
S.-J.
Won
, J.-Y.
Kim
, G.-J.
Choi
, J.
Heo
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, Chem. Mater.
21
, 4374
(2009
).1619.
D.-Y.
Cho
, H.-S.
Jung
, and C. S.
Hwang
, Phys. Rev. B
82
, 094104
(2010
).1620.
W.-H.
Nam
and S.-W.
Rhee
, Chem. Vap. Deposition
10
, 201
(2004
).1621.
S. E.
Potts
, C. J.
Carmalt
, C. S.
Blackman
, F.
Abou-Chahine
, N.
Leick
, W. M. M.
Kessels
, H. O.
Davies
, and P. N.
Heys
, Inorg. Chim. Acta
363
, 1077
(2010
).1622.
J. S.
Becker
, E.
Kim
, and R. G.
Gordon
, Chem. Mater.
16
, 3497
(2004
).1623.
S.
Cho
, K.
Lee
, P.
Song
, H.
Jeon
, and Y.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
46
, 4085
(2007
).1624.
S. V.
Ushakov
, A.
Navrotsky
, Y.
Yang
, S.
Stemmer
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, M. A.
Leskelä
, P.
Fejes
, A.
Demkov
, C.
Wang
, B.-Y.
Nguyen
, D.
Triyoso
, and P.
Tobin
, Phys. Status Solidi B
241
, 2268
(2004
).1625.
J. M.
Gaskell
, A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, S.
Taylor
, P.
Taechakumput
, P. R.
Chalker
, P. N.
Heys
, and R.
Odedra
, Appl. Phys. Lett.
91
, 112912
(2007
).1626.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and R.
Lappalainen
, Chem. Vap. Deposition
4
, 29
(1998
).1627.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
86
, 5656
(1999
).1628.
K.
Knapas
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
15
, 269
(2009
).1629.
K.
Knapas
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Langmuir
26
, 848
(2010
).1630.
K.-E.
Elers
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, and E.
Rauhala
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 468
(1994
).1631.
P.
Alén
, M.
Ritala
, K.
Arstila
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
491
, 235
(2005
).1632.
N.
Van Hoornick
, H.
De Witte
, T.
Witters
, C.
Zhao
, T.
Conard
, H.
Huotari
, J.
Swerts
, T.
Schram
, J. W.
Maes
, S.
De Gendt
, and M.
Heyns
, J. Electrochem. Soc.
153
, G437
(2006
).1633.
J.
Hinz
, A. J.
Bauer
, and L.
Frey
, Semicond. Sci. Technol.
25
, 075009
(2010
).1634.
M.
Juppo
, M.
Vehkamäki
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. A
16
, 2845
(1998
).1635.
P.
Alén
, M.
Ritala
, K.
Arstila
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
152
, G361
(2005
).1636.
V.
Miikkulainen
, M.
Suvanto
, and T.
Pakkanen
, Chem. Mater.
19
, 263
(2007
).1637.
V.
Miikkulainen
, M.
Suvanto
, and T. A.
Pakkanen
, Thin Solid Films
516
, 6041
(2008
).1638.
V.
Miikkulainen
, M.
Suvanto
, and T.
Pakkanen
, Chem. Vap. Deposition
14
, 71
(2008
).1639.
V.
Miikkulainen
, M.
Suvanto
, T. A.
Pakkanen
, S.
Siitonen
, P.
Karvinen
, M.
Kuittinen
, and H.
Kisonen
, Surf. Coat. Technol.
202
, 5103
(2008
).1640.
V.
Miikkulainen
, “Molybdenum nitride thin films on micro- and nanopatterned substrates: Atomic layer deposition and applications
,” Ph.D. dissertation (University of Joensuu, Finland
, 2008
).1641.
T.-K.
Eom
, W.
Sari
, K.-J.
Choi
, W.-C.
Shin
, J. H.
Kim
, D.-J.
Lee
, K.-B.
Kim
, H.
Sohn
, and S.-H.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, D85
(2009
).1642.
T.
Aaltonen
, A.
Rahtu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Electrochem. Solid-State Lett.
6
, C130
(2003
).1643.
T.
Aaltonen
, P.
Alén
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
9
, 45
(2003
).1644.
T.
Aaltonen
, M.
Ritala
, Y. L.
Tung
, Y.
Chi
, K.
Arstila
, K.
Meinander
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Res.
19
, 3353
(2004
).1645.
M.
Zhang
, W.
Chen
, S. J.
Ding
, X. P.
Wang
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, J. Vac. Sci. Technol. A
25
, 775
(2007
).1646.
K. J.
Park
, D. B.
Terry
, S. M.
Stewart
, and G. N.
Parsons
, Langmuir
23
, 6106
(2007
).1647.
J.
Biener
, T. F.
Baumann
, Y. M.
Wang
, E. J.
Nelson
, S. O.
Kucheyev
, A. V.
Hamza
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Nanotechnology
18
, 055303
(2007
).1648.
M.
Zhang
, W.
Chen
, S. J.
Ding
, Z. Y.
Liu
, Y.
Huang
, Z. W.
Liao
, and D. W.
Zhang
, J. Phys. D: Appl. Phys.
41
, 032007
(2008
).1649.
S. J.
Park
, W. H.
Kim
, H. B. R.
Lee
, W. J.
Maeng
, and H.
Kim
, Microelectron. Eng.
85
, 39
(2008
).1650.
S.-J.
Park
, W.-H.
Kim
, W.
Maeng
, Y.
Yang
, C.
Park
, H.
Kim
, K.-N.
Lee
, S.-W.
Jung
, and W.
Seong
, Thin Solid Films
516
, 7345
(2008
).1651.
X.
Jiang
, T. N.
Guer
, F. B.
Prinz
, and S. F.
Bent
, Chem. Mater.
22
, 3024
(2010
).1652.
O.-K.
Kwon
, J.-H.
Kim
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
151
, G109
(2004
).1653.
K. J.
Park
, J. M.
Doub
, T.
Gougousi
, and G. N.
Parsons
, Appl. Phys. Lett.
86
, 051903
(2005
).1654.
S. H.
Kwon
, O. K.
Kwon
, J. H.
Kim
, S. J.
Jeong
, S. W.
Kim
, and S. W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
154
, H773
(2007
).1655.
D. J.
Lee
, S. S.
Yim
, K. S.
Kim
, S. H.
Kim
, and K. B.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, K61
(2008
).1656.
S. S.
Yim
, D. J.
Lee
, K. S.
Kim
, M. S.
Lee
, S. H.
Kim
, and K. B.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, K89
(2008
).1657.
S. S.
Yim
, D. J.
Lee
, K. S.
Kim
, S. H.
Kim
, T. S.
Yoon
, and K. B.
Kim
, J. Appl. Phys.
103
, 113509
(2008
).1658.
S.-H.
Park
, S.
Kim
, D.-J.
Lee
, S.
Yun
, Z. G.
Khim
, and K.-B.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
156
, K181
(2009
).1659.
D.-J.
Lee
, S.-S.
Yim
, K.-S.
Kim
, S.-H.
Kim
, and K.-B.
Kim
, J. Appl. Phys.
107
, 013707
(2010
).1660.
J. H.
Kim
, S. G.
Yoon
, S. J.
Yeom
, H. K.
Woo
, D. S.
Kil
, J. S.
Roh
, and H. C.
Sohn
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, F17
(2005
).1661.
O.-K.
Kwon
, S.-H.
Kwon
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, C46
(2004
).1662.
O.-K.
Kwon
, S.-H.
Kwon
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
151
, C753
(2004
).1663.
S. S.
Yim
, M. S.
Lee
, K. S.
Kim
, and K. B.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
89
, 093115
(2006
).1664.
S. H.
Kwon
, O. K.
Kwon
, J. H.
Kim
, H. R.
Oh
, K. H.
Kim
, and S. W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
155
, H296
(2008
).1665.
M.-G.
Ko
, W.-S.
Kim
, S.-K.
Park
, H.-D.
Kim
, and J.-W.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 2123
(2008
).1666.
Q.
Xie
, Y.-L.
Jiang
, J.
Musschoot
, D.
Deduytsche
, C.
Detavernier
, R. L.
Van Meirhaeghe
, S.
Van den Berghe
, G.-P.
Ru
, B.-Z.
Li
, and X.-P.
Qu
, Thin Solid Films
517
, 4689
(2009
).1667.
J. Y.
Son
, W. J.
Maeng
, W.-H.
Kim
, Y. H.
Shin
, and H.
Kim
, Thin Solid Films
517
, 3892
(2009
).1668.
S.
Kumar
, D.
Greenslit
, T.
Chakraborty
, and E. T.
Eisenbraun
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 572
(2009
).1669.
B. H.
Choi
, Y. H.
Lim
, J. H.
Lee
, Y. B.
Kim
, H.-N.
Lee
, and H. K.
Lee
, Microelectron. Eng.
87
, 1391
(2010
).1670.
J.
Musschoot
, Q.
Xie
, D.
Deduytsche
, K.
De Keyser
, D.
Longrie
, J.
Haemers
, S.
Van den Berghe
, R. L.
Van Meirhaeghe
, J.
D'Haen
, and C.
Detavernier
, Microelectron. Eng.
87
, 1879
(2010
).1671.
S.-W.
Kim
, S.-H.
Kwon
, S.-J.
Jeong
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
155
, H885
(2008
).1672.
S. K.
Kim
, S. Y.
Lee
, S. W.
Lee
, G. W.
Hwang
, C. S.
Hwang
, J. W.
Lee
, and J.
Jeong
, J. Electrochem. Soc.
154
, D95
(2007
).1673.
W.-H.
Kim
, S.-J.
Park
, J.-Y.
Son
, and H.
Kim
, Nanotechnology
19
, 045302
(2008
).1674.
J.
Heo
, S. J.
Won
, D.
Eom
, S. Y.
Lee
, Y. B.
Ahn
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, H210
(2008
).1675.
J.
Heo
, D.
Eom
, S. Y.
Lee
, S.-J.
Won
, S.
Park
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, Chem. Mater.
21
, 4006
(2009
).1676.
S. T.
Christensen
, H.
Feng
, J. L.
Libera
, N.
Guo
, J. T.
Miller
, P. C.
Stair
, and J. W.
Elam
, Nano Lett.
10
, 3047
(2010
).1677.
S. K.
Kim
, J. H.
Han
, G. H.
Kim
, and C. S.
Hwang
, Chem. Mater.
22
, 2850
(2010
).1678.
K. M.
Thom
and J. G.
Ekerdt
, Surf. Sci.
603
, 921
(2009
).1679.
L.
Wu
and E.
Eisenbraun
, J. Electrochem. Soc.
156
, H734
(2009
).1680.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Kemell
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
157
, D35
(2010
).1681.
N.
Leick
, R. O. F.
Verkuijlen
, E.
Langereis
, S.
Rushworth
, F.
Roozeboom
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, in Proceedings of the 56th international American Vacuum Society Symposium & Exhibition (AVS 56), 8–13 November 2009, San Jose, California
(AVS
, New York, NY
, 2009
), p. TF2
–MoM1
.1682.
S. K.
Park
, R.
Kanjolia
, J.
Anthis
, R.
Odedra
, N.
Boag
, L.
Wielunski
, and Y. J.
Chabal
, Chem. Mater.
22
, 4867
(2010
).1683.
Y.-S.
Min
, E. J.
Bae
, K. S.
Jeong
, Y. J.
Cho
, J.-H.
Lee
, W. B.
Choi
, and G.-S.
Park
, Adv. Mater.
15
, 1019
(2003
).1684.
M.
Lashdaf
, T.
Hatanpää
, A. O. I.
Krause
, J.
Lahtinen
, M.
Lindblad
, and M.
Tiitta
, Appl. Catal., A
241
, 51
(2003
).1685.
T.
Aaltonen
, M.
Ritala
, K.
Arstila
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
10
, 215
(2004
).1686.
S. K.
Kim
, S.
Hoffmann-Eifert
, and R.
Waser
, J. Phys. Chem. C
113
, 11329
(2009
).1687.
W.-H.
Kim
, S.-J.
Park
, D. Y.
Kim
, and H.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
55
, 32
(2009
).1688.
H.
Wang
, R. G.
Gordon
, R.
Alvis
, and R. M.
Ulfig
, Chem. Vap. Deposition
15
, 312
(2009
).1689.
H.
Li
, D. B.
Farmer
, R. G.
Gordon
, Y.
Lin
, and J.
Vlassak
, J. Electrochem. Soc.
154
, D642
(2007
).1690.
D. B.
Farmer
and R. G.
Gordon
, J. Appl. Phys.
101
, 124503
(2007
).1691.
J.
Gatineau
, K.
Yanagita
, and C.
Dussarrat
, Microelectron. Eng.
83
, 2248
(2006
).1692.
J. H.
Kim
, D. S.
Kil
, S. J.
Yeom
, J. S.
Roh
, N. J.
Kwak
, and J. W.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
91
, 052908
(2007
).1693.
K.
Hušeková
, E.
Dobročka
, A.
Rosová
, J.
Šoltýs
, A.
Šatka
, F.
Fillot
, and K.
Fröhlich
, Thin Solid Films
518
, 4701
(2010
).1694.
T.
Aaltonen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, C99
(2005
).1695.
J.
Hämäläinen
, F.
Munnik
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
156
, D418
(2009
).1696.
J. J.
Senkevich
, F.
Tang
, D.
Rogers
, J. T.
Drotar
, C.
Jezewski
, W. A.
Lanford
, G. C.
Wang
, and T. M.
Lu
, Chem. Vap. Deposition
9
, 258
(2003
).1697.
Y.
Kim
, G. A.
Ten Eyck
, D. X.
Ye
, C.
Jezewski
, T.
Karabacak
, H. S.
Shin
, J. J.
Senkevich
, T. M.
Lu
, J. Electrochem. Soc.
152
, C376
(2005
).1698.
G. A.
Ten Eyck
, S.
Pimanpang
, H.
Bakhru
, T. M.
Lu
, and G. C.
Wang
, Chem. Vap. Deposition
12
, 290
(2006
).1699.
Y. S.
Kim
, J.
Shin
, J. H.
Cho
, G. A.
Ten Eyck
, D. L.
Liu
, S.
Pimanpang
, T. M.
Lu
, J. J.
Senkevich
, and H. S.
Shin
, Surf. Coat. Technol.
200
, 5760
(2006
).1700.
N. E.
Lay
, G. A. T.
Eyck
, D. J.
Duquette
, and T. M.
Lu
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, D13
(2007
).1701.
G. A.
Ten Eyck
, S.
Pimanpang
, J. S.
Juneja
, H.
Bakhru
, T. M.
Lu
, and G. C.
Wang
, Chem. Vap. Deposition
13
, 307
(2007
).1702.
J.
Elam
, A.
Zinovev
, C.
Han
, H.
Wang
, U.
Welp
, J.
Hryn
, and M.
Pellin
, Thin Solid Films
515
, 1664
(2006
).1703.
D. N.
Goldstein
and S. M.
George
, Appl. Phys. Lett.
95
, 143106
(2009
).1704.
1705.
A.
Niskanen
, T.
Hatanpää
, K.
Arstila
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
13
, 408
(2007
).1706.
P. R.
Chalker
, S.
Romani
, P. A.
Marshall
, M. J.
Rosseinsky
, S.
Rushworth
, and P. A.
Williams
, Nanotechnology
21
, 405602
(2010
).1707.
T.
Tadokoro
, S.
Ohta
, T.
Ishiguro
, Y.
Ichinose
, S.
Kobayashi
, and N.
Yamamoto
, J. Cryst. Growth
130
, 29
(1993
).1708.
1709.
Y.
Luo
, D.
Slater
, M.
Han
, J.
Moryl
, and R. M.
Osgood
, Jr., Appl. Phys. Lett.
71
, 3799
(1997
).1710.
Y.
Luo
, D.
Slater
, M.
Han
, J.
Moryl
, and R. M.
Osgood
, Jr., Langmuir
14
, 1493
(1998
).1711.
M.
Han
, Y.
Luo
, J. E.
Moryl
, R. M.
Osgood
, Jr., and J. G.
Chen
, Surf. Sci.
415
, 251
(1998
).1712.
M.
Han
, Y.
Luo
, J. E.
Moryl
, and R. M.
Osgood
, Jr., Surf. Sci.
425
, 259
(1999
).1713.
Y.
Luo
, M.
Han
, D. A.
Slater
, and R. M.
Osgood
, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A
18
, 438
(2000
).1714.
J. R.
Bakke
, H. J.
Jung
, J. T.
Tanskanen
, R.
Sinclair
, and S. F.
Bent
, Chem. Mater.
22
, 4669
(2010
).1715.
Y. Z.
Feng
and S. P.
Guo
, J. Mater. Sci. Lett.
15
, 1824
(1996
).1716.
M. Y.
Shen
, T.
Goto
, E.
Kurtz
, Z.
Zhu
, and T.
Yao
, J. Phys.: Condens. Matter
10
, L171
(1998
).1717.
E.
Kurtz
, H. D.
Jung
, T.
Hanada
, Z.
Zhu
, T.
Sekiguchi
, and T.
Yao
, J. Cryst. Growth
184/185
, 242
(1998
).1718.
E.
Kurtz
, T.
Sekiguchi
, Z.
Zhu
, T.
Yao
, J. X.
Shen
, Y.
Oka
, M. Y.
Shen
, and T.
Goto
, Superlattices Microstruct.
25
, 119
(1999
).1719.
D. P.
Mikhaevich
and Yu. K.
Ezhovskii
, [Russ. J. Appl. Chem.
76
, 1197
(2003
)].1720.
I.
Hernández-Calderón
, M.
García-Rocha
, and P.
Díaz-Arencibia
, Phys. Status Solidi B
241
, 558
(2004
).1721.
Yu. K.
Ezhovskii
and D. P.
Mikhaevich
, [Inorg. Mater.
40
, 909
(2004
)].1722.
E. M.
Larramendi
, Z. B. K.
Gutierrez
, O.
de Melo
, U.
Woggon
, D.
Schikora
, and K.
Lischka
, J. Cryst. Growth
312
, 1807
(2010
).1723.
M.
Pessa
, P.
Huttunen
, and M. A.
Herman
, J. Appl. Phys.
54
, 6047
(1983
).1724.
M.
Pessa
, O.
Jylhä
, P.
Huttunen
, and M. A.
Herman
, J. Vac. Sci. Technol. A
2
, 418
(1984
).1725.
M.
Pessa
, O.
Jylhä
, and M. A.
Herman
, J. Cryst. Growth
67
, 255
(1984
).1726.
M. A.
Herman
, M.
Vulli
, and M.
Pessa
, J. Cryst. Growth
73
, 403
(1985
).1727.
M. A.
Herman
, O.
Jylhä
, and M.
Pessa
, Cryst. Res. Technol.
21
, 969
(1986
).1728.
M. A.
Herman
, O.
Jylhä
, and M.
Pessa
, Cryst. Res. Technol.
21
, 841
(1986
).1729.
M. A.
Herman
, P.
Juza
, W.
Faschinger
, and H.
Sitter
, Cryst. Res. Technol.
23
, 307
(1988
).1730.
W.
Faschinger
, H.
Sitter
, and P.
Juza
, Appl. Phys. Lett.
53
, 2519
(1988
).1731.
W.
Faschinger
and H.
Sitter
, J. Cryst. Growth
99
, 566
(1990
).1732.
W.
Faschinger
, P.
Juza
, and H.
Sitter
, J. Cryst. Growth
115
, 692
(1991
).1733.
P.
Juza
, W.
Faschinger
, and H.
Sitter
, Microchim. Acta
107
, 265
(1992
).1734.
H.
Sitter
and W.
Faschinger
, Thin Solid Films
225
, 250
(1993
).1735.
V. B.
Veron
, A.
Arnoult
, B.
Daudin
, and S.
Tatarenko
, Phys. Rev. B
54
, R5267
(1996
).1736.
J. T.
Sadowski
and M. A.
Herman
, Thin Solid Films
306
, 266
(1997
).1737.
L.
Marsal
, H.
Mariette
, Y.
Samson
, J. L.
Rouviere
, and E.
Picard
, Appl. Phys. Lett.
73
, 2974
(1998
).1738.
J. M.
Hartmann
, M.
Charleux
, J.
Cibert
, and H.
Mariette
, Appl. Phys. Lett.
72
, 3151
(1998
).1739.
T.
Taliercio
, P.
Lefebvre
, N.
Magnea
, J.
Allègre
, and H.
Mathieu
, J. Cryst. Growth
184/185
, 288
(1998
).1740.
L.
Carbonell
, S.
Tatarenko
, J.
Cibert
, J. M.
Hartmann
, G.
Mula
, V. H.
Etgens
, and A.
Arnoult
, Appl. Surf. Sci.
123/124
, 283
(1998
).1741.
L.
Marsal
, Y.
Samson
, J. L.
Rouviere
, and H.
Mariette
, J. Cryst. Growth
201/202
, 1226
(1999
).1742.
H.
Mariette
, M.
Charleux
, J. M.
Hartmann
, F.
Kany
, D.
Martrou
, L.
Marsal
, N.
Magnèa
, and J. L.
Rouviére
, Microelectron. J.
30
, 329
(1999
).1743.
H.
Mariette
, L.
Marsal
, L.
Besombes
, F.
Tinjod
, B.
Gilles
, K.
Kheng
, and J. L.
Rouvière
, J. Cryst. Growth
237/239
, 227
(2002
).1744.
M.
García-Rocha
and I.
Hernández-Calderón
, Surf. Rev. Lett.
9
, 1667
(2002
).1745.
T.
Volkmann
, M.
Ahr
, and M.
Biehl
, Phys. Rev. B
69
, 165303
(2004
).1746.
E. M.
Larramendi
, O.
de Melo
, M.
Hernández Vélez
, and M. C.
Tamargo
, J. Appl. Phys.
96
, 7164
(2004
).1747.
H. S.
Lee
, H. L.
Park
, and T. W.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
85
, 5598
(2004
).1748.
I.
Bhat
, H.
Ehsani
, W. S.
Wang
, S. K.
Ghandhi
, and N. H.
Karam
, J. Vac. Sci. Technol. B
10
, 1376
(1992
).1749.
W.-S.
Wang
, H. E.
Ehsani
, and I. B.
Bhat
, J. Cryst. Growth
124
, 670
(1992
).1750.
N. H.
Karam
, R. G.
Wolfson
, I. B.
Bhat
, H.
Ehsani
, and S. K.
Gandhi
, Thin Solid Films
225
, 261
(1993
).1751.
R. M.
Emerson
, J. L.
Hoyt
, and J. F.
Gibbons
, Appl. Phys. Lett.
65
, 1103
(1994
).1752.
S.
Dakshinamurthy
and I.
Bhat
, J. Electron. Mater.
27
, 521
(1998
).1753.
T.
Asikainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
141
, 3210
(1994
).1754.
T.
Asikainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
142
, 3538
(1995
).1755.
T.
Asikainen
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Prohaska
, G.
Friedbacher
, and M.
Grasserbauer
, Appl. Surf. Sci.
99
, 91
(1996
).1756.
T.
Asikainen
, M.
Ritala
, W.-M.
Li
, R.
Lappalainen
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
112
, 231
(1997
).1757.
M.
Ritala
, T.
Asikainen
, and M.
Leskelä
, Electrochem. Solid-State Lett.
1
, 156
(1997
).1758.
A. W.
Ott
, J. M.
Johnson
, J. W.
Klaus
, and S. M.
George
, Appl. Surf. Sci.
112
, 205
(1997
).1759.
J. W.
Elam
, A. B. F.
Martinson
, M. J.
Pellin
, and J. T.
Hupp
, Chem. Mater.
18
, 3571
(2006
).1760.
J.
Elam
, D.
Baker
, A.
Martinson
, M.
Pellin
, and J.
Hupp
, J. Phys. Chem. C
112
, 1938
(2008
).1761.
O.
Nilsen
, R.
Balasundaraprabhu
, E. V.
Monakhov
, N.
Muthukumarasamy
, H.
Fjellvåg
, and B. G.
Svensson
, Thin Solid Films
517
, 6320
(2009
).1762.
T.
Inushima
, T.
Shiraishi
, and V. Yu.
Davydov
, Solid State Commun.
110
, 491
(1989
).1763.
T.
Asikainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
82/83
, 122
(1994
).1764.
M.
Nanu
, J.
Schoonman
, and A.
Goossens
, Adv. Funct. Mater.
15
, 95
(2005
).1765.
J.-F.
Guillemoles
, B.
Canava
, E. B.
Yousfi
, P.
Cowache
, A.
Galtayries
, T.
Asikainen
, M.
Powalla
, D.
Hariskos
, H.-W.
Schock
, and D.
Lincot
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
40
, 6065
(2001
).1766.
N.
Naghavi
, S.
Spiering
, M.
Powalla
, B.
Cavana
, and D.
Lincot
, Prog. Photovoltaics
11
, 437
(2003
).1767.
S.
Spiering
, D.
Hariskos
, M.
Powalla
, N.
Naghavi
, and D.
Lincot
, Thin Solid Films
431/432
, 359
(2003
).1768.
N.
Naghavi
, R.
Henriquez
, V.
Laptev
, and D.
Lincot
, Appl. Surf. Sci.
222
, 65
(2004
).1769.
J.
Sterner
, J.
Malmström
, and L.
Stolt
, Prog. Photovoltaics
13
, 179
(2005
).1770.
S.
Spiering
, D.
Hariskos
, S.
Schröder
, and M.
Powalla
, Thin Solid Films
480
, 195
(2005
).1771.
D.
Abou-Ras
, D.
Rudmann
, G.
Kostorz
, S.
Spiering
, M.
Powalla
, and A. N.
Tiwari
, J. Appl. Phys.
97
, 084908
(2005
).1772.
S. K.
Sarkar
, J. Y.
Kim
, D. N.
Goldstein
, N. R.
Neale
, K.
Zhu
, C. M.
Elliot
, A. J.
Frank
, and S. M.
George
, J. Phys. Chem. C
114
, 8032
(2010
).1773.
W. K.
Chen
, J. C.
Chen
, L.
Anthony
, and P. L.
Liu
, Appl. Phys. Lett.
55
, 987
(1989
).1774.
1775.
C. A.
Tran
, R. A.
Masut
, J. L.
Brebner
, and R.
Leonelli
, Appl. Phys. Lett.
62
, 2375
(1993
).1776.
C. A.
Tran
, R. A.
Masut
, J. L.
Brebner
, M.
Jouanne
, L.
Salamanca-Riba
, C. C.
Shen
, B.
Sieber
, and A.
Miri
, J. Cryst. Growth
145
, 332
(1994
).1777.
C. A.
Tran
, R. A.
Masut
, J. L.
Brebner
, and M.
Jouanne
, J. Appl. Phys.
75
, 2398
(1994
).1778.
D. G.
Patrikarakos
, N.
Shukla
, and M. E.
Pemble
, J. Cryst. Growth
170
, 215
(1997
).1779.
Y.
Kobayashi
and N.
Kobayashi
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
31
, L71
(1992
).1780.
T. W.
Lee
, H.
Hwang
, Y.
Moon
, E.
Yoon
, and Y. D.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
34
, S25
(1999
).1781.
Y. D.
Kim
, M. S.
Lee
, T.-W.
Lee
, H.
Hwang
, S.
Yoon
, Y.
Moon
, and E.
Yoon
, Microelectron. Eng.
51/52
, 43
(2000
).1782.
N.
Pan
, J.
Carter
, S.
Hein
, D.
Howe
, L.
Goldman
, L.
Kupferberg
, S.
Brierley
, and K. C.
Hsieh
, Thin Solid Films
225
, 64
(1993
).1783.
N.
Otsuka
, J.
Nishizawa
, H.
Kikuchi
, and Y.
Oyama
, J. Cryst. Growth
205
, 253
(1999
).1784.
N.
Otsuka
, J.
Nishizawa
, H.
Kikuchi
, and Y.
Oyama
, J. Cryst. Growth
209
, 252
(2000
).1785.
N.
Otsuka
, J.
Nishizawa
, H.
Kikuchi
, and Y.
Oyama
, J. Vac. Sci. Technol. A
17
, 3008
(1999
).1786.
W. G.
Jeong
, E. P.
Menu
, and P. D.
Dapkus
, Appl. Phys. Lett.
55
, 244
(1989
).1787.
D.
Jung
and S. M.
Bedair
, J. Mater. Res.
9
, 3022
(1994
).1788.
C. A.
Tran
, R.
Ares
, S. P.
Watkins
, G.
Soerensen
, and Y.
Lacroix
, J. Electron. Mater.
24
, 1597
(1995
).1789.
R.
Arès
, J.
Hu
, P.
Yeo
, and S. P.
Watkins
, J. Cryst. Growth
195
, 234
(1998
).1790.
K.
Mori
, S.
Sugou
, Y.
Kato
, and A.
Usui
, Appl. Phys. Lett.
60
, 1717
(1992
).1791.
M. A.
Tischler
and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
49
, 274
(1986
).1792.
B. T.
McDermott
, N. A.
El-Masry
, M. A.
Tischler
, and S. M.
Bedair
, Appl. Phys. Lett.
51
, 1830
(1987
).1793.
P. E.
Thompson
, J. L.
Davis
, J.
Waterman
, R. J.
Wagner
, D.
Gammon
, D. K.
Gaskill
, and R.
Stahlbush
, J. Appl. Phys.
69
, 7166
(1991
).1794.
G. S.
Lee
, P. E.
Thompson
, J. L.
Davis
, J. P.
Omaggio
, and W. A.
Schmidt
, Solid-State Electron.
36
, 387
(1993
).1795.
R. R.
Rachkovskii
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, Zh. Neorg. Khim.
15
, 3158
(1970
)R. R.
Rachkovskii
, S. I.
Kol'tsov
, and V. B.
Aleskovskii
, [Russ. J. Inorg. Chem.
15
, 1646
(1970
)].1796.
H.
Viirola
and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
249
, 144
(1994
).1797.
H.
Viirola
and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
251
, 127
(1994
).1798.
C.
Dücsö
, N. Q.
Khanh
, Z.
Horváth
, I.
Bársony
, M.
Utriainen
, S.
Lehto
, M.
Nieminen
, and L.
Niinistö
, J. Electrochem. Soc.
143
, 683
(1996
).1799.
M.
Utriainen
, K.
Kovács
, J. M.
Campbell
, L.
Niinistö
, and F.
Réti
, J. Electrochem. Soc.
146
, 189
(1999
).1800.
M.
Utriainen
, L.
Niinistö
, and R.
Matero
, Appl. Phys. A
68
, 339
(1999
).1801.
M.
Utriainen
, H.
Lattu
, H.
Viirola
, L.
Niinistö
, R.
Resch
, and G.
Friedbacher
, Mikrochim. Acta
133
, 119
(2000
).1802.
A.
Rosental
, A.
Tarre
, A.
Gerst
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Sens. Actuators B
77
, 297
(2001
).1803.
T.
Takeuchi
, K.
Shoji
, T.
Tadano
, I.
Doteshita
, and S.
Onodera
, Thin Solid Films
442
, 98
(2003
).1804.
J.
Lu
, J.
Sundqvist
, M.
Ottosson
, A.
Tarre
, A.
Rosental
, J.
Aarik
, and A.
Hårsta
, J. Cryst. Growth
260
, 191
(2004
).1805.
T.
Takeuchi
, I.
Doteshita
, and S.
Asami
, Surf. Interface Anal.
36
, 1133
(2004
).1806.
V. V.
Antipov
, V. P.
Dorofeev
, A. A.
Malkov
, A. A.
Malygin
, S. V.
Mikhailovsky
, and E. A.
Sosnov
, Glass Phys. Chem.
34
, 534
(2008
).1807.
G.
Natarajan
and D. C.
Cameron
, Appl. Phys. A
95
, 621
(2009
).1808.
K.
Baek
, C.
Jin
, J.
Lee
, B.-Y.
Jeong
, W. I.
Lee
, and C.
Lee
, J. Mater. Sci.
45
, 3851
(2010
).1809.
A. J.
Niskanen
, A.
Varpula
, M.
Utriainen
, G.
Natarajan
, D. C.
Cameron
, S.
Novikov
, V.-M.
Airaksinen
, J.
Sinkkonen
, and S.
Franssila
, Sens. Actuators B
148
, 227
(2010
).1810.
X.
Meng
, D.
Geng
, J.
Liu
, M. N.
Banis
, Y.
Zhang
, R.
Li
, and X.
Sun
, J. Phys. Chem. C
114
, 18330
(2010
).1811.
C.
Jin
, K.
Baek
, S.
Park
, H. W.
Kim
, W. I.
Lee
, and C.
Lee
, Solid State Commun.
150
, 1812
(2010
).1812.
C.
Jin
, H.
Kim
, K.
Baek
, H. W.
Kim
, and C.
Lee
, Cryst. Res. Technol.
45
, 199
(2010
).1813.
A.
Tarre
, A.
Rosental
, A.
Aidla
, J.
Aarik
, J.
Sundqvist
, and A.
Hårsta
, Vacuum
67
, 571
(2002
).1814.
A.
Rosental
, A.
Tarre
, A. G. J.
Sundqvist
, A.
Hårsta
, A.
Aidla
, J.
Aarik
, V.
Sammelselg
, and T.
Uustare
, Sens. Actuators B
93
, 552
(2003
).1815.
J. D.
Ferguson
, K. J.
Buechler
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, Powder Technol.
156
, 154
(2005
).1816.
X.
Du
, Y.
Du
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 581
(2005
).1817.
X.
Du
and S. M.
George
, Sens. Actuators B
135
, 152
(2008
).1818.
X.
Du
, Y.
Du
, and S. M.
George
, J. Phys. Chem. A
112
, 9211
(2008
).1819.
A.
Tarre
, A.
Rosental
, J.
Sundqvist
, A.
Hårsta
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Surf. Sci.
532
, 514
(2003
).1820.
J.
Sundqvist
, A.
Tarre
, A.
Rosental
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
9
, 21
(2003
).1821.
J.
Sundqvist
, J.
Lu
, M.
Ottosson
, and A.
Hårsta
, Thin Solid Films
514
, 63
(2006
).1822.
W.
Lee
, Y.
Choi
, K.
Hong
, N. H.
Kim
, Y.
Park
, and J.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
46
, L756
(2005
).1823.
G.
Choi
, L.
Satyanarayana
, and J.
Park
, Appl. Surf. Sci.
252
, 7878
(2006
).1824.
W.-S.
Kim
, B.-S.
Lee
, D.-H.
Kim
, H.-C.
Kim
, W.-R.
Yu
, and S.-H.
Hong
, Nanotechnology
21
, 245605
(2010
).1825.
D. H.
Kim
, W.-S.
Kim
, S. B.
Lee
, and S.-H.
Hong
, Sens. Actuators B
147
, 653
(2010
).1826.
J. W.
Elam
, D. A.
Baker
, A. J.
Hryn
, A. B. F.
Martinson
, M. J.
Pellin
, and J. T.
Hupp
, J. Vac. Sci. Technol. A
26
, 244
(2008
).1827.
C.
Prasittichai
and J. T.
Hupp
, J. Phys. Chem. Lett.
1
, 1611
(2010
).1828.
J.
Heo
, A. S.
Hock
, and R. G.
Gordon
, Chem. Mater.
22
, 4964
(2010
).1829.
R.
Bin Yang
, J.
Bachmann
, M.
Reiche
, J. W.
Gerlach
, U.
Gösele
, and K.
Nielsch
, Chem. Mater.
21
, 2586
(2009
).1830.
M.
Vehkamäki
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, S.
Väyrynen
, and E.
Rauhala
, Chem. Vap. Deposition
13
, 239
(2007
).1831.
V.
Saanila
, J.
Ihanus
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
4
, 227
(1998
).1832.
M. J.
Saly
, F.
Munnik
, R. J.
Baird
, and C. H.
Winter
, Chem. Mater.
21
, 3742
(2009
).1833.
M.
Nieminen
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Appl. Surf. Sci.
174
, 155
(2001
).1834.
R.
Haugsrud
, A. E.
Gunnaes
, and O.
Nilsen
, Oxid. Met.
59
, 215
(2003
).1835.
X. L.
Li
, D.
Tsoutsou
, G.
Scarel
, C.
Wiemer
, S. C.
Capelli
, S. N.
Volkos
, L.
Lamagna
, and M.
Fanciulli
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, L1
(2009
).1836.
N. K.
Park
, D. K.
Kang
, B. H.
Kim
, S. J.
Jo
, and J. S.
Ha
, Appl. Surf. Sci.
252
, 8506
(2006
).1837.
S. J.
Jo
, J. S.
Ha
, N. K.
Park
, D. K.
Kang
, and B. H.
Kim
, Thin Solid Films
513
, 253
(2006
).1838.
W.
He
, S.
Schuetz
, R.
Solanki
, J.
Belot
, and J.
McAndrew
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, G131
(2004
).1839.
D. H.
Triyoso
, R. I.
Hegde
, J.
Grant
, P.
Fejes
, R.
Liu
, D.
Roan
, M.
Ramon
, D.
Werho
, R.
Rai
, L. B.
La
, J.
Baker
, C.
Garza
, T.
Guenther
, J. B. E.
White
, and P. J.
Tobin
, J. Vac. Sci. Technol. B
22
, 2121
(2004
).1840.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, V.
Pore
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, R. I.
Hegde
, D. C.
Gilmer
, P. J.
Tobin
, A. C.
Jones
, and H. C.
Aspinall
, Chem. Vap. Deposition
12
, 158
(2006
).1841.
R.
Inman
, S. A.
Schuetz
, C. M.
Silvernail
, S.
Balaz
, P. A.
Dowben
, G.
Jursich
, J.
McAndrew
, and J. A.
Belot
, Mater. Chem. Phys.
104
, 220
(2007
).1842.
T.
Wang
and J. G.
Ekerdt
, Chem. Mater.
22
, 3798
(2010
).1843.
J.
Kwon
, M.
Dai
, M. D.
Halls
, E.
Langereis
, Y. J.
Chabal
, and R. G.
Gordon
, J. Phys. Chem. C
113
, 654
(2009
).1844.
B.
Lee
, T. J.
Park
, A.
Hande
, M. J.
Kim
, R. M.
Wallace
, J.
Kim
, X.
Liu
, J. H.
Yi
, H.
Li
, M.
Rousseau
, D.
Shenai
, and J.
Suydam
, Microelectron. Eng.
86
, 1658
(2009
).1845.
G.
Scarel
, A.
Debernardi
, D.
Tsoutsou
, S.
Spiga
, S. C.
Capelli
, L.
Lamagna
, S. N.
Volkos
, M.
Alia
, and M.
Fanciulli
, Appl. Phys. Lett.
91
, 102901
(2007
).1846.
D.
Tsoutsou
, G.
Scarel
, A.
Debernardi
, S. C.
Capelli
, S. N.
Volkos
, L.
Lamagna
, S.
Schamm
, P. E.
Coulon
, and M.
Fanciulli
, Microelectron. Eng.
85
, 2411
(2008
).1847.
B. Y.
Kim
, M. G.
Ko
, E. J.
Lee
, M. S.
Hong
, Y. J.
Jeon
, and J. W.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
49
, 1303
(2006
).1848.
E. J.
Lee
, M. G.
Ko
, B. Y.
Kim
, S. K.
Park
, H. D.
Kim
, and J. W.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
49
, 1243
(2006
).1849.
W.
He
, D. S. H.
Chan
, S.-J.
Kim
, Y.-S.
Kim
, S.-T.
Kim
, and B. J.
Cho
, J. Electrochem. Soc.
155
, G189
(2008
).1850.
W.-H.
Kim
, W.
Maeng
, K.-J.
Moon
, J.-M.
Myoung
, and H.
Kim
, Thin Solid Films
519
, 362
(2010
).1851.
S.
Kamiyama
, E.
Kurosawa
, and Y.
Nara
, J. Electrochem. Soc.
155
, H373
(2008
).1852.
L.
Lamagna
, C.
Wiemer
, M.
Perego
, S. N.
Volkos
, S.
Baldovino
, D.
Tsoutsou
, S.
Schamm-Chardon
, P. E.
Coulon
, and M.
Fanciulli
, J. Appl. Phys.
108
, 084108
(2010
).1853.
W.-S.
Kim
, S.-K.
Park
, D.-Y.
Moon
, T.-S.
Kim
, B.-W.
Kang
, J.-K.
Seo
, H.-D.
Kim
, and J.-W.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
53
, 3334
(2008
).1854.
W.-S.
Kim
, S.-K.
Park
, D.-Y.
Moon
, B.-W.
Kang
, H.-D.
Kim
, and J.-W.
Park
, J. Korean Phys. Soc.
55
, 590
(2009
).1855.
Y.
Kim
, S.
Woo
, H.
Kim
, J.
Lee
, H.
Kim
, H.
Lee
, and H.
Jeon
, J. Mater. Res.
25
, 1898
(2010
).1856.
H.
Kim
, S.
Woo
, J.
Lee
, H.
Kim
, Y.
Kim
, H.
Lee
, and H.
Jeon
, J. Electrochem. Soc.
157
, H479
(2010
).1857.
K.
Kukli
, H.
Heikkinen
, E.
Nykänen
, and L.
Niinistö
, J. Alloys Compd.
275–277
, 10
(1998
).1858.
T.
Pilvi
, E.
Puukilainen
, K.
Arstila
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
14
, 85
(2008
).1859.
J.
Päiväsaari
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
12
, 1828
(2002
).1860.
P. R.
Chalker
, M.
Werner
, S.
Romani
, R. J.
Potter
, K.
Black
, H. C.
Aspinall
, A. C.
Jones
, C. Z.
Zhao
, S.
Taylor
, and P. N.
Heys
, Appl. Phys. Lett.
93
, 182911
(2008
).1861.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Pilvi
, T.
Sajavaara
, M.
Leskelä
, A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, D. C.
Gilmer
, and P. J.
Tobin
, Chem. Mater.
16
, 5162
(2004
).1862.
A. C.
Jones
, H. C.
Aspinall
, R. R.
Chalker
, R. J.
Potter
, K.
Kukli
, A.
Rahtu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Mater. Sci. Eng., B
118
, 97
(2005
).1863.
P.
de Rouffignac
and R. G.
Gordon
, Chem. Vap. Deposition
12
, 152
(2006
).1864.
J.
Päiväsaari
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
472
, 275
(2005
).1865.
A.
Kosola
, J.
Päiväsaari
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
479
, 152
(2005
).1866.
J.
Niinistö
, N.
Petrova
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, K.
Arstila
, and T.
Sajavaara
, J. Cryst. Growth
285
, 191
(2005
).1867.
R. J.
Potter
, P. R.
Chalker
, T. D.
Manning
, H. C.
Aspinall
, Y. F.
Loo
, A. C.
Jones
, L. M.
Smith
, G. W.
Critchlow
, and M.
Schumacher
, Chem. Vap. Deposition
11
, 159
(2005
).1868.
K.
Kukli
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
13
, 546
(2007
).1869.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, A.
Gómez
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, T.
Hatanpää
, J.
Lu
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
154
, G207
(2007
).1870.
H.
García
, S.
Dueñas
, H.
Castán
, A.
Gómez
, L.
Bailón
, R.
Barquero
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 416
(2009
).1871.
A. P.
Milanov
, R. A.
Fischer
, and A.
Devi
, Inorg. Chem.
47
, 11405
(2008
).1872.
R.
Ranjith
, A.
Laha
, E.
Bugiel
, H. J.
Osten
, K.
Xu
, A. P.
Milanov
, and A.
Devi
, Semicond. Sci. Technol.
25
, 105001
(2010
).1873.
A. P.
Milanov
, K.
Xu
, A.
Laha
, E.
Bugiel
, R.
Ranjith
, D.
Schwendt
, H. J.
Osten
, H.
Parala
, R. A.
Fischer
, and A.
Devi
, J. Am. Chem. Soc.
132
, 36
(2010
).1874.
J.
Päiväsaari
, M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, and L.
Niinistö
, J. Alloys Compd.
374
, 124
(2004
).1875.
J.
Päiväsaari
, J.
Niinistö
, K.
Arstila
, K.
Kukli
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Chem. Vap. Deposition
11
, 415
(2005
).1876.
J.
Päiväsaari
, C. L.
Dezelah
IV, D.
Back
, H. M.
El-Kaderi
, M.
Heeg
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, and C. H.
Winter
, J. Mater. Chem.
15
, 4224
(2005
).1877.
M.
Bosund
, K.
Mizohata
, T.
Hakkarainen
, M.
Putkonen
, M.
Söderlund
, S.
Honkanen
, and H.
Lipsanen
, Appl. Surf. Sci.
256
, 847
(2009
).1878.
H. L.
Lu
, G.
Scarel
, L.
Lamagna
, M.
Fanciulli
, S.-J.
Ding
, and D. W.
Zhang
, Appl. Phys. Lett.
93
, 152906
(2008
).1879.
G.
Scarel
, E.
Bonera
, C.
Wiemer
, G.
Tallarida
, S.
Spiga
, M.
Fanciulli
, I. L.
Fedushkin
, H.
Schumann
, Yu.
Lebedinskii
, and A.
Zenkevich
, Appl. Phys. Lett.
85
, 630
(2004
).1880.
E.
Bonera
, G.
Scarel
, M.
Fanciulli
, P.
Delugas
, and V.
Fiorentini
, Phys. Rev. Lett.
94
, 027602
(2005
).1881.
G.
Scarel
, C.
Wiemer
, G.
Tallarida
, S.
Spiga
, G.
Seguini
, E.
Bonera
, M.
Fanciulli
, Y.
Lebedinskii
, A.
Zenkevich
, G.
Pavia
, I. L.
Fedushkin
, G. K.
Fukin
, and G. A.
Domrachev
, J. Electrochem. Soc.
153
, F271
(2006
).1882.
G.
Scarel
, C.
Wiemer
, M.
Fanciulli
, I. L.
Fedushkin
, G. K.
Fukin
, G. A.
Domrachev
, Y.
Lebedinskii
, A.
Zenkevich
, and G.
Pavia
, Z. Anorg. Allg. Chem.
633
, 2097
(2007
).1883.
H.
Kattelus
, M.
Ylilammi
, J.
Salmi
, T.
Ranta-Aho
, E.
Nykänen
, and I.
Suni
, in Amorphous Insulating Thin Films
, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., edited by J.
Kanicki
, W. L.
Warren
, R. A. B.
Devine
, and M.
Matsumura
(Materials Research Society
, Warrendale, USA
, 1993
), Vol. 284
, pp. 511
–516
.1884.
M.
Ritala
, M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, T.
Prohaska
, G.
Friedbacher
, and M.
Grasserbauer
, Thin Solid Films
250
, 72
(1994
).1885.
K.
Kukli
, J.
Ihanus
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Appl. Phys. Lett.
68
, 3737
(1996
).1886.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.-A.
Kiisler
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Thin Solid Films
340
, 110
(1999
).1887.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, V.
Sammelselg
, and T.
Uustare
, J. Cryst. Growth
220
, 105
(2000
).1888.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Mändar
, T.
Uustare
, K.
Kukli
, and M.
Schuisky
, Appl. Surf. Sci.
173
, 15
(2001
).1889.
M.
Cho
, J.
Park
, H. B.
Park
, C. S.
Hwang
, J.
Jeong
, and K. S.
Hyun
, Appl. Phys. Lett.
81
, 334
(2002
).1890.
M.-H.
Cho
, Y. S.
Roh
, C. N.
Whang
, K.
Jeong
, S. W.
Nahm
, D.-H.
Ko
, J. H.
Lee
, N. I.
Lee
, and K.
Fujihara
, Appl. Phys. Lett.
81
, 472
(2002
).1891.
M. L.
Green
, M. Y.
Ho
, B.
Busch
, G. D.
Wilk
, T.
Sorsch
, T.
Conard
, B.
Brijs
, W.
Vandervorst
, P. I.
Räisanen
, D.
Muller
, M.
Bude
, and J.
Grazul
, J. Appl. Phys.
92
, 7168
(2002
).1892.
E. P.
Gusev
, C.
Cabral
, Jr., M.
Copel
, C.
D'Emic
, and M.
Gribelyuk
, Microelectron. Eng.
69
, 145
(2003
).1893.
M.-Y.
Ho
, H.
Gong
, G. D.
Wilk
, B. W.
Busch
, M. L.
Green
, P. M.
Voyles
, D. A.
Muller
, M.
Bude
, W. H.
Lin
, A.
See
, M. E.
Loomans
, S. K.
Lahiri
, and P. I.
Räisänen
, J. Appl. Phys.
93
, 1477
(2003
).1894.
G. D.
Wilk
and D. A.
Muller
, Appl. Phys. Lett.
83
, 3984
(2003
).1895.
J.-F.
Damlencourt
, O.
Renault
, D.
Samour
, A.-M.
Papon
, C.
Leroux
, F.
Martin
, S.
Marthon
, M.-N.
Séméria
, and X.
Garros
, Solid-State Electron.
47
, 1613
(2003
).1896.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, D. C.
Gilmer
, R.
Hedge
, R.
Rai
, and L.
Prabhu
, J. Mater. Sci.: Mater. Electron.
14
, 361
(2003
).1897.
H. B.
Park
, M.
Cho
, J.
Park
, S. W.
Lee
, C. S.
Hwang
, J.-P.
Kim
, J.-H.
Lee
, N.-I.
Lee
, H.-K.
Kang
, J.-C.
Lee
, and S.-J.
Oh
, J. Appl. Phys.
94
, 3641
(2003
).1898.
T.
Lee
, J.
Ahn
, J.
Oh
, Y.
Kim
, Y. B.
Kim
, D. K.
Choi
, and J.
Jung
, J. Korean Phys. Soc.
42
, 272
(2003
).1899.
1900.
C.
Wiemer
, S.
Ferrari
, M.
Fanciulli
, G.
Pavia
, and L.
Lutterotti
, Thin Solid Films
450
, 134
(2004
).1901.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, A.
Kikas
, T.
Käämbre
, R.
Rammula
, P.
Ritslaid
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Appl. Surf. Sci.
230
, 292
(2004
).1902.
J.-J.
Ganem
, I.
Trimaille
, I. C.
Vickridge
, D.
Blin
, and F.
Martin
, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B
219/220
, 856
(2004
).1903.
J.-F.
Damlencourt
, O.
Weber
, O.
Renault
, J.-M.
Hartmann
, C.
Poggi
, F.
Ducroquet
, and T.
Billon
, J. Appl. Phys.
96
, 5478
(2004
).1904.
K.
Nakajima
, S.
Joumori
, M.
Suzuki
, K.
Kimura
, T.
Osipowicz
, K. L.
Tok
, J. Z.
Zheng
, A.
See
, and B. C.
Zhang
, Appl. Surf. Sci.
237
, 416
(2004
).1905.
D.
Triyoso
, R.
Liu
, D.
Roan
, M.
Ramon
, N. V.
Edwards
, R.
Gregory
, D.
Werho
, J.
Kulik
, G.
Tam
, E.
Irwin
, X.-D.
Wang
, L. B.
La
, C.
Hobbs
, R.
Garcia
, J.
Baker
, J. B. E.
White
, and P.
Tobin
, J. Electrochem. Soc.
151
, F220
(2004
).1906.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, M.
Ritala
, T.
Uustare
, T.
Sajavaara
, J.
Lu
, J.
Sundqvist
, A.
Aidla
, L.
Pung
, A.
Hårsta
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
96
, 5298
(2004
).1907.
H.
Kim
, P. C.
McIntyre
, C. O.
Chui
, K. C.
Saraswat
, and M.-H.
Cho
, Appl. Phys. Lett.
85
, 2902
(2004
).1908.
J.
Aarik
, H.
Mändar
, M.
Kirm
, and L.
Pung
, Thin Solid Films
466
, 41
(2004
).1909.
E. P.
Gusev
, H.
Shang
, M.
Copel
, M.
Gribelyuk
, C.
D'Emic
, P.
Kozlowski
, and T.
Zabel
, Appl. Phys. Lett.
85
, 2334
(2004
).1910.
P. S.
Lysaght
, J. J.
Peterson
, B.
Foran
, C. D.
Young
, G.
Bersuker
, and H. R.
Huff
, Mater. Sci. Semicond. Process.
7
, 259
(2004
).1911.
G.
Scarel
, S.
Spiga
, C.
Wiemer
, G.
Tallarida
, S.
Ferrari
, and M.
Fanciulli
, Mater. Sci. Eng., B
109
, 11
(2004
).1912.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, J.
Barbolla
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
474
, 222
(2005
).1913.
R.
Chen
, H.
Kim
, P. C.
McIntyre
, and S. F.
Bent
, Chem. Mater.
17
, 536
(2005
).1914.
R. L.
Puurunen
, A.
Delabie
, S.
Van Elshocht
, M.
Caymax
, M. L.
Green
, B.
Brijs
, O.
Richard
, H.
Bender
, T.
Conard
, I.
Hoflijk
, W.
Vandervorst
, D.
Hellin
, D.
Vanhaeren
, C.
Zhao
, S.
De Gendt
, and M.
Heyns
, Appl. Phys. Lett.
86
, 073116
(2005
).1915.
A.
Delabie
, R. L.
Puurunen
, B.
Brijs
, M.
Caymax
, T.
Conard
, B.
Onsia
, O.
Richard
, W.
Vandervorst
, C.
Zhao
, M. M.
Viitanen
, H. H.
Brongersma
, M.
de Ridder
, L. V.
Goncharova
, E.
Garfunkel
, T.
Gustafsson
, W.
Tsai
, M. M.
Heyns
, and M.
Meuris
, J. Appl. Phys.
97
, 064104
(2005
).1916.
D. H.
Triyoso
, M.
Ramon
, R. I.
Hegde
, D.
Roan
, R.
Garcia
, J.
Baker
, X. D.
Wang
, P.
Fejes
, B. E.
White
, and P. J.
Tobin
, J. Electrochem. Soc.
152
, G203
(2005
).1917.
S.
Spiga
, C.
Wiemer
, G.
Tallarida
, G.
Scarel
, S.
Ferrari
, G.
Seguini
, and M.
Fanciulli
, Appl. Phys. Lett.
87
, 112904
(2005
).1918.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, T.
Uustare
, J.
Lu
, M.
Ritala
, A.
Aidla
, L.
Pung
, A.
Hårsta
, M.
Leskelä
, A.
Kikas
, and V.
Sammelselg
, Thin Solid Films
479
, 1
(2005
).1919.
K.
Kukli
, T.
Aaltonen
, J.
Aarik
, J.
Lu
, M.
Ritala
, S.
Ferrari
, A.
Hårsta
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
152
, F75
(2005
).1920.
H.
Jin
, S. K.
Oh
, H. J.
Kang
, S. W.
Lee
, Y. S.
Lee
, and K. Y.
Lim
, J. Korean Phys. Soc.
46
, S52
(2005
).1921.
D.
Hellin
, A.
Delabie
, R. L.
Puurunen
, P.
Beaven
, T.
Conard
, B.
Brijs
, S.
De Gendt
, and C.
Vinckier
, Anal. Sci.
21
, 845
(2005
).1922.
M. M.
Frank
, G. D.
Wilk
, D.
Starodub
, T.
Gustafsson
, E.
Garfunkel
, Y. J.
Chabal
, J.
Grazul
, and D. A.
Muller
, Appl. Phys. Lett.
86
, 152904
(2005
).1923.
J. F.
Damlencourt
, O.
Renault
, F.
Martin
, M. N.
Séméria
, T.
Billon
, and F.
Bedu
, Appl. Phys. Lett.
86
, 141913
(2005
).1924.
M. H.
Cho
, K. B.
Chung
, C. N.
Whang
, D. H.
Ko
, and H. S.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
87
, 262906
(2005
).1925.
N. V.
Nguyen
, S.
Sayan
, I.
Levin
, J. R.
Ehrstein
, I. J. R.
Baumvol
, C.
Driemeier
, C.
Krug
, L.
Wielunski
, R. Y.
Hung
, and A.
Diebold
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 1706
(2005
).1926.
H. S.
Chang
, H.
Hwang
, M. H.
Cho
, and D. W.
Moon
, Appl. Phys. Lett.
86
, 031906
(2005
).1927.
M. P.
Agustin
, L. R. C.
Fonseca
, J. C.
Hooker
, and S.
Stemmer
, Appl. Phys. Lett.
87
, 121909
(2005
).1928.
D. W.
Abraham
, M. M.
Frank
, and S.
Guha
, Appl. Phys. Lett.
87
, 252502
(2005
).1929.
L. A.
Ragnarsson
, S.
Severi
, L.
Trojman
, K. D.
Johnson
, D. P.
Brunco
, M.
Aoulaiche
, M.
Houssa
, T.
Kauerauf
, R.
Degraeve
, A.
Delabie
, V. S.
Kaushik
, S.
De Gendt
, W.
Tsai
, G.
Groeseneken
, K.
De Meyer
, and M.
Heyns
, IEEE Trans. Electron Devices
53
, 1657
(2006
).1930.
D. H.
Triyoso
, P. J.
Tobin
, B. E.
White
, R.
Gregory
, and X. D.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
89
, 132903
(2006
).1931.
D. H.
Triyoso
, R. I.
Hegde
, J. K.
Schaeffer
, D.
Roan
, P. J.
Tobin
, S. B.
Samavedam
, B. E.
White
, R.
Gregory
, and X. D.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
88
, 222901
(2006
).1932.
R.
Sreenivasan
, P. C.
McIntyre
, H.
Kim
, and K. C.
Saraswat
, Appl. Phys. Lett.
89
, 112903
(2006
).1933.
M.
Perego
, G.
Seguini
, and M.
Fanciulli
, J. Appl. Phys.
100
, 093718
(2006
).1934.
L.
Nyns
, L.
Hall
, T.
Conard
, A.
Delabie
, W.
Deweerd
, M.
Heyns
, S.
Van Elshocht
, N.
Van Hoornick
, C.
Vinckier
, and S.
De Gendt
, J. Electrochem. Soc.
153
, F205
(2006
).1935.
D.
Mitchell
, A.
Aidla
, and J.
Aarik
, Appl. Surf. Sci.
253
, 606
(2006
).1936.
Y.
Liang
, N. D.
Theodore
, J.
Curless
, and C.
Tracy
, J. Appl. Phys.
99
, 066110
(2006
).1937.
L.
Miotti
, C.
Driemeier
, F.
Tatsch
, C.
Radtke
, and I. J. R.
Baumvol
, Appl. Phys. Lett.
89
, 012904
(2006
).1938.
P. D.
Kirsch
, M. A.
Quevedo-Lopez
, H. J.
Li
, Y.
Senzaki
, J. J.
Peterson
, S. C.
Song
, S. A.
Krishnan
, N.
Moumen
, J.
Barnett
, G.
Bersuker
, P. Y.
Hung
, B. H.
Lee
, T.
Lafford
, Q.
Wang
, D.
Gay
, and J. G.
Ekerdt
, J. Appl. Phys.
99
, 023508
(2006
).1939.
A.
Martin Hoyas
, J.
Schuhmacher
, C. M.
Whelan
, T. F.
Landaluce
, D.
Vanhaeren
, and K.
Maex
, J. Appl. Phys.
100
, 114903
(2006
).1940.
M. L.
Green
, A. J.
Allen
, X.
Li
, J.
Wang
, J.
Ilavsky
, A.
Delabie
, R. L.
Puurunen
, and B.
Brijs
, Appl. Phys. Lett.
88
, 032907
(2006
).1941.
N.
Goel
, P.
Majhi
, C. O.
Chui
, W.
Tsai
, D.
Choi
, and J. S.
Harris
, Appl. Phys. Lett.
89
, 163517
(2006
).1942.
M. M.
Frank
, S. J.
Koester
, M.
Copel
, J. A.
Ott
, V. K.
Paruchuri
, H. L.
Shang
, and R.
Loesing
, Appl. Phys. Lett.
89
, 112905
(2006
).1943.
E. O.
Filatova
, P.
Jonnard
, and J. M.
Andre
, Thin Solid Films
500
, 219
(2006
).1944.
S.
Ferrari
and M.
Fanciulli
, J. Phys. Chem. B
110
, 14905
(2006
).1945.
A.
Delabie
, M.
Caymax
, B.
Brijs
, D. P.
Brunco
, T.
Conard
, E.
Sleeckx
, S.
Van Elshocht
, L. A.
Ragnarsson
, S.
De Gendt
, and M. M.
Heyns
, J. Electrochem. Soc.
153
, F180
(2006
).1946.
D. H.
Triyoso
, Z.
Yu
, R.
Gregory
, K.
Moore
, P.
Fejes
, and S.
Schauer
, J. Mater. Res.
22
, 2856
(2007
).1947.
A.
Stesmans
and V. V.
Afanas'ev
, Physica B
401
, 550
(2007
).1948.
S.
Shaimeev
, V.
Gritsenko
, K.
Kukli
, H.
Wong
, E. H.
Lee
, and C.
Kim
, Microelectron. Reliab.
47
, 36
(2007
).1949.
D. H.
Triyoso
, R. I.
Hegde
, J. K.
Schaeffer
, R.
Gregory
, X. D.
Wang
, M.
Canonico
, D.
Roan
, E. A.
Hebert
, K.
Kim
, J.
Jiang
, R.
Rai
, V.
Kaushik
, S. B.
Samavedam
, and N.
Rochat
, J. Vac. Sci. Technol. B
25
, 845
(2007
).1950.
G. K.
Dalapati
, Y.
Tong
, W. Y.
Loh
, H. K.
Mun
, and B. J.
Cho
, IEEE Trans. Electron Devices
54
, 1831
(2007
).1951.
S.
Baldovino
, S.
Spiga
, G.
Scarel
, and M.
Fanciulli
, Appl. Phys. Lett.
91
, 172905
(2007
).1952.
K. B.
Chung
, C. N.
Whang
, H. S.
Chang
, D. W.
Moon
, and M. H.
Cho
, J. Vac. Sci. Technol. A
25
, 141
(2007
).1953.
L.
Nyns
, L. A.
Ragnarsson
, L.
Hall
, A.
Delabie
, M.
Heyns
, S.
Van Elshocht
, C.
Vinckier
, P.
Zimmerman
, and S.
De Gendt
, J. Electrochem. Soc.
155
, G9
(2008
).1954.
M.
Perego
, G.
Seguini
, and M.
Fanciulli
, Mater. Sci. Semicond. Process.
11
, 221
(2008
).1955.
D. H.
Hill
, R. A.
Bartynski
, N. V.
Nguyen
, A. C.
Davydov
, D.
Chandler-Horowitz
, and M. M.
Frank
, J. Appl. Phys.
103
, 093712
(2008
).1956.
F. T.
Docherty
, M.
MacKenzie
, A. J.
Craven
, D. W.
McComb
, S.
De Gendt
, S.
McFadzean
, and C. M.
McGilvery
, Microelectron. Eng.
85
, 61
(2008
).1957.
F. S.
Aguirre-Tostado
, M.
Milojevic
, K. J.
Choi
, H. C.
Kim
, C. L.
Hinkle
, E. M.
Vogel
, J.
Kim
, T.
Yang
, Y.
Xuan
, P. D.
Ye
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
93
, 061907
(2008
).1958.
V.
Afanas'ev
, A.
Stesmans
, A.
Delabie
, F.
Bellenger
, M.
Houssa
, R.
Lieten
, C.
Merckling
, J.
Penaud
, D.
Brunco
, and M.
Meuris
, Mater. Sci. Semicond. Process.
11
, 230
(2008
).1959.
X.
Luo
, A. A.
Demkov
, D.
Triyoso
, P.
Fejes
, R.
Gregory
, and S.
Zollner
, Phys. Rev. B
78
, 245314
(2008
).1960.
V. V.
Afanas'ev
, M.
Badylevich
, A.
Stesmans
, G.
Brammertz
, A.
Delabie
, S.
Sionke
, A.
O'Mahony
, I. M.
Povey
, M. E.
Pemble
, E.
O'Connor
, P. K.
Hurley
, and S. B.
Newcomb
, Appl. Phys. Lett.
93
, 212104
(2008
).1961.
L.
Nyns
, A.
Delabie
, M.
Caymax
, M. M.
Heyns
, S.
Van Elshocht
, C.
Vinckier
, and S.
De Gendt
, J. Electrochem. Soc.
155
, G269
(2008
).1962.
A.
Delabie
, D. P.
Brunco
, T.
Conard
, P.
Favia
, H.
Bender
, A.
Franquet
, S.
Sioncke
, W.
Vandervorst
, S.
Van Elshocht
, M.
Heyns
, M.
Meuris
, E.
Kim
, P. C.
McIntyre
, K. C.
Saraswat
, J. M.
LeBeau
, J.
Cagnon
, S.
Stemmer
, and W.
Tsai
, J. Electrochem. Soc.
155
, H937
(2008
).1963.
M.
Tallarida
, K.
Karavaev
, and D.
Schmeisser
, J. Appl. Phys.
104
, 064116
(2008
).1964.
H. S.
Chang
, Electron. Mater. Lett.
5
, 187
(2009
).1965.
D.
Schmeisser
, M.
Tallarida
, K.
Henkel
, K.
Müller
, D.
Mandal
, D.
Chumakov
, and E.
Zschech
, Mater. Sci. (Poland)
27
, 141
(2009
).1966.
M. L.
Green
, A. J.
Allen
, J. L.
Jordan-Sweet
, and J.
Ilavsky
, J. Appl. Phys.
105
, 103522
(2009
).1967.
K.
Karavaev
, K.
Kolanek
, M.
Tallarida
, D.
Schmeisser
, and E.
Zschech
, Adv. Eng. Mater.
11
, 265
(2009
).1968.
L.-A.
Ragnarsson
, D. P.
Brunco
, K.
Yamamoto
, Z.
Toekei
, G.
Pourtois
, A.
Delabie
, B.
Parmentier
, T.
Conard
, P.
Roussel
, S.
De Gendt
, and M. M.
Heyns
, J. Electrochem. Soc.
156
, H416
(2009
).1969.
M.
Tallarida
, K.
Karavaev
, and D.
Schmeisser
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 300
(2009
).1970.
C.
Jorel
, C.
Vallee
, E.
Gourvest
, B.
Pelissier
, M.
Kahn
, M.
Bonvalot
, and P.
Gonon
, J. Vac. Sci. Technol. B
27
, 378
(2009
).1971.
P.
Gonon
, M.
Mougenot
, C.
Vallee
, C.
Jorel
, V.
Jousseaume
, H.
Grampeix
, and F.
El Kamel
, J. Appl. Phys.
107
, 074507
(2010
).1972.
A. A.
Sokolov
, A. A.
Ovchinnikov
, K. M.
Lysenkov
, D. E.
Marchenko
, and E. O.
Filatova
, Tech. Phys.
55
, 1045
(2010
).1973.
E.
Filatova
, A.
Sokolov
, A.
Ovchinnikov
, S.
Tveryanovich
, E.
Savinov
, D.
Marchenko
, V.
Afanas'ev
, and A.
Shulakov
, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom.
181
, 206
(2010
).1974.
R.
Rammula
, J.
Aarik
, H.
Mändar
, P.
Ritslaid
, and V.
Sammelselg
, Appl. Surf. Sci.
257
, 1043
(2010
).1975.
S.
Nonobe
, N.
Takahashi
, and T.
Nakamura
, Solid State Sci.
6
, 1217
(2004
).1976.
N.
Takahashi
, S.
Nonobe
, and T.
Nakamura
, J. Solid State Chem.
177
, 3944
(2004
).1977.
M. S.
Akbar
, J. C.
Lee
, N.
Moumen
, and J.
Peterson
, Appl. Phys. Lett.
88
, 082901
(2006
).1978.
K.-T.
Kim
, G.-H.
Kim
, J.-C.
Woo
, and C.-I.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. A
26
, 1178
(2008
).1979.
C.
Dallera
, F.
Fracassi
, L.
Braicovich
, G.
Scarel
, C.
Wiemer
, M.
Fanciulli
, G.
Pavia
, and B. C. C.
Cowie
, Appl. Phys. Lett.
89
, 183521
(2006
).1980.
S.-W.
Kang
, S.-W.
Rhee
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
22
, 2392
(2004
).1981.
K.
Forsgren
, A.
Hårsta
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, J.
Westlinder
, and J.
Olsson
, J. Electrochem. Soc.
149
, F139
(2002
).1982.
M.
Wolborski
, M.
Rooth
, M.
Bakowski
, and A.
Hallen
, J. Appl. Phys.
101
, 124105
(2007
).1983.
J.
Aarik
, J.
Sundqvist
, A.
Aidla
, J.
Lu
, T.
Sajavaara
, K.
Kukli
, and A.
Hårsta
, Thin Solid Films
418
, 69
(2002
).1984.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, J.
Sundqvist
, J.
Aarik
, J.
Lu
, T.
Sajavaara
, M.
Leskelä
, and A.
Hårsta
, J. Appl. Phys.
92
, 5698
(2002
).1985.
J.
Sundqvist
, A.
Hårsta
, J.
Aarik
, K.
Kukli
, and A.
Aidla
, Thin Solid Films
427
, 147
(2003
).1986.
J.
Lu
, J.
Aarik
, J.
Sundqvist
, K.
Kukli
, A.
Hårsta
, and J.-O.
Carlsson
, J. Cryst. Growth
273
, 510
(2005
).1987.
J.
Lu
, J.
Aarik
, J.
Sundqvist
, K.
Kukli
, A.
Hårsta
, and J. O.
Carlsson
, J. Cryst. Growth
273
, 510
(2005
).1988.
A.
Sandell
, P. G.
Karlsson
, J. H.
Richter
, J.
Blomquist
, and P.
Uvdal
, Surf. Sci.
601
, 917
(2007
).1989.
J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, S. L.
Stoll
, K.
Kukli
, T.
Sajavaara
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Chem.
15
, 2271
(2005
).1990.
J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, K.
Arstila
, T.
Sajavaara
, J.
Lu
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
153
, F39
(2006
).1991.
J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, F. Q.
Song
, P.
Williams
, P. N.
Heys
, and R.
Odedra
, Chem. Mater.
19
, 3319
(2007
).1992.
C.
Wiemer
, L.
Lamagna
, S.
Baldovino
, M.
Perego
, S.
Schamm-Chardon
, P. E.
Coulon
, O.
Salicio
, G.
Congedo
, S.
Spiga
, and M.
Fanciulli
, Appl. Phys. Lett.
96
, 182901
(2010
).1993.
R.
O'Kane
, J.
Gaskell
, A. C.
Jones
, P. R.
Chalker
, K.
Black
, M.
Werner
, P.
Taechakumput
, S.
Taylor
, P. N.
Heys
, and R.
Odedra
, Chem. Vap. Deposition
13
, 609
(2007
).1994.
J.
Niinistö
, M.
Mäntymäki
, K.
Kukli
, L.
Costelle
, E.
Puukilainen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Cryst. Growth
312
, 245
(2010
).1995.
J. C.
Kim
, J. S.
Heo
, Y. S.
Cho
, and S. H.
Moon
, Thin Solid Films
517
, 5695
(2009
).1996.
J.
Liu
, Y.
Mao
, E.
Lan
, D. R.
Banatao
, G. J.
Forse
, J.
Lu
, H.-O.
Blom
, T. O.
Yeates
, B.
Dunn
, and J. P.
Chang
, J. Am. Chem. Soc.
130
, 16908
(2008
).1997.
H. S.
Chang
, S.-K.
Baek
, H.
Park
, H.
Hwang
, J. H.
Oh
, W. S.
Shin
, J. H.
Yeo
, K. H.
Hwang
, S. W.
Nam
, H. D.
Lee
, C. L.
Song
, D. W.
Moon
, and M.-H.
Cho
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, F42
(2004
).1998.
Y.
Senzaki
, S.
Park
, H.
Chatham
, L.
Bartholomew
, and W.
Nieveen
, J. Vac. Sci. Technol. A
22
, 1175
(2004
).1999.
H. B.
Park
, M.
Cho
, J.
Park
, S. W.
Lee
, T. J.
Park
, and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, G254
(2004
).2000.
C. M.
Tanner
, J.
Choi
, and J. P.
Chang
, J. Appl. Phys.
101
, 034108
(2007
).2001.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, A. C.
Jones
, and J. L.
Roberts
, Chem. Vap. Deposition
9
, 315
(2003
).2002.
M.
Seo
, Y.-S.
Min
, S. K.
Kim
, T. J.
Park
, J. H.
Kim
, K. D.
Na
, and C. S.
Hwang
, J. Mater. Chem.
18
, 4324
(2008
).2003.
M.
Seo
, S. K.
Kim
, J. H.
Han
, and C. S.
Hwang
, Chem. Mater.
22
, 4419
(2010
).2004.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, A. C.
Jones
, and J. L.
Roberts
, Chem. Mater.
15
, 1722
(2003
).2005.
W.
Cho
, K.-S.
An
, T.-M.
Chung
, C.
Kim
, B.-S.
So
, Y.-H.
You
, J.-H.
Hwang
, D.
Jung
, and Y.
Kim
, Chem. Vap. Deposition
12
, 665
(2006
).2006.
S.
Kim
, J.
Kim
, J.
Choi
, H.
Kang
, H.
Jeon
, W.
Cho
, K. S.
An
, T. M.
Chung
, Y.
Kim
, and C.
Bae
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G200
(2006
).2007.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, A. C.
Jones
, and N. L.
Tobin
, Chem. Vap. Deposition
10
, 91
(2004
).2008.
M.
Cho
, H. B.
Park
, J.
Park
, S. W.
Lee
, C. S.
Hwanga
, G. H.
Jang
, and J.
Jeong
, Appl. Phys. Lett.
83
, 5503
(2003
).2009.
M.
Cho
, D. S.
Jeong
, J.
Park
, H. B.
Park
, S. W.
Lee
, T. J.
Park
, and C. S.
Hwang
, Appl. Phys. Lett.
85
, 5953
(2004
).2010.
N.
Terasawa
, K.
Akimoto
, Y.
Mizuno
, A.
Ichimiya
, K.
Sumitani
, T.
Takahashi
, X. W.
Zhang
, H.
Sugiyama
, H.
Kawata
, T.
Nabatame
, and A.
Toriumi
, Appl. Surf. Sci.
244
, 16
(2005
).2011.
K.
Kukli
, T.
Pilvi
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, J.
Lu
, and M.
Leskelä
, Thin Solid Films
491
, 328
(2005
).2012.
Y. R.
Lu
, S.
Bangsaruntip
, X. R.
Wang
, L.
Zhang
, Y.
Nishi
, and H. J.
Dai
, J. Am. Chem. Soc.
128
, 3518
(2006
).2013.
R.
Chen
and S. F.
Bent
, Chem. Mater.
18
, 3733
(2006
).2014.
D.
Shahrjerdi
, D. I.
Garcia-Gutierrez
, T.
Akyol
, S. R.
Bank
, E.
Tutuc
, J. C.
Lee
, and S. K.
Banerjee
, Appl. Phys. Lett.
91
, 193503
(2007
).2015.
J.
Hong
, D. W.
Porter
, R.
Sreenivasan
, P. C.
McIntyre
, and S. F.
Bent
, Langmuir
23
, 1160
(2007
).2016.
D.
Gu
, K.
Tapily
, P.
Shrestha
, M. Y.
Zhu
, G.
Celler
, and H.
Baumgart
, J. Electrochem. Soc.
155
, G129
(2008
).2017.
E.
O'Connor
, R. D.
Long
, K.
Cherkaoui
, K. K.
Thomas
, F.
Chalvet
, I. M.
Povey
, M. E.
Pemble
, P. K.
Hurley
, B.
Brennan
, G.
Hughes
, and S. B.
Newcomb
, Appl. Phys. Lett.
92
, 022902
(2008
).2018.
J. C.
Hackley
, J. D.
Demaree
, and T.
Gougousi
, Appl. Phys. Lett.
92
, 162902
(2008
).2019.
J. C.
Hackley
, J. D.
Demaree
, and T.
Gougousi
, J. Vac. Sci. Technol. A
26
, 1235
(2008
).2020.
X.-H.
Zhang
, S. P.
Tiwari
, S.-J.
Kim
, and B.
Kippelen
, Appl. Phys. Lett.
95
, 223302
(2009
).2021.
M.
Shandalov
and P. C.
McIntyre
, J. Appl. Phys.
106
, 084322
(2009
).2022.
R. D.
Long
, E.
O'Connor
, S. B.
Newcomb
, S.
Monaghan
, K.
Cherkaoui
, P.
Casey
, G.
Hughes
, K. K.
Thomas
, F.
Chalvet
, I. M.
Povey
, M. E.
Pemble
, and P. K.
Hurley
, J. Appl. Phys.
106
, 084508
(2009
).2023.
J. C.
Hackley
and T.
Gougousi
, Thin Solid Films
517
, 6576
(2009
).2024.
D.
Wheeler
, L. E.
Wernersson
, L.
Froberg
, C.
Thelander
, A.
Mikkelsen
, K. J.
Weststrate
, A.
Sonnet
, E. M.
Vogel
, and A.
Seabaugh
, Microelectron. Eng.
86
, 1561
(2009
).2025.
Y.
Oshima
, M.
Shandalov
, Y.
Sun
, P.
Pianetta
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
94
, 183102
(2009
).2026.
Z.
Chen
, S.
Sarkar
, N.
Biswas
, and V.
Misra
, J. Electrochem. Soc.
156
, H561
(2009
).2027.
Y.
Morita
, A.
Hirano
, S.
Migita
, H.
Ota
, T.
Nabatame
, and A.
Toriumi
, Appl. Phys. Express
2
, 011201
(2009
).2028.
J.
Sun
, M.
Larsson
, I.
Maximov
, H.
Hardtdegen
, and H. Q.
Xu
, Appl. Phys. Lett.
94
, 042114
(2009
).2029.
A.
O'Mahony
, M. E.
Pemble
, and I. M.
Povey
, J. Mol. Struct.
976
, 324
(2010
).2030.
N.
Moriyama
, Y.
Ohno
, T.
Kitamura
, S.
Kishimoto
, and T.
Mizutani
, Nanotechnology
21
, 165201
(2010
).2031.
K.
Kolanek
, M.
Tallarida
, K.
Karavaev
, and D.
Schmeisser
, Thin Solid Films
518
, 4688
(2010
).2032.
K.
Li
, S.
Li
, N.
Li
, D. A.
Dixon
, and T. M.
Klein
, J. Phys. Chem. C
114
, 14061
(2010
).2033.
L.
Nyns
, A.
Delabie
, J.
Swerts
, S.
Van Elshocht
, and S.
De Gendt
, J. Electrochem. Soc.
157
, G225
(2010
).2034.
J.
Park
, M.
Cho
, S. K.
Kim
, T. J.
Park
, S. W.
Lee
, S. H.
Hong
, and C. S.
Hwang
, Appl. Phys. Lett.
86
, 112907
(2005
).2035.
J.
Park
, T. J.
Park
, M. J.
Cho
, S. K.
Kim
, S. H.
Hong
, J. H.
Kim
, M.
Seo
, C. S.
Hwang
, J. Y.
Won
, R.
Jeong
, and J. H.
Choi
, J. Appl. Phys.
99
, 094501
(2006
).2036.
T. J.
Park
, J. H.
Kim
, M. H.
Seo
, J. H.
Jang
, and C. S.
Hwang
, Appl. Phys. Lett.
90
, 152906
(2007
).2037.
M.
Cho
, J. H.
Kim
, C. S.
Hwang
, H. S.
Ahn
, S.
Han
, and J. Y.
Won
, Appl. Phys. Lett.
90
, 182907
(2007
).2038.
T. J.
Park
, J. H.
Kim
, J. H.
Jang
, K. D.
Na
, C. S.
Hwang
, and J. Y.
Won
, J. Appl. Phys.
103
, 084117
(2008
).2039.
T. J.
Park
, K. J.
Chung
, H.-C.
Kim
, J.
Ahn
, R. M.
Wallace
, and J.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, G65
(2010
).2040.
J. C.
Kim
, Y. S.
Cho
, and S. H.
Moon
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
48
, 066515
(2009
).2041.
W. J.
Maeng
and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
155
, H267
(2008
).2042.
W. J.
Maeng
, G. H.
Gu
, C. G.
Park
, K.
Lee
, T.
Lee
, and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
156
, G109
(2009
).2043.
W. J.
Maeng
, J. Y.
Son
, and H.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
156
, G33
(2009
).2044.
C. L.
Platt
, N.
Li
, K.
Li
, and T. M.
Klein
, Thin Solid Films
518
, 4081
(2010
).2045.
A.
Deshpande
, R.
Inman
, G.
Jursich
, and C.
Takoudis
, J. Vac. Sci. Technol. A
22
, 2035
(2004
).2046.
D.
Wang
, Y.-L.
Chang
, Q.
Wang
, J.
Cao
, D. B.
Farmer
, R. G.
Gordon
, and H.
Dai
, J. Am. Chem. Soc.
126
, 11602
(2004
).2047.
M. J.
Kelly
, J. H.
Han
, C. B.
Musgrave
, and G. N.
Parsons
, Chem. Mater.
17
, 5305
(2005
).2048.
R.
Chen
, H.
Kim
, P. C.
McIntyre
, D. W.
Porter
, and S. F.
Bent
, Appl. Phys. Lett.
86
, 191910
(2005
).2049.
Y.
Yokoyama
, S. Y.
Zhu
, and A.
Nakajima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 7091
(2006
).2050.
A.
Deshpande
, R.
Inman
, G.
Jursich
, and C. G.
Takoudis
, J. Appl. Phys.
99
, 094102
(2006
).2051.
A.
Deshpande
, R.
Inman
, G.
Jursich
, and C.
Takoudis
, Microelectron. Eng.
83
, 547
(2006
).2052.
X. D.
Yang
, C. J.
Chen
, C. A.
Husko
, and C. W.
Wong
, Appl. Phys. Lett.
91
, 161114
(2007
).2053.
P. T.
Chen
, Y.
Sun
, E.
Kim
, P. C.
McIntyre
, W.
Tsai
, M.
Garner
, P.
Pianetta
, Y.
Nishi
, and C. O.
Chui
, J. Appl. Phys.
103
, 034106
(2008
).2054.
Y.
Oshima
, Y.
Sun
, D.
Kuzum
, T.
Sugawara
, K. C.
Saraswat
, P.
Pianetta
, and P. C.
McIntyrea
, J. Electrochem. Soc.
155
, G304
(2008
).2055.
T.-L.
Chen
, A.
Kou
, A.
Ofan
, O.
Gaathon
, R. M.
Osgood
, Jr., O.
Gang
, L.
Vanamurthy
, S.
Bakhru
, and H.
Bakhru
, Thin Solid Films
518
, 269
(2009
).2056.
Q.
Tao
, G.
Jursich
, and C.
Takoudis
, Appl. Phys. Lett.
96
, 192105
(2010
).2057.
C. J.
Chen
, C. A.
Husko
, I.
Meric
, K. L.
Shepard
, C. W.
Wong
, W. M. J.
Green
, Y. A.
Vlasov
, and S.
Assefa
, Appl. Phys. Lett.
96
, 081107
(2010
).2058.
S.
Choi
, J.
Koo
, H.
Jeon
, and Y.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
44
, 35
(2004
).2059.
J.
Kim
, S.
Kim
, H.
Kang
, J.
Choi
, H.
Jeon
, M.
Cho
, K.
Chung
, S.
Back
, K.
Yoo
, and C.
Bae
, J. Appl. Phys.
98
, 094504
(2005
).2060.
Y.
Won
, S.
Park
, J.
Koo
, S.
Kim
, J.
Kim
, and H.
Jeon
, Appl. Phys. Lett.
87
, 262901
(2005
).2061.
J.
Kim
, S.
Kim
, H.
Jeon
, M. H.
Cho
, K. B.
Chung
, and C.
Bae
, Appl. Phys. Lett.
87
, 053108
(2005
).2062.
S.
Kim
, J.
Kim
, J.
Choi
, H. S.
Kang
, H.
Jeon
, and C.
Bae
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 1088
(2006
).2063.
H.
Kang
, S.
Kim
, J.
Choi
, J.
Kim
, H.
Jeon
, and C.
Bae
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G211
(2006
).2064.
J.
Choi
, S.
Kim
, J.
Kim
, H.
Kang
, H.
Jeon
, and C.
Bae
, J. Vac. Sci. Technol. A
24
, 900
(2006
).2065.
S.
Kim
, S.
Woo
, H.
Kim
, W.
Jeong
, T.
Park
, H.
Kim
, S. B.
Kim
, and H.
Jeon
, J. Vac. Sci. Technol. B
25
, 1922
(2007
).2066.
I.
Kim
, S.
Kuk
, S.
Kim
, J.
Kim
, H.
Jeon
, M. H.
Cho
, and K. B.
Chung
, Appl. Phys. Lett.
90
, 222101
(2007
).2067.
S.
Kim
, S.
Woo
, H.
Kim
, I.
Kim
, K.
Lee
, W.
Jeong
, T.
Park
, and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
52
, 1103
(2008
).2068.
H.
Hong
, S.
Kim
, S.
Woo
, H.
Kim
, H.
Kim
, W.
Jeong
, S.
Jeon
, S.
Bang
, S.
Lee
, and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
52
, 1114
(2008
).2069.
S.
Woo
, H.
Hong
, S.
Kim
, H.
Kim
, J.
Kim
, H.
Jeon
, C.
Bae
, T.
Okada
, K.
Sawada
, and M.
Ishida
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
47
, 6196
(2008
).2070.
Y.
Lee
, S.
Kim
, J.
Koo
, I.
Kim
, J.
Choi
, H.
Jeon
, and Y.
Won
, J. Electrochem. Soc.
153
, G353
(2006
).2071.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
8
, 199
(2002
).2072.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, J.
Lu
, A.
Hårsta
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
151
, F189
(2004
).2073.
T.
Lee
, H.-K.
Ko
, Y.
Kim
, J.
Ahn
, Y. B.
Kim
, K. S.
Kim
, and D. K.
Choi
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1308
(2004
).2074.
M. T.
Ho
, Y.
Wang
, R. T.
Brewer
, L. S.
Wielunski
, Y. J.
Chabal
, N.
Moumen
, and M.
Boleslawski
, Appl. Phys. Lett.
87
, 133103
(2005
).2075.
B.
Lee
, T.
Moon
, T. G.
Kim
, D. K.
Choi
, and B.
Park
, Appl. Phys. Lett.
87
, 012901
(2005
).2076.
C. H.
Chang
, Y. K.
Chiou
, Y. C.
Chang
, K. Y.
Lee
, T. D.
Lin
, T. B.
Wu
, M.
Hong
, and J.
Kwo
, Appl. Phys. Lett.
89
, 242911
(2006
).2077.
T.
Lee
, H. K.
Ko
, J.
Ahn
, I. S.
Park
, H.
Sim
, H.
Park
, and H.
Hwang
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 6993
(2006
).2078.
J. C.
Hackley
, T.
Gougousi
, and J. D.
Demaree
, J. Appl. Phys.
102
, 034101
(2007
).2079.
K. B.
Chung
, M. H.
Cho
, D. W.
Moon
, D. C.
Suh
, D. H.
Ko
, U.
Hwang
, and H. J.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, G1
(2007
).2080.
Y. C.
Chang
, H. C.
Chiu
, Y. J.
Lee
, M. L.
Huang
, K. Y.
Lee
, M.
Hong
, Y. N.
Chiu
, J.
Kwo
, and Y. H.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
90
, 232904
(2007
).2081.
Y. K.
Chiou
, C. H.
Chang
, and T. B.
Wu
, J. Mater. Res.
22
, 1899
(2007
).2082.
I.
Perez
, E.
Robertson
, P.
Banerjee
, L.
Henn-Lecordier
, S. J.
Son
, S. B.
Lee
, and G. W.
Rubloff
, Small
4
, 1223
(2008
).2083.
D. W.
McNeill
, S.
Bhattacharya
, H.
Wadsworth
, F. H.
Ruddell
, S. J. N.
Mitchell
, B. M.
Armstrong
, and H. S.
Gamble
, J. Mater. Sci.: Mater. Electron.
19
, 119
(2008
).2084.
C. L.
Hinkle
, A. M.
Sonnet
, E. M.
Vogel
, S.
McDonnell
, G. J.
Hughes
, M.
Milojevic
, B.
Lee
, F. S.
Aguirre-Tostado
, K. J.
Choi
, H. C.
Kim
, J.
Kim
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
92
, 071901
(2008
).2085.
C. Y.
Kim
, S. W.
Cho
, M. H.
Cho
, K. B.
Chung
, C. H.
An
, H.
Kim
, H. J.
Lee
, and D. H.
Ko
, Appl. Phys. Lett.
93
, 192902
(2008
).2086.
R.
Suri
, B.
Lee
, D. J.
Lichtenwalner
, N.
Biswas
, and V.
Misra
, Appl. Phys. Lett.
93
, 193504
(2008
).2087.
R.
Katamreddy
, R.
Inman
, G.
Jursich
, A.
Soulet
, and C.
Takoudis
, Thin Solid Films
516
, 8498
(2008
).2088.
Y.
Lee
, K.
Park
, K. T.
Im
, J. Y.
Lee
, S.
Im
, J. H.
Lee
, Y.
Yi
, and S.
Lim
, Appl. Surf. Sci.
255
, 7179
(2009
).2089.
B. A.
Sperling
, W. A.
Kimes
, and J. E.
Maslar
, Appl. Surf. Sci.
256
, 5035
(2010
).2090.
B. A.
Sperling
, W. A.
Kimes
, J. E.
Maslar
, and P. M.
Chu
, J. Vac. Sci. Technol. A
28
, 613
(2010
).2091.
T.
Gougousi
, J. C.
Hackley
, J. D.
Demaree
, and J. W.
Lacis
, J. Electrochem. Soc.
157
, H551
(2010
).2092.
K.
Park
, Y.
Lee
, K. T.
Im
, J. Y.
Lee
, and S.
Lim
, Thin Solid Films
518
, 4126
(2010
).2093.
Y.
Nakashima
, Y.
Ohno
, S.
Kishimoto
, M.
Okochi
, H.
Honda
, and T.
Mizutani
, J. Nanosci. Nanotechnol.
10
, 3805
(2010
).2094.
Y. S.
Kang
, C. Y.
Kim
, M. H.
Cho
, K. B.
Chung
, C. H.
An
, H.
Kim
, H. J.
Lee
, C. S.
Kim
, and T. G.
Lee
, Appl. Phys. Lett.
97
, 172108
(2010
).2095.
J.
Swerts
, N.
Peys
, L.
Nyns
, A.
Delabie
, A.
Franquet
, J. W.
Maes
, S.
Van Elshocht
, and S.
De Gendt
, J. Electrochem. Soc.
157
, G26
(2010
).2096.
X. Y.
Liu
, S.
Ramanathan
, A.
Longdergan
, A.
Srivastava
, E.
Lee
, T. E.
Seidel
, J. T.
Barton
, D.
Pang
, and R. G.
Gordon
, J. Electrochem. Soc.
152
, G213
(2005
).2097.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, and Y.
Nara
, Appl. Phys. Lett.
87
, 132904
(2005
).2098.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, and Y.
Nara
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, G367
(2005
).2099.
S.
Kamiyama
, T.
Miura
, and Y.
Nara
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G285
(2006
).2100.
H.
Jin
, S. K.
Oh
, H. J.
Kang
, and M. H.
Cho
, Appl. Phys. Lett.
89
, 122901
(2006
).2101.
Y.
Wang
, M.
Dai
, M. T.
Ho
, L. S.
Wielunski
, and Y. J.
Chabal
, Appl. Phys. Lett.
90
, 022906
(2007
).2102.
P. S.
Lysaght
, J.
Barnett
, G. I.
Bersuker
, J. C.
Woicik
, D. A.
Fischer
, B.
Foran
, H. H.
Tseng
, and R.
Jammy
, J. Appl. Phys.
101
, 024105
(2007
).2103.
D.
Lee
, D.
Suh
, D. H.
Ko
, K.
Park
, M. S.
Lee
, and H.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
51
, 168
(2007
).2104.
Y. W.
Kim
, Y.
Roh
, J. B.
Yoo
, and H.
Kim
, Thin Solid Films
515
, 2984
(2007
).2105.
H.
Jin
, S. K.
Oh
, Y. J.
Cho
, H. J.
Kang
, and S.
Tougaard
, J. Appl. Phys.
102
, 053709
(2007
).2106.
S. Y.
Son
, P.
Kumar
, H.
Cho
, K. J.
Min
, C. J.
Kang
, and R. K.
Singh
, Appl. Phys. Lett.
92
, 172106
(2008
).2107.
E.
Bersch
, M.
Di
, S.
Consiglio
, R. D.
Clark
, G. J.
Leusink
, and A. C.
Diebold
, J. Appl. Phys.
10
, 043702
(2010
).2108.
K. D.
Na
, J. H.
Kim
, T. J.
Park
, J.
Song
, C. S.
Hwang
, and J.-H.
Choi
, Thin Solid Films
518
, 5326
(2010
).2109.
P. K.
Park
, J. S.
Roh
, B. H.
Choi
, and S. W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, F34
(2006
).2110.
W.-S.
Kim
, S.-K.
Park
, D.-Y.
Moon
, B.-W.
Kang
, H.-D.
Kim
, and J.-W.
Park
, Thin Solid Films
517
, 3900
(2009
).2111.
H.-S.
Jung
, H. K.
Kim
, J. H.
Kim
, S.-J.
Won
, D.-Y.
Cho
, J.
Lee
, S. Y.
Lee
, C. S.
Hwang
, J.-M.
Park
, W.-H.
Kim
, M.-W.
Song
, N.-I.
Lee
, and S.
Heo
, J. Electrochem. Soc.
157
, G121
(2010
).2112.
W.-H.
Nam
and S.-W.
Rhee
, Electrochem. Solid-State Lett.
7
, C55
(2004
).2113.
J.
Conley
, J.
F.
, Y.
Ono
, W.
Zhuang
, D. J.
Tweet
, W.
Gao
, S. K.
Mohammed
, and R.
Solanki
, Electrochem. Solid-State Lett.
5
, C57
(2002
).2114.
J.
Conley
, J.
F.
, Y.
Ono
, D. J.
Tweet
, W.
Zhuang
, and R.
Solanki
, J. Appl. Phys.
93
, 712
(2003
).2115.
J. F.
Conley
, Y.
Ono
, R.
Solanki
, G.
Stecker
, and W.
Zhuang
, Appl. Phys. Lett.
82
, 3508
(2003
).2116.
L. J.
Zhong
, W. L.
Daniel
, Z. H.
Zhang
, S. A.
Campbell
, and W. L.
Gladfelter
, Chem. Vap. Deposition
12
, 143
(2006
).2117.
E. J.
Kim
and D. H.
Kim
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, C123
(2006
).2118.
S.
Consiglio
, W. X.
Zeng
, N.
Berliner
, and E. T.
Eisenbraun
, J. Electrochem. Soc.
155
, H196
(2008
).2119.
W.
Jeong
, Y.
Ko
, S.
Bang
, S.
Lee
, and H.
Jeon
, J. Korean Phys. Soc.
56
, 905
(2010
).2120.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, D. C.
Gilmer
, and P. J.
Tobin
, Mater. Sci. Eng., B
109
, 2
(2004
).2121.
W.-K.
Kim
, S.-W.
Rhee
, N.-I.
Lee
, J.-H.
Lee
, and H.-K.
Kang
, J. Vac. Sci. Technol. A
22
, 1285
(2004
).2122.
M. S.
Kim
, S. A.
Rogers
, Y. S.
Kim
, J. H.
Lee
, and H. K.
Kang
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1317
(2004
).2123.
J.
Kim
and K.
Yong
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 5174
(2006
).2124.
H.
Kim
and S. M.
Rossnagel
, Thin Solid Films
441
, 311
(2003
).2125.
J. D.
Kwon
, J. S.
Park
, H. C.
Lee
, and S. W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, G282
(2006
).2126.
J.-D.
Kwon
, S.-J.
Jeong
, J.-W.
Kang
, D.-G.
Kim
, J.-K.
Kim
, J.-J.
Rha
, K.-S.
Nam
, and S.-H.
Kwon
, J. Electrochem. Soc.
156
, H832
(2009
).2127.
J.-D.
Kwon
, J.
Yun
, and S.-W.
Kang
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
48
, 025504
(2009
).2128.
A. M.
Lemonds
, J. M.
White
, and J. G.
Ekerdt
, Surf. Sci.
538
, 191
(2003
).2129.
J.
Aarik
, A.
Aidla
, K.
Kukli
, and T.
Uustare
, J. Cryst. Growth
144
, 116
(1994
).2130.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, O.
Kohan
, T.
Uustare
, and V.
Sammelselg
, Thin Solid Films
260
, 135
(1995
).2131.
H.
Siimon
and J.
Aarik
, J. Phys IV France
5
(C5
) 277
(1995
).2132.
J.
Aarik
, K.
Kukli
, A.
Aidla
, and L.
Pung
, Appl. Surf. Sci.
103
, 331
(1996
).2133.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, R.
Matero
, and M.
Leskelä
, J. Cryst. Growth
212
, 459
(2000
).2134.
Y. S.
Kim
and S. J.
Yun
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
44
, 4848
(2005
).2135.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
12
, 1914
(2000
).2136.
C. W.
Hill
, G. J.
Derderian
, and G.
Sandhu
, J. Electrochem. Soc.
152
, G386
(2005
).2137.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, K.
Forsgren
, J.
Sundqvist
, A.
Hårsta
, T.
Uustare
, H.
Mändar
, and A. A.
Kiisler
, Chem. Mater.
13
, 122
(2001
).2138.
J.
Sundqvist
, H.
Högberg
, and A.
Hårsta
, Chem. Vap. Deposition
9
, 245
(2003
).2139.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
142
, 1670
(1995
).2140.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, A.
Aidla
, H.
Siimon
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Appl. Surf. Sci.
112
, 236
(1997
).2141.
Y. S.
Kim
, S. H. K.
Park
, S. J.
Yun
, and J. S.
Kang
, J. Korean Phys. Soc.
37
, 975
(2000
).2142.
J.-C.
Kwak
, Y.-H.
Lee
, and B.-H.
Choi
, Appl. Surf. Sci.
230
, 249
(2004
).2143.
D. F.
Gu
, J.
Li
, S. K.
Dey
, H.
De Waard
, and S.
Marcus
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 2230
(2006
).2144.
L. D.
Salmi
, E.
Puukilainen
, M.
Vehkamäki
, M.
Heikkilä
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
15
, 221
(2009
).2145.
A. L.
Salaün
, A.
Mantoux
, E.
Blanquet
, and E.
Djurado
, J. Electrochem. Soc.
156
, H311
(2009
).2146.
A.
Lintanf-Salaün
, A.
Mantoux
, E.
Djurado
, and E.
Blanquet
, Microelectron. Eng.
87
, 373
(2010
).2147.
H.-J.
Song
, C.-S.
Lee
, and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
4
, F13
(2001
).2148.
A.
Niskanen
, U.
Kreissig
, M.
Leskelä
, and M.
Ritala
, Chem. Mater.
19
, 2316
(2007
).2149.
Y.-H.
Lee
, J.-C.
Kwak
, B.-S.
Gang
, H.-C.
Kim
, B.-H.
Choi
, B.-K.
Jeong
, S.-H.
Park
, and K.-H.
Lee
, J. Electrochem. Soc.
151
, C52
(2004
).2150.
K. H.
Min
, R.
Sinclair
, I. S.
Park
, S. T.
Kim
, and U. I.
Chung
, Philos. Mag.
85
, 2049
(2005
).2151.
A.
Rugge
, J. S.
Park
, R. G.
Gordon
, and S. H.
Tolbert
, J. Phys. Chem. B
109
, 3764
(2005
).2152.
W. J.
Maeng
, S. J.
Park
, and H.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 2276
(2006
).2153.
W. J.
Maeng
, S. J.
Lim
, S. J.
Kwon
, and H.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
90
, 062909
(2007
).2154.
H.
Kim
, S.
Sohn
, D.
Jung
, W. J.
Maeng
, H.
Kim
, T. S.
Kim
, J.
Hahn
, S.
Lee
, Y.
Yi
, and M.-H.
Cho
, Org. Electron.
9
, 1140
(2008
).2155.
S. B. S.
Heil
, F.
Roozeboom
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Vac. Sci. Technol. A
26
, 472
(2008
).2156.
D. M.
Hausmann
, P.
de Rouffignac
, A.
Smith
, R.
Gordon
, and D.
Monsma
, Thin Solid Films
443
, 1
(2003
).2157.
C. L.
Dezelah
IV, M. K.
Wiedmann
, K.
Mizohata
, R. J.
Baird
, L.
Niinistö
, and C. H.
Winter
, J. Am. Chem. Soc.
129
, 12370
(2007
).2158.
M. K.
Wiedmann
, M. C.
Karunarathne
, R. J.
Baird
, and C. H.
Winter
, Chem. Mater.
22
, 4400
(2010
).2159.
T.
Sugawara
, Y.
Oshima
, R.
Sreenivasan
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
90
, 112912
(2007
).2160.
M.
Ritala
, P.
Kalsi
, D.
Riihelä
, K.
Kukli
, M.
Leskelä
, and J.
Jokinen
, Chem. Mater.
11
, 1712
(1999
).2161.
J.
Liu
, M.
Scharnberg
, J.
Bao
, J.
Im
, and P. S.
Ho
, J. Vac. Sci. Technol. B
23
, 1422
(2005
).2162.
J.
Liu
, J.
Bao
, M.
Scharnberg
, W. C.
Kim
, P. S.
Ho
, and R.
Laxman
, J. Vac. Sci. Technol. A
23
, 1107
(2005
).2163.
P.
Alén
, M.
Juppo
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Sajavaara
, and J.
Keinonen
, J. Mater. Res.
17
, 107
(2002
).2164.
H.
Kim
, A. J.
Kellock
, and S. M.
Rossnagel
, J. Appl. Phys.
92
, 7080
(2002
).2165.
H.
Kim
, J. C.
Cabral
, C.
Lavoie
, and S. M.
Rossnagel
, J. Vac. Sci. Technol. B
20
, 1321
(2002
).2166.
H.
Kim
, C.
Lavoie
, M.
Copel
, V.
Narayanan
, D.-G.
Park
, and S. M.
Rossnagel
, J. Appl. Phys.
95
, 5848
(2004
).2167.
C.-C.
Chang
, F.-M.
Pan
, and C.-W.
Chen
, Microelectron. Eng.
86
, 2241
(2009
).2168.
C.-C.
Chang
, F.-M.
Pan
, and C.-W.
Chen
, J. Electrochem. Soc.
157
, G62
(2010
).2169.
D.
Schmidt
, M.
Knaut
, C.
Hossbach
, M.
Albert
, C.
Dussarrat
, B.
Hintze
, and J. W.
Bartha
, J. Electrochem. Soc.
157
, H638
(2010
).2170.
H. S.
Chung
, J. D.
Kwon
, and S. W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
153
, C751
(2006
).2171.
Y. Y.
Wu
, A.
Kohn
, and M.
Eizenberg
, J. Appl. Phys.
95
, 6167
(2004
).2172.
W. F.
Besling
, M.-L.
Ignacimouttou
, A.
Humbert
, M.
Mellier
, and J.
Torres
, Microelectron. Eng.
76
, 60
(2004
).2173.
Y.
Travaly
, J.
Schuhmacher
, A.
Martin Hoyas
, M.
Van Hove
, K.
Maex
, T.
Abell
, V.
Sutcliffe
, and A. M.
Jonas
, J. Appl. Phys.
97
, 084316
(2005
).2174.
Y.
Travaly
, J.
Schuhmacher
, A.
Martin Hoyas
, T.
Abell
, V.
Sutcliffe
, A. M.
Jonas
, M.
Van Hove
, and K.
Maex
, Microelectron. Eng.
82
, 639
(2005
).2175.
Y.
Travaly
, J.
Schuhmacher
, M. R.
Baklanov
, S.
Giangrandi
, O.
Richard
, B.
Brijs
, M.
Van Hove
, K.
Maex
, T.
Abell
, K. R. F.
Somers
, M. F. A.
Hendrickx
, L. G.
Vanquickenborne
, A.
Ceulemans
, and A. M.
Jonas
, J. Appl. Phys.
98
, 083515
(2005
).2176.
A.
Furuya
, N.
Ohtsuka
, K.
Misawa
, M.
Shimada
, and S.
Ogawa
, J. Appl. Phys.
98
, 094902
(2005
).2177.
A.
Furuya
, E.
Soda
, M.
Shimada
, and S.
Ogawa
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
44
, 7430
(2005
).2178.
Y. Y.
Wu
and M.
Eizenberg
, Thin Solid Films
514
, 33
(2006
).2179.
Y. Y.
Wu
and M.
Eizenberg
, Mater. Chem. Phys.
101
, 269
(2007
).2180.
C. K.
Hu
, L.
Gignac
, E.
Liniger
, S.
Grunow
, J. J.
Demarest
, B.
Redder
, A.
Simon
, and S. L.
Liew
, J. Electrochem. Soc.
154
, H755
(2007
).2181.
Q.
Xie
, J.
Musschoot
, C.
Detavernier
, D.
Deduytsche
, R. L.
Van Meirhaeghe
, S.
Van den Berghe
, Y.-L.
Jiang
, G.-P.
Ru
, B.-Z.
Li
, and X.-P.
Qu
, Microelectron. Eng.
85
, 2059
(2008
).2182.
H.
Kim
, C.
Detavenier
, O.
van der Straten
, S. M.
Rossnagel
, A. J.
Kellock
, and D. G.
Park
, J. Appl. Phys.
98
, 014308
(2005
).2183.
E.
Langereis
, H. C. M.
Knoops
, A. J. M.
Mackus
, F.
Roozeboom
, M. C.
M. van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
102
, 083517
(2007
).2184.
N. J.
Bae
, K. I.
Na
, H. I.
Cho
, K. Y.
Park
, E.
Boo
, J. H.
Bae
, and J. H.
Lee
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
45
, 9072
(2006
).2185.
R.
Sreenivasan
, T.
Sugawara
, K. C.
Saraswat
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
90
, 102101
(2007
).2186.
J. Y.
Kim
, K. W.
Lee
, H. O.
Park
, Y. D.
Kim
, H.
Jeon
, and Y.
Kim
, J. Korean Phys. Soc.
45
, 1069
(2004
).2187.
O.
van der Straten
, Y.
Zhu
, K.
Dunn
, E. T.
Eisenbraun
, and A. E.
Kaloyeros
, J. Mater. Res.
19
, 447
(2004
).2188.
B. B.
Burton
, A. R.
Lavoie
, and S. M.
George
, J. Electrochem. Soc.
155
, D508
(2008
).2189.
D.
Schmidt
, S.
Strehle
, M.
Albert
, W.
Hentsch
, and J. W.
Bartha
, Microelectron. Eng.
85
, 527
(2008
).2190.
A. C.
Anacleto
, A.
Zauner
, D.
Cany-Canian
, J.
Gatineau
, and M.-C.
Hugon
, Thin Solid Films
519
, 367
(2010
).2191.
J.-S.
Park
, M.-J.
Lee
, C.-S.
Lee
, and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
4
, C17
(2001
).2192.
J.-S.
Park
, H.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, J. Electrochem. Soc.
149
, C28
(2002
).2193.
G. B.
Rayner
, Jr. and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
27
, 716
(2009
).2194.
S.-H.
Kim
, M.-K.
Song
, and S.-W.
Rhee
, J. Electrochem. Soc.
157
, H652
(2010
).2195.
M.-K.
Song
and S.-W.
Rhee
, Chem. Vap. Deposition
14
, 334
(2008
).2196.
C.
Hossbach
, S.
Teichert
, J.
Thomas
, L.
Wilde
, H.
Wojcik
, D.
Schmidt
, B.
Adolphi
, M.
Bertram
, U.
Muehle
, M.
Albert
, S.
Menzel
, B.
Hintze
, and J. W.
Bartha
, J. Electrochem. Soc.
156
, H852
(2009
).2197.
G.-H.
Cho
and S.-W.
Rhee
, Electrochem. Solid-State Lett.
13
, H426
(2010
).2198.
M.-K.
Song
and S.-W.
Rhee
, J. Electrochem. Soc.
155
, H823
(2008
).2199.
T. J.
Park
, J. H.
Kim
, J. H.
Jang
, K. D.
Na
, C. S.
Hwang
, J. H.
Kim
, G. M.
Kim
, J. H.
Choi
, K. J.
Choi
, and J. H.
Jeong
, Appl. Phys. Lett.
91
, 252106
(2007
).2200.
A. M.
Lemonds
, T.
Bolom
, W. J.
Ahearn
, D. C.
Gay
, J. M.
White
, and J. G.
Ekerdt
, Thin Solid Films
488
, 9
(2005
).2201.
S. H.
Kim
, E. S.
Hwang
, B. M.
Kim
, J. W.
Lee
, H. J.
Sun
, T. E.
Hong
, J. K.
Kim
, H.
Sohn
, J.
Kim
, and T. S.
Yoon
, Electrochem. Solid-State Lett.
8
, C155
(2005
).2202.
S. H.
Kim
, N.
Kwak
, J.
Kim
, and H.
Sohn
, J. Electrochem. Soc.
153
, G887
(2006
).2203.
W.
Lei
, L.
Henn-Lecordier
, M.
Anderle
, G. W.
Rubloff
, M.
Barozzi
, and M.
Bersani
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 780
(2006
).2204.
L.
Henn-Lecordier
, W.
Lei
, M.
Anderle
, and G. W.
Rubloff
, J. Vac. Sci. Technol. B
25
, 130
(2007
).2205.
A.
Yutani
, K.
Ichinose
, K.
Maekawa
, K.
Asai
, and M.
Kojima
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
47
, 2464
(2008
).2206.
T.
Luoh
, C.-T.
Su
, T.-H.
Yang
, K.-C.
Chen
, and C.-Y.
Lu
, Microelectron. Eng.
85
, 1739
(2008
).2207.
J. W.
Klaus
, S. J.
Ferro
, and S. M.
George
, Appl. Surf. Sci.
162–163
, 479
(2000
).2208.
J. W.
Klaus
, S. J.
Ferro
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
360
, 145
(2000
).2209.
J. W.
Elam
, C. E.
Nelson
, R. K.
Grubbs
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
386
, 41
(2001
).2210.
J. W.
Elam
, C. E.
Nelson
, R. K.
Grubbs
, and S. M.
George
, Surf. Sci.
479
, 121
(2001
).2211.
R. M.
Costescu
, D. G.
Cahill
, F. H.
Fabreguette
, Z. A.
Sechrist
, and S. M.
George
, Science
303
, 989
(2004
).2212.
R. K.
Grubbs
, N. J.
Steinmetz
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. B
22
, 1811
(2004
).2213.
F. H.
Fabreguette
, Z. A.
Sechrist
, J. W.
Elam
, and S. M.
George
, Thin Solid Films
488
, 103
(2005
).2214.
N. N.
Naguib
, J. W.
Elam
, J.
Birrell
, J.
Wang
, D. S.
Grierson
, B.
Kabius
, J. M.
Hiller
, A. V.
Sumant
, R. W.
Carpick
, O.
Auciello
, and J. A.
Carlisle
, Chem. Phys. Lett.
430
, 345
(2006
).2215.
C. Y.
Kim
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, D. K.
Goswami
, S. T.
Christensen
, M. C.
Hersam
, P. C.
Stair
, and M. J.
Bedzyk
, J. Phys. Chem. B
110
, 12616
(2006
).2216.
J. W.
Elam
, J. A.
Libera
, M. J.
Pellin
, A. V.
Zinovev
, J. P.
Greene
, and J. A.
Nolen
, Appl. Phys. Lett.
89
, 053124
(2006
).2217.
T. F.
Baumann
, J.
Biener
, Y. M. M.
Wang
, S. O.
Kucheyev
, E. J.
Nelson
, J. H.
Satcher
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and A. V.
Hamza
, Chem. Mater.
18
, 6106
(2006
).2218.
C. A.
Wilson
, D. N.
Goldstein
, J. A.
McCormick
, A. W.
Weimer
, and S. M.
George
, J. Vac. Sci. Technol. A
26
, 430
(2008
).2219.
C.
Wilson
, J.
McCormick
, A.
Cavanagh
, D.
Goldstein
, A.
Weimer
, and S.
George
, Thin Solid Films
516
, 6175
(2008
).2220.
P.
Tägtström
, P.
Mårtensson
, U.
Jansson
, and J.-O.
Carlsson
, J. Electrochem. Soc.
146
, 3139
(1999
).2221.
Z.
Feng
, C.-Y.
Kim
, J. W.
Elam
, Q.
Ma
, Z.
Zhang
, and M. J.
Bedzyk
, J. Am. Chem. Soc.
131
, 18200
(2009
).2222.
M.
Lindblad
and L. P.
Lindfors
, in Proceedings of the 10th International Congress on Catalysis: New Frontiers in Catalysis, Budapest, Hungary, 19-24 July 1992
, Stud. Surf. Sci. Catal.
, edited by L.
Guczi
(Elsevier
, Amsterdam
, 1993
), Vol. 75
, pp. 1763
–1770
.2223.
C. L.
Dezelah
IV, O. M.
El-Kadri
, I. M.
Szilágyi
, J. M.
Campbell
, K.
Arstila
, L.
Niinistö
, and C. H.
Winter
, J. Am. Chem. Soc.
128
, 9638
(2006
).2224.
J. W.
Klaus
, S. J.
Ferro
, and S. M.
George
, J. Electrochem. Soc.
147
, 1175
(2000
).2225.
S.
Bystrova
, A. A. I.
Aarnink
, J.
Holleman
, and R. A. M.
Wolters
, J. Electrochem. Soc.
152
, G522
(2005
).2226.
C. W.
Lee
and Y. T.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. B
24
, 1432
(2006
).2227.
H. S.
Sim
, S.-I.
Kim
, H.
Jeon
, and Y. T.
Kim
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
42
, 6359
(2003
).2228.
H. S.
Sim
, S.-I.
Kim
, and Y. T.
Kim
, J. Vac. Sci. Technol. B
21
, 1411
(2003
).2229.
H. S.
Sim
, J. H.
Park
, and Y. T.
Kim
, Phys. Status Solidi A
201
, R92
(2004
).2230.
S. H.
Kim
, J. K.
Kim
, J. H.
Lee
, N.
Kwak
, J.
Kim
, S. H.
Jung
, M. R.
Hong
, S. H.
Lee
, J.
Collins
, and H.
Sohn
, J. Electrochem. Soc.
154
, D435
(2007
).2231.
J. S.
Becker
, S.
Suh
, S.
Wang
, and R. G.
Gordon
, Chem. Mater.
15
, 2969
(2003
).2232.
J. S.
Becker
and R. G.
Gordon
, Appl. Phys. Lett.
82
, 2239
(2003
).2233.
A.
Rugge
, J. S.
Becker
, R. G.
Gordon
, and S. H.
Tolbert
, Nano Lett.
3
, 1293
(2003
).2234.
K. H.
Kim
, D. B.
Farmer
, J. S. M.
Lehn
, P. V.
Rao
, and R. G.
Gordon
, Appl. Phys. Lett.
89
, 133512
(2006
).2235.
C. L.
Dezelah
IV, O. M.
El-Kadri
, K.
Kukli
, K.
Arstila
, R. J.
Baird
, J.
Lu
, L.
Niinistö
, and C. H.
Winter
, J. Mater. Chem.
17
, 1109
(2007
).2236.
D.-H.
Kim
, Y. J.
Kim
, Y. S.
Song
, B.-T.
Lee
, J. H.
Kim
, S.
Suh
, and R.
Gordon
, J. Electrochem. Soc.
150
, C740
(2003
).2237.
W. X.
Zeng
, X. D.
Wang
, S.
Kumar
, D. W.
Peters
, and E. T.
Eisenbraun
, J. Mater. Res.
22
, 703
(2007
).2238.
T. W.
Scharf
, S. V.
Prasad
, T. M.
Mayer
, R. S.
Goeke
, and M. T.
Dugger
, J. Mater. Res.
19
, 3443
(2004
).2239.
T. W.
Scharf
, S. V.
Prasad
, M. T.
Dugger
, P. G.
Kotula
, R. S.
Goeke
, and R. K.
Grubbs
, Acta Mater.
54
, 4731
(2006
).2240.
T.
Aaltonen
, M.
Ritala
, V.
Sammelselg
, and M.
Leskelä
, J. Electrochem. Soc.
151
, G489
(2004
).2241.
E.
Färm
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
12
, 415
(2006
).2242.
T. A.
Walsh
, J. A.
Bur
, Y.-S.
Kim
, T.-M.
Lu
, and S.-Y.
Lin
, J. Opt. Soc. Am. B
26
, 1450
(2009
).2243.
S. T.
Christensen
and J. W.
Elam
, Chem. Mater.
22
, 2517
(2010
).2244.
D. J.
Comstock
, S. T.
Christensen
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and M. C.
Hersam
, Electrochem. Commun.
12
, 1543
(2010
).2245.
D. J.
Comstock
, S. T.
Christensen
, J. W.
Elam
, M. J.
Pellin
, and M. C.
Hersam
, Adv. Funct. Mater.
20
, 3099
(2010
).2246.
J.
Hämäläinen
, E.
Puukilainen
, M.
Kemell
, L.
Costelle
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
21
, 4868
(2009
).2247.
H.
Vuori
, R. J.
Silvennoinen
, M.
Lindblad
, H.
Österholm
, and A. O. I.
Krause
, Catal. Lett.
131
, 7
(2009
).2248.
S. W.
Kim
, S. H.
Kwon
, D. K.
Kwak
, and S. W.
Kang
, J. Appl. Phys.
103
, 023517
(2008
).2249.
S.-W.
Kim
, S.-H.
Kwon
, S.-J.
Jeong
, J.-S.
Park
, and S.-W.
Kang
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, H303
(2008
).2250.
J.
Hämäläinen
, T.
Hatanpää
, E.
Puukilainen
, L.
Costelle
, T.
Pilvi
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Chem.
20
, 7669
(2010
).2251.
S.
Choi
, Y. K.
Cha
, B. S.
Seo
, S.
Park
, J. H.
Park
, S.
Shin
, K. S.
Seol
, J. B.
Park
, Y. S.
Jung
, Y.
Park
, Y.
Park
, I. K.
Yoo
, and S. H.
Choi
, J. Phys. D: Appl. Phys.
40
, 1426
(2007
).2252.
J.
Hämäläinen
, M.
Kemell
, F.
Munnik
, U.
Kreissig
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
20
, 2903
(2008
).2253.
T.
Aaltonen
, M.
Ritala
, T.
Sajavaara
, J.
Keinonen
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
15
, 1924
(2003
).2254.
R.
Chen
and S. F.
Bent
, Adv. Mater.
18
, 1086
(2006
).2255.
Y.
Zhu
, K. A.
Dunn
, and A. E.
Kaloyeros
, J. Mater. Res.
22
, 1292
(2007
).2256.
X.
Jiang
and S. F.
Bent
, J. Electrochem. Soc.
154
, D648
(2007
).2257.
X.
Jiang
, H.
Huang
, F. B.
Prinz
, and S. F.
Bent
, Chem. Mater.
20
, 3897
(2008
).2258.
J. S.
King
, A.
Wittstock
, J.
Biener
, S. O.
Kucheyev
, Y. M.
Wang
, T. F.
Baumann
, S. K.
Giri
, A. V.
Hamza
, M.
Baeumer
, and S. F.
Bent
, Nano Lett.
8
, 2405
(2008
).2259.
W. M. M.
Kessels
, H. C. M.
Knoops
, S. A. F.
Dielissen
, A. J. M.
Mackus
, and M. C. M.
van de Sanden
, Appl. Phys. Lett.
95
, 013114
(2009
).2260.
H. C. M.
Knoops
, A. J. M.
Mackus
, M. E.
Donders
, M. C. M.
van de Sanden
, P. H. L.
Notten
, and W. M. M.
Kessels
, Electrochem. Solid-State Lett.
12
, G34
(2009
).2261.
C.
Liu
, C.-C.
Wang
, C.-C.
Kei
, Y.-C.
Hsueh
, and T.-P.
Perng
, Small
5
, 1535
(2009
).2262.
S. T.
Christensen
, J. W.
Elam
, F. A.
Rabuffetti
, Q.
Ma
, S. J.
Weigand
, B.
Lee
, S.
Seifert
, P. C.
Stair
, K. R.
Poeppelmeier
, M. C.
Hersam
, and M. J.
Bedzyk
, Small
5
, 750
(2009
).2263.
S. T.
Christensen
, J. W.
Elam
, B.
Lee
, Z.
Feng
, M. J.
Bedzyk
, and M. C.
Hersam
, Chem. Mater.
21
, 516
(2009
).2264.
J.
Li
, X.
Liang
, D. M.
King
, Y.-B.
Jiang
, and A. W.
Weimer
, Appl. Catal. B
97
, 220
(2010
).2265.
A. J. M.
Mackus
, J. J. L.
Mulders
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Appl. Phys.
107
, 116102
(2010
).2266.
W.
Setthapun
, W. D.
Williams
, S. M.
Kim
, H.
Feng
, J. W.
Elam
, F. A.
Rabuffetti
, K. R.
Poeppelmeier
, P. C.
Stair
, E. A.
Stach
, F. H.
Ribeiro
, J. T.
Miller
, and C. L.
Marshall
, J. Phys. Chem. C
114
, 9758
(2010
).2267.
J. H.
Shim
, X.
Jiang
, S. F.
Bent
, and F. B.
Prinz
, J. Electrochem. Soc.
157
, B793
(2010
).2268.
S.
Novak
, B.
Lee
, X.
Yang
, and V.
Misra
, J. Electrochem. Soc.
157
, H589
(2010
).2269.
Y.
Zhou
, D. M.
King
, X.
Liang
, J.
Li
, and A. W.
Weimer
, Appl. Catal., B
101
, 54
(2010
).2270.
Y.-H.
Lin
, Y.-C.
Hsueh
, P.-S.
Lee
, C.-C.
Wang
, J.-R.
Chen
, J.-M.
Wu
, T.-P.
Perng
, and H. C.
Shih
, J. Electrochem. Soc.
157
, K206
(2010
).2271.
M. N.
Mullings
, H. -B.-R.
Lee
, N.
Marchack
, X.
Jiang
, Z.
Chen
, Y.
Gorlin
, K.-P.
Lin
, and S. F.
Bent
, J. Electrochem. Soc.
157
, D600
(2010
).2272.
R. R.
Hoover
and Y. V.
Tolmachev
, J. Electrochem. Soc.
156
, A37
(2009
).2273.
J.
Hämäläinen
, F.
Munnik
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
20
, 6840
(2008
).2274.
T.
Watanabe
, S.
Hoffmann-Eifert
, S. B.
Mi
, C. L.
Jia
, R.
Waser
, and C. S.
Hwang
, J. Appl. Phys.
101
, 014114
(2007
).2275.
J.
Harjuoja
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
497
, 77
(2006
).2276.
H. J.
Lee
, G. H.
Kim
, K.
Lee
, and C. S.
Hwang
, Electrochem. Solid-State Lett.
10
, G89
(2007
).2277.
M.
Leskelä
, L.
Niinistö
, P.
Niemelä
, E.
Nykänen
, P.
Soininen
, M.
Tiitta
, and J.
Vähäkangas
, Vacuum
41
, 1457
(1990
).2278.
E.
Nykänen
, J.
Laine-Ylijoki
, P.
Soininen
, L.
Niinistö
, M.
Leskelä
, and L. G.
Hubert-Pfalzgraf
, J. Mater. Chem.
4
, 1409
(1994
).2279.
N. P.
Dasgupta
, W.
Lee
, and F. B.
Prinz
, Chem. Mater.
21
, 3973
(2009
).2280.
W.
Lee
, N. P.
Dasgupta
, H. J.
Jung
, J.-R.
Lee
, R.
Sinclair
, and F. B.
Prinz
, Nanotechnology
21
, 485402
(2010
).2281.
W.
Lee
, N. P.
Dasgupta
, O.
Trejo
, J.-R.
Lee
, J.
Hwang
, T.
Usui
, and F. B.
Prinz
, Langmuir
26
, 6845
(2010
).2282.
M.
Vehkamäki
, T.
Hatanpää
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, J. Mater. Chem.
14
, 3191
(2004
).2283.
T.
Hatanpää
, M.
Vehkamäki
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Dalton Trans.
39
, 3219
(2010
).2284.
M.
Nieminen
, T.
Sajavaara
, E.
Rauhala
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
11
, 2340
(2001
).2285.
B. S.
Lim
, A.
Rahtu
, P.
de Rouffignac
, and R. G.
Gordon
, Appl. Phys. Lett.
84
, 3957
(2004
).2286.
Z. M.
Rittersma
, F.
Roozeboom
, M. A.
Verheijen
, J. G. M.
van Berkum
, T.
Dao
, J. H. M.
Snijders
, E.
Vainonen-Ahlgren
, E.
Tois
, M.
Tuominen
, and S.
Haukka
, J. Electrochem. Soc.
151
, C716
(2004
).2287.
P.
Myllymäki
, M.
Roeckerath
, J. M. J.
Lopes
, J.
Schubert
, K.
Mizohata
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
20
, 4207
(2010
).2288.
P.
Myllymäki
, M.
Nieminen
, J.
Niinistö
, M.
Putkonen
, K.
Kukli
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
16
, 563
(2006
).2289.
M.
Vehkamäki
, T.
Hatanpää
, T.
Hänninen
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Electrochem. Solid-State Lett.
2
, 504
(1999
).2290.
S. W.
Lee
, O. S.
Kwon
, J. H.
Han
, and C. S.
Hwang
, Appl. Phys. Lett.
92
, 22903
(2008
).2291.
M.
Vehkamäki
, T.
Hatanpää
, M.
Kemell
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Chem. Mater.
18
, 3883
(2006
).2292.
J.
Harjuoja
, A.
Kosola
, M.
Putkonen
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
496
, 346
(2006
).2293.
G. W.
Hwang
, H. J.
Lee
, K.
Lee
, and C. S.
Hwang
, J. Electrochem. Soc.
154
, G69
(2007
).2294.
M.
Nieminen
, S.
Lehto
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
11
, 3148
(2001
).2295.
J.
Harjuoja
, S.
Väyrynen
, M.
Putkonen
, L.
Niinistö
, and E.
Rauhala
, Appl. Surf. Sci.
253
, 5228
(2007
).2296.
M.
Roeckerath
, T.
Heeg
, J.
Lopes
, J.
Schubert
, S.
Mantl
, A.
Besmehn
, P.
Myllymäki
, and L.
Niinistö
, Thin Solid Films
517
, 201
(2008
).2297.
M.
Vehkamäki
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, A. C.
Jones
, H. O.
Davies
, T.
Sajavaara
, and E.
Rauhala
, J. Electrochem. Soc.
151
, F69
(2004
).2298.
H.
Otoma
, T.
Honda
, K.
Hara
, J.
Yoshino
, and H.
Kukimoto
, J. Cryst. Growth
115
, 807
(1991
).2299.
O. S.
Kwon
, S. K.
Kim
, M.
Cho
, C. S.
Hwang
, and J.
Jeong
, J. Electrochem. Soc.
152
, C229
(2005
).2300.
T.
Hatanpää
, M.
Vehkamäki
, I.
Mutikainen
, J.
Kansikas
, M.
Ritala
, and M.
Leskelä
, Dalton Trans.
1181
(2004
).2301.
M.
Schuisky
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, A.
Hårsta
, and M.
Leskelä
, Chem. Vap. Deposition
6
, 139
(2000
).2302.
G. W.
Hwang
, W. D.
Kim
, Y. S.
Min
, and C. S.
Hwang
, J. Electrochem. Soc.
153
, F20
(2006
).2303.
B. A.
Latella
, G.
Triani
, and P. J.
Evans
, Scr. Mater.
56
, 493
(2007
).2304.
H. C.
Lin
, P. D.
Ye
, and G. D.
Wilk
, Appl. Phys. Lett.
87
, 182904
(2005
).2305.
G.
Scarel
, G. K.
Hyde
, D.
Hojo
, and G. N.
Parsons
, J. Appl. Phys.
104
, 094314
(2008
).2306.
C.
Lee
, S. Y.
No
, N. I.
Eom
, C. S.
Hwang
, and H. J.
Kim
, J. Electron. Mater.
34
, 1104
(2005
).2307.
R.
Bankras
, J.
Holleman
, J.
Schmitz
, M.
Sturm
, A.
Zinine
, H.
Wormeester
, and B.
Poelsema
, Chem. Vap. Deposition
12
, 275
(2006
).2308.
J.
Song
, H. C.
Oh
, T. J.
Park
, C. S.
Hwang
, S. -H. K.
Park
, S. M.
Yoon
, and C.-S.
Hwang
, J. Electrochem. Soc.
155
, H858
(2008
).2309.
M.
Avice
, U.
Grossner
, I.
Pintilie
, B. G.
Svensson
, M.
Servidori
, R.
Nipoti
, O.
Nilsen
, and H.
Fjellvåg
, J. Appl. Phys.
102
, 054513
(2007
).2310.
R.
Katamreddy
, B.
Feist
, and C.
Takoudis
, J. Electrochem. Soc.
155
, G163
(2008
).2311.
P.
Ardalan
, E. R.
Pickett
, J. S.
Harris
, A. F.
Marshall
, and S. F.
Bent
, Appl. Phys. Lett.
92
, 252902
(2008
).2312.
H. E.
Cheng
, W. J.
Lee
, C. M.
Hsu
, M. H.
Hon
, and C. L.
Huang
, Electrochem. Solid-State Lett.
11
, D81
(2008
).2313.
S. H.
Vilhunen
and M. E. T.
Sillanpää
, Water Sci. Technol.
60
, 2471
(2009
).2314.
S.
Won
, S.
Go
, W.
Lee
, K.
Jeong
, H.
Jung
, C.
Lee
, E.
Lee
, and J.
Lee
, Met. Mater. Int.
14
, 759
(2008
).2315.
B. J.
Choi
, D. S.
Jeong
, S. K.
Kim
, C.
Rohde
, S.
Choi
, J. H.
Oh
, H. J.
Kim
, C. S.
Hwang
, K.
Szot
, R.
Waser
, B.
Reichenberg
, and S.
Tiedke
, J. Appl. Phys.
98
, 033715
(2005
).2316.
M.-K.
Wu
, M.-J.
Chen
, F.-Y.
Tsai
, J.-R.
Yang
, and M.
Shiojiri
, Mater. Trans.
51
, 253
(2010
).2317.
A. B. F.
Martinson
, J. W.
Elam
, J. T.
Hupp
, and M. J.
Pellin
, Nano Lett.
7
, 2183
(2007
).2318.
Q. Q.
Sun
, C.
Zhang
, L.
Dong
, Y.
Shi
, S. J.
Ding
, and D. W.
Zhang
, J. Appl. Phys.
103
, 114102
(2008
).2319.
J. M.
Gaskell
, A. C.
Jones
, K.
Black
, P. R.
Chalker
, T.
Leese
, A.
Kingsley
, R.
Odedra
, and P. N.
Heys
, Surf. Coat. Technol.
201
, 9095
(2007
).2320.
K.
Kukli
, M.
Ritala
, T.
Pilvi
, T.
Aaltonen
, J.
Aarik
, M.
Lautala
, and M.
Leskelä
, Mater. Sci. Eng., B
118
, 112
(2005
).2321.
K.
Kukli
, J.
Aarik
, M.
Ritala
, T.
Uustare
, T.
Sajavaara
, J.
Lu
, J.
Sundqvist
, A.
Aidla
, L.
Pung
, A.
Hårsta
, and M.
Leskelä
, J. Appl. Phys.
97
, 099903
(2005
).2322.
Y.-S.
Lin
, R.
Puthenkovilakam
, and J. P.
Chang
, Appl. Phys. Lett.
81
, 2041
(2002
).2323.
Y.
Wang
, M. T.
Ho
, L. V.
Goncharova
, L. S.
Wielunski
, S.
Rivillon-Amy
, Y. J.
Chabal
, T.
Gustafsson
, N.
Moumen
, and M.
Boleslawski
, Chem. Mater.
19
, 3127
(2007
).2324.
C. M.
Tanner
, J.
Lu
, H.-O.
Blom
, and J. P.
Chang
, Mater. Res. Soc. Symp. Proc.
911
, 341
(2006
).2325.
S.
Dueñas
, H.
Castán
, H.
García
, L.
Bailón
, K.
Kukli
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, M.
Rooth
, O.
Wilhelmsson
, and A.
Hårsta
, J. Appl. Phys.
100
, 094107
(2006
).2326.
D. P.
Thompson
, A. M.
Dickins
, and J. S.
Thorp
, J. Mater. Sci.
27
, 2267
(1992
).2327.
2328.
J. M.
Leger
, P. E.
Tomaszewski
, A.
Atouf
, and A. S.
Pereira
, Phys. Rev. B
47
, 14075
(1993
).2329.
2330.
R. C.
Garvie
and M. F.
Goss
, J. Mater. Sci.
21
, 1253
(1986
).2331.
A.
Christensen
and E. A.
Carter
, Phys. Rev. B
58
, 8050
(1998
).2332.
R.
Srinivasan
, T.
Watkins
, C.
Hubbard
, and B. H.
Davis
, Chem. Mater.
7
, 725
(1995
).2333.
H. M.
Cheng
, L. J.
Wu
, J. M.
Ma
, Z. G.
Zhao
, and L. M.
Qi
, J. Mater. Sci. Lett.
15
, 895
(1996
).2334.
M.
Amberg
and J. R.
Günter
, Solid State Ionics
84
, 313
(1996
).2335.
X.
Bokhimi
, A.
Morales
, O.
Novaro
, T.
López
, R.
Gómez
, T.
Xiao
, and P.
Strutt
, Nanostruct. Mater.
12
, 593
(1999
).2336.
S.
Roy
and J.
Ghose
, Mater. Res. Bull.
35
, 1195
(2000
).2337.
P.
Bouvier
, E.
Djurado
, C.
Ritter
, A. J.
Dianoux
, and G.
Lucazeau
, Int. J. Inorg. Mater.
3
, 647
(2001
).2338.
S.
Tsunekawa
, K.
Asami
, S.
Ito
, M.
Yashima
, and T.
Sugimoto
, Appl. Surf. Sci.
252
, 1651
(2005
).2339.
C.-H.
Lu
, J. M.
Raitano
, S.
Khalid
, L.
Zhang
, and S.-W.
Chan
, J. Appl. Phys.
103
, 124303
(2008
).2340.
P. E. D.
Morgan
, J. Am. Ceram. Soc.
67
, C204
(1984
).2341.
J. C.
Valmalette
and M.
Isa
, Chem. Mater.
14
, 5098
(2002
).2342.
E. H.
Kisi
and C. J.
Howard
, J. Am. Ceram. Soc.
72
, 1757
(1989
).2343.
S.
Ram
and A.
Mondal
, Phys. Status Solidi A
201
, 696
(2004
).2344.
J. P.
Holgado
, J. P.
Espins
, F.
Yubero
, A.
Justo
, M.
Ocaa
, J.
Bentez
, and A. R.
Gonzlez-Elipe
, Thin Solid Films
389
, 34
(2001
).2345.
S.
Shukla
, S.
Seal
, R.
Vij
, S.
Bandyopadhyay
, and Z.
Rahman
, Nano Lett.
2
, 989
(2002
).2346.
S.
Li
, W.
Zheng
, and Q.
Jiang
, Scr. Mater.
54
, 2091
(2006
).2347.
M.
Putkonen
, T.
Sajavaara
, J.
Niinistö
, L.-S.
Johansson
, and L.
Niinistö
, J. Mater. Chem.
12
, 442
(2002
).2348.
K.
Jinesh
, Y.
Lamy
, E.
Tois
, R.
Forti
, M.
Kaiser
, F.
Bakker
, H.
Wondergem
, W.
Besling
, and F.
Roozeboom
, J. Mater. Res.
25
, 1629
(2010
).2349.
C. M.
Perkins
, B. B.
Triplett
, P. C.
McIntyre
, K. C.
Saraswat
, S.
Haukka
, and M.
Tuominen
, Appl. Phys. Lett.
78
, 2357
(2001
).2350.
E.
Wisotzki
, A. G.
Balogh
, H.
Hahn
, J. T.
Wolan
, and G. B.
Hoflund
, J. Vac. Sci. Technol. A
17
, 14
(1999
).2351.
U.
Ozgur
, Y. I.
Alivov
, C.
Liu
, A.
Teke
, M. A.
Reshchikov
, S.
Dogan
, V.
Avrutin
, S.-J.
Cho
, and H.
Morkoc
, J. Appl. Phys.
98
, 041301
(2005
).2352.
J. Q.
Xu
, Q. Y.
Pan
, Y. A.
Shun
, and Z. Z.
Tian
, Sens. Actuators B
66
, 277
(2000
).2353.
Wang
, J.
Zhou
, Song
, J.
Liu
, N.
Xu
, and Z. L.
Wang
, Nano Lett.
6
, 2768
(2006
).2354.
B.
Mazumder
and A. L.
Hector
, J. Mater. Chem.
19
, 4673
(2009
).2355.
2356.
S. H.
Kim
, J. K.
Kim
, N.
Kwak
, H.
Sohn
, J.
Kim
, S. H.
Jung
, M. R.
Hong
, S. H.
Lee
, and J.
Collins
, Electrochem. Solid-State Lett.
9
, C54
(2006
).2357.
H.
Tiznado
, M.
Bouman
, B.-C.
Kang
, I.
Lee
, and F.
Zaera
, J. Mol. Catal. A: Chem.
281
, 35
–43
(2008
).2358.
M.
Juppo
, P.
Alén
, A.
Rahtu
, and M.
Ritala
, Chem. Vap. Deposition
5
, 211
(2001
).2359.
H.
Van Bui
, A. W.
Groenland
, A. A. I.
Aarnink
, R. A. M.
Wolters
, J.
Schmitz
, and A. Y.
Kovalgina
, J. Electrochem. Soc.
158
, H214
(2011
).2360.
S.
Logothetidis
, E. I.
Meletis
, G.
Stergioudis
, and A. A.
Adjaottor
, Thin Solid Films
338
, 304
(1999
).2361.
C.
Ernsberger
, J.
Nickerson
, and T.
Smith
, J. Vac. Sci. Technol. A
4
, 2784
(1986
).2362.
T.
Suntola
and J.
Antson
, Finnish patent 52,359 (10 September, 1977
).2363.
R.
Törnqvist
and S.
Korpela
, J. Cryst. Growth
59
, 395
(1982
).2364.
M.
Tammenmaa
, M.
Leskelä
, T.
Koskinen
, and L.
Niinistö
, J. Less-Common Met.
126
, 209
(1986
).2365.
M.
Leskelä
and M.
Tammenmaa
, Mater. Chem. Phys.
16
, 349
(1987
).2366.
R. B.
Yang
, N.
Zakharov
, O.
Moutanabbir
, K.
Scheerschmidt
, L.-M.
Wu
, U.
Gösele
, J.
Bachmann
, and K.
Nielsch
, J. Am. Chem. Soc.
132
, 7592
(2010
).2367.
M.
Leskelä
and L.
Niinistö
, in Atomic Layer Epitaxy
, edited by T.
Suntola
and M.
Simpson
(Blackie and Son
, London
, 1990
), pp. 1
–39
.2368.
J. T.
Tanskanen
, J. R.
Bakke
, T. A.
Pakkanen
, and S. F.
Bent
, J. Vac. Sci. Technol. A
29
, 031507
–1
(2011
).2369.
L.
Hiltunen
, M.
Leskelä
, M.
Mäkelä
, and L.
Niinistö
, Acta Chem. Scand., Ser. A
41
, 548
(1987
).2370.
V.-P.
Tanninen
, M.
Oikkonen
, and T. O.
Tuomi
, Phys. Status Solidi A
67
, 573
(1981
).2371.
V.-P.
Tanninen
, M.
Oikkonen
, and T.
Tuomi
, Thin Solid Films
109
, 283
(1983
).2372.
P.
Jaszczyn-Kopec
, J.
Pinceaux
, M.
Zigone
, J.
Kennedy
, and A.
Stadtmuller
, Solid State Commun.
32
, 473
(1979
).2373.
D.
Theis
, H.
Oppolzer
, G.
Ebbinghaus
, and S.
Schild
, J. Cryst. Growth
63
, 47
(1983
).2374.
T.
Törndahl
, J.
Lu
, M.
Ottosson
, and J. O.
Carlsson
, J. Cryst. Growth
276
, 102
(2005
).2375.
G. A.
Ten Eyck
, J. J.
Senkevich
, F.
Tang
, D.
Liu
, S.
Pimanpang
, T.
Karaback
, G.-C.
Wang
, T.-M.
Lu
, C.
Jezewski
, and W. A.
Lanford
, Chem. Vap. Deposition
11
, 60
(2005
).2376.
D.
Seghete
, G. B.
Rayner
, Jr., A. S.
Cavanagh
, V. R.
Anderson
, and S. M.
George
, Chem. Mater.
23
, 1668
(2011
).2377.
2378.
T.
Pilvi
, “Atomic layer deposition for optical applications: metal fluoride thin films and novel devices
,” Ph.D. dissertation (University of Helsinki
, 2008
).2379.
H. B.
Profijt
, P.
Kudlacek
, M. C. M.
van de Sanden
, and W. M. M.
Kessels
, J. Electrochem. Soc.
158
, G88
(2011
).2380.
O.
Nilsen
, C. E.
Mohn
, A.
Kjekshus
, and H.
Fjellvåg
, J. Appl. Phys.
102
, 024906
(2007
).2381.
R. L.
Puurunen
, Chem. Vap. Deposition
11
, 79
(2005
).2382.
A. B.
Mukhopadhyay
and C. B.
Musgrave
, Chem. Phys. Lett.
421
, 215
(2006
).2383.
V.
Pore
, M.
Ritala
, M.
Leskelä
, T.
Saukkonen
, and M.
Järn
, Cryst. Growth Des.
9
, 2974
(2009
).2384.
A.
Martin Hoyas
, J.
Schuhmacher
, D.
Shamiryan
, J.
Waeterloos
, W.
Besling
, J. P.
Celis
, and K.
Maex
, J. Appl. Phys.
95
, 381
(2004
).2385.
W.
Koh
, D.
Kumar
, W. M.
Li
, H.
Sprey
, and I. J.
Raaijmakers
, Solid State Technol.
48
, 54
(2005
).2386.
A.
Martin Hoyas
, C.
Whelan
, J.
Schuhmacher
, K.
Maex
, and J. P.
Celis
, Microelectron. Eng.
83
, 2068
(2006
).2387.
A.
Martin Hoyas
, Y.
Travaly
, J.
Schuhmacher
, T.
Sajavaara
, C. M.
Whelan
, B.
Eyckens
, O.
Richard
, S.
Giangrandi
, B.
Brijs
, W.
Vandervorst
, K.
Maex
, J. P.
Celis
, A. M.
Jonas
, and A.
Vantomme
, J. Appl. Phys.
99
, 063515
(2006
).2388.
A.
Martin Hoyas
, J.
Schuhmacher
, C. M.
Whelan
, T. F.
Landaluce
, D.
Vanhaeren
, K.
Maex
, and J. P.
Celis
, J. Appl. Phys.
100
, 114903
(2006
).2389.
H.
Volders
, Z.
Tokei
, H.
Bender
, Bender
B. Brijs
, R.
Caluwaerts
, L.
Carbonell
, T.
Conard
, C.
Drijbooms
, A.
Franquet
, S.
Garaud
, I.
Hoflijk
, A.
Moussa
, F.
Sinapi
, Y.
Travaly
, D.
Vanhaeren
, G.
Vereecke
, C.
Zhao
, W.-M.
Li
, H.
Sprey
, and A. M.
Jonas
, Microlectron. Eng.
84
, 2460
(2007
).© 2013 American Institute of Physics.
2013
American Institute of Physics
You do not currently have access to this content.
