We have developed an organic thin-film transistor (TFT) technology that aims at providing a good balance of static and dynamic performance parameters. An inverted staggered (bottom-gate, top-contact) device structure with patterned metal gates, a room-temperature-deposited gate dielectric providing a capacitance of , and vacuum-deposited pentacene as the semiconductor were employed. The TFTs have a channel length of , a carrier mobility of , an on/off current ratio of , a subthreshold swing of /decade, and a transconductance per channel width of . Ring oscillators operate with supply voltages as low as and with signal propagation delays as low as per stage.
REFERENCES
1.
T. W.
Kelley
, L. D.
Boardman
, T. D.
Dunbar
, D. V.
Muyres
, M. J.
Pellerite
, and T. P.
Smith
, J. Phys. Chem. B
107
, 5877
(2003
).2.
S.
Lee
, B.
Koo
, J.
Shin
, E.
Lee
, H.
Park
, and H.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
88
, 162109
(2006
).3.
D. J.
Gundlach
, T. N.
Jackson
, D. G.
Schlom
, and S. F.
Nelson
, Appl. Phys. Lett.
74
, 3302
(1999
).4.
D. J.
Gundlach
, L.
Zhou
, J. A.
Nichols
, T. N.
Jackson
, P. V.
Necliudov
, and M. S.
Shur
, J. Appl. Phys.
100
, 024509
(2006
).5.
6.
G. S.
Tulevski
, Q.
Miao
, A.
Afzali
, T. O.
Graham
, C. R.
Kagan
, and C.
Nuckolls
, J. Am. Chem. Soc.
128
, 1788
(2006
).7.
J.
Collet
, O.
Tharaud
, A.
Chapoton
, and D.
Vuillaume
, Appl. Phys. Lett.
76
, 1941
(2000
).8.
Y.
Zhang
, J. R.
Petta
, S.
Ambily
, Y.
Shen
, D. C.
Ralph
, and G. G.
Malliaras
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
15
, 1632
(2003
).9.
L.
Wang
, D.
Fine
, T.
Jung
, D.
Basu
, H.
von Seggern
, and A.
Dodabalapur
, Appl. Phys. Lett.
85
, 1772
(2004
).10.
J.
Lee
, P. C.
Chang
, J. A.
Liddle
, and V.
Subramanian
, IEEE Trans. Electron Devices
52
, 1874
(2005
).11.
H.
Klauk
, U.
Zschieschang
, J.
Pflaum
, and M.
Halik
, Nature (London)
445
, 745
(2007
).12.
E. J.
Meijer
, C.
Tanase
, P. W. M.
Blom
, E.
van Veenendaal
, B. H.
Huisman
, D. M.
de Leeuw
, and T. M.
Klapwijk
, Appl. Phys. Lett.
80
, 3838
(2002
).13.
R. T.
Weitz
, U.
Zschieschang
, F.
Effenberger
, H.
Klauk
, M.
Burghard
, and K.
Kern
, Nano Lett.
7
, 22
(2007
).14.
L. A.
Majewski
, R.
Schroeder
, and M.
Grell
, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.)
17
, 192
(2005
).15.
M.
McDowell
, I. G.
Hill
, J. E.
McDermott
, S. L.
Bernasek
, and J.
Schwartz
, Appl. Phys. Lett.
88
, 073505
(2006
).16.
H. W.
Zan
, K. H.
Yen
, P. K.
Liu
, K. H.
Ku
, C. H.
Chen
, and J.
Hwang
, Org. Electron.
8
, 450
(2007
).17.
H.
Klauk
, G.
Schmid
, W.
Radlik
, W.
Weber
, L.
Zhou
, C. D.
Sheraw
, J. A.
Nichols
, and T. N.
Jackson
, Solid-State Electron.
47
, 297
(2003
).18.
G. H.
Gelinck
, G. H.
Gelinck
, H. E. A.
Huitema
, E.
van Veenendaal
, E.
Cantatore
, L.
Schrijnemakers
, J. B. P. H.
van der Putten
, T. C. T.
Geuns
, M.
Beenhakkers
, J. B.
Giesbers
, B. H.
Huisman
, E. J.
Meijer
, E. M.
Benito
, F. J.
Touwslager
, A. W.
Marsman
, B. J. E.
van Rens
, and D. M.
de Leeuw
, Nat. Mater.
3
, 106
(2004
).19.
G. H.
Gelinck
, T. C. T.
Geuns
, and D. M.
de Leeuw
, Appl. Phys. Lett.
77
, 1487
(2000
).20.
M. G.
Kane
, J.
Campi
, M. S.
Hammond
, F. P.
Cuomo
, B.
Greening
, C. D.
Sheraw
, J. A.
Nichols
, D. J.
Gundlach
, J. R.
Huang
, C. C.
Kuo
, L.
Jia
, H.
Klauk
, and T. N.
Jackson
, IEEE Electron Device Lett.
21
, 534
(2000
).21.
B. K.
Crone
, A.
Dodabalapur
, R.
Sarpeshkar
, R. W.
Filas
, Y. Y.
Lin
, Z.
Bao
, J. H.
O’Neill
, W.
Li
, and H. E.
Katz
, J. Appl. Phys.
89
, 5125
(2001
).22.
W.
Fix
, A.
Ullmann
, J.
Ficker
, and W.
Clemens
, Appl. Phys. Lett.
81
, 1735
(2002
).23.
P.
Baude
, D. A.
Ender
, M. A.
Haase
, T. W.
Kelley
, D. V.
Muyres
, and S. D.
Theiss
, Appl. Phys. Lett.
82
, 3964
(2003
).24.
T. D.
Anthopoulos
, D. M.
de Leeuw
, E.
Cantatore
, P.
van ‘t Hof
, J.
Alma
, and J. C.
Hummelen
, J. Appl. Phys.
98
, 054503
(2005
).25.
H.
Klauk
, M.
Halik
, U.
Zschieschang
, F.
Eder
, D.
Rohde
, G.
Schmid
, and C.
Dehm
, IEEE Trans. Electron Devices
52
, 618
(2005
).26.
S. H.
Han
, S. M.
Cho
, J. H.
Kim
, J. W.
Choi
, J.
Jang
, and M. H.
Oh
, Appl. Phys. Lett.
89
, 093504
(2006
).27.
T. D.
Anthopoulos
, B.
Singh
, N.
Marjanovic
, N. S.
Sariciftci
, A.
Montaigne Ramil
, H.
Sitter
, M.
Cölle
, and D. M.
de Leeuw
, Appl. Phys. Lett.
89
, 213504
(2006
).28.
C.
Rolin
, S.
Steudel
, K.
Myny
, D.
Cheyns
, S.
Verlaak
, J.
Genoe
, and P.
Heremans
, Appl. Phys. Lett.
89
, 203502
(2006
).29.
B.
Yoo
, T.
Jung
, D.
Basu
, A.
Dodabalapur
, B. A.
Jones
, A.
Facchetti
, M. R.
Wasielewski
, and T. J.
Marks
, Appl. Phys. Lett.
88
, 082104
(2006
).30.
M.
Kitamura
and Y.
Arakawa
, Appl. Phys. Lett.
91
, 053505
(2007
).© 2007 American Institute of Physics.
2007
American Institute of Physics
You do not currently have access to this content.