Wrinkle free few layer graphene was demonstrated by a graphitization of 4H-SiC substrates using a high power pulsed KrF laser. Wrinkles often observed after thermal graphitization were eliminated with a short heat cycle using a pulse laser anneal. Few layer graphene formed by the laser graphitization appears to have a non-Bernal stack, which leads to on-off ratio of ∼2 even at a few layer graphene. Drive current of 143 μA/μm was obtained at Vd = 100 mV and field effect mobility was 374 cm2/Vs.

1.
M.
Orlita
,
C.
Faugeras
,
P.
Plochocka
,
P.
Neugebauer
,
G.
Martines
,
D. K.
Maude
,
A.-L.
Barra
, and
M.
Potemski
,
Phys. Rev. Lett.
101
(
26
),
267601
(
2008
).
2.
J.
Kedzierski
,
P.-L.
Hsu
,
P.
Healey
,
P. W.
Wyatt
,
C. L.
Keast
,
M.
Sprinkle
,
C.
Berger
, and
W. A.
de Heer
,
IEEE Trans. Electron Devices
55
(
8
),
2078
(
2008
).
3.
Y.-M.
Lin
,
C.
Dimitrakopoulos
,
K. A.
Jenkins
,
D. B.
Farmer
,
H.-Y.
Chiu
,
A.
Grill
, and Ph. Avouris,
Science
327
(
5966
),
662
(
2010
).
4.
X.
Li
,
X.
Wu
,
M.
Sprinkle
,
F.
Ming
,
M.
Ruan
,
Y.
Hu
,
C.
Berger
, and
W. A.
de Heer
,
Phys. Status Solidi A
207
(
2
),
286
(
2010
).
5.
K. S.
Kim
,
Y.
Zhao
,
H.
Jang
,
S. T.
Lee
,
J. M.
Kim
,
K. S.
Kim
,
J.-H.
Ahn
, and
B. H.
Hong
,
Nature
457
(
7230
),
706
(
2009
).
6.
X.
Li
,
W.
Cai
,
J.
An
,
S.
Kim
,
J.
Nah
,
D.
Yang
,
R.
Piner
, and
R. S.
Ruoff
,
Science
324
(
5932
),
1312
(
2009
).
7.
S.
Unarunotai
,
J. C.
Koepke
,
C.-L.
Tsai
,
F.
Du
,
C. E.
Chialvo
,
Y.
Murata
,
R.
Haasch
, and
J. A.
Rogers
,
ACS Nano
4
(
10
),
5591
(
2010
).
8.
M.
Reiche
,
Phys. Status Solidi A
203
(
4
),
747
(
2006
).
9.
J. S.
Moon
,
D.
Curtis
,
M.
Hu
,
D.
Wong
,
C.
McGuire
,
P. M.
Campbell
,
G.
Jernigan
, and
D. K.
Gaskill
,
IEEE Electron Device Lett.
30
(
6
),
650
(
2009
).
10.
M.
Hupalo
,
E. H.
Conrad
, and
M. C.
Tringides
,
Phys. Rev. B
80
,
041401
R
(
2009
).
11.
K. V.
Emtsev
,
F.
Speck
,
Th.
Seyller
,
L.
Ley
, and
J. D.
Riley
,
Phys. Rev. B
77
,
155303
(
2008
).
12.
A.
Querghi
,
A.
Kahouli
,
D.
Lucot
,
M.
Portail
,
L.
Travers
,
J.
Gierak
,
P.
Penuelas
,
P.
Jegou
,
T.
Chassagne
, and
M.
Zielinski
,
Appl, Phys. Lett.
96
,
191910
(
2010
).
13.
K. V.
Emtsev
,
A.
Bostwick
,
K.
Horn
,
J.
Jobst
,
G. L.
Kellogg
,
L.
Ley
,
J. L.
McChesney
, and
T.
Seyller
,
Nature Mater.
8
(
3
),
203
(
2009
).
14.
G.
Prakash
,
M. A.
Capano
,
M. L.
Bolen
,
D.
Zemlyanov
, and
R. G.
Reifenberger
,
Carbon
48
(
9
),
2383
(
2010
).
15.
S. K.
Lim
,
C. H.
Cho
,
S. Y.
Lee
,
H. J.
Hwang
,
C. G.
Kang
,
Y. G.
Lee
,
J.
Ahn
, and
B. H.
Lee
, in Ext. Abs. of Solid State Devices and Materials (
2010
), p.
591
.
16.
S. W.
Lee
,
M. F.
Toney
,
W.
Ko
,
J. C.
Randel
,
H. J.
Jung
,
K.
Munakata
,
J.
Lu
,
T. H.
Geballe
,
M. R.
Beasley
,
R.
Sinclair
,
H. C.
Manoharan
, and
A.
Salleo
,
ACS Nano.
4
(
12
),
7524
(
2010
).
17.
Y. G.
Lee
,
C. G.
Kang
,
S. K.
Lee
,
K. J.
Choi
,
C. H.
Cho
,
H. J.
Hwang
,
S. Y.
Lee
,
S. K.
Lim
,
U. J.
Jung
, and
B. H.
Lee
, in Ext. Abs. of International Workshop on Dielectric Thin Film, (
2011
), p.
21
.
18.
M.
Lafkioti
,
B.
Krauss
,
T.
Lohmann
,
U.
Zschieschang
,
H.
Klauk
,
K. V.
Klitzing
, and
J. H.
Smet
,
Nano Lett.
10
(
4
),
1149
(
2010
).
19.
H. D. S.
Lee
,
C.
Riedl
,
B.
Krauss
,
K. V.
Klitzing
,
U.
Starke
, and
J. H.
Smet
,
Nano Lett.
8
(
12
),
4320
(
2008
).
20.
A. C.
Ferrari
,
J. C.
Meyer
,
V.
Scardaci
,
C.
Casiraghi
,
M.
Lazzeri
,
F.
Mauri
,
S.
Piscanec
, and
A. K.
Geim
,
Phys. Rev. Lett.
97
(
18
),
187401
(
2006
).
21.
A. C.
Ferrari
,
Solid. State Commun.
143
,
47
(
2007
).
22.
S. E.
Bryan
,
Y.
Yang
, and
R.
Murali
,
J. Phys. Chem. C
115
,
10230
(
2011
).
23.
Y.
Sui
and
J.
Appenzeller
,
Nano Lett.
9
(
8
),
2973
(
2009
).
24.
P. N.
First
,
W. A.
de Heer
,
T.
Seyller
,
C.
Berger
,
J. A.
Stroscio
, and
J. S.
Moon
,
MRS Bull.
35
,
296
(
2010
).
25.
J. S.
Moon
,
D.
Curtis
,
S.
Bui
,
M.
Hu
,
D. K.
Gaskill
,
J. L.
Tedesco
,
P.
Asbeck
,
G. G.
Jernigan
,
B. L.
VanMil
,
R. L.
Myers-Ward
,
C. R.
Eddy
, Jr.
,
P. M.
Campbell
, and
X.
Weng
,
IEEE Electron Device Lett.
31
(
4
),
260
(
2010
).
You do not currently have access to this content.