The reduction and removal of surface native oxides from as-degreased and HCl-treated GaAs substrates using dimethylaluminumhydride (DMAH) have been studied by x-ray photoelectron spectroscopy. It is revealed that higher oxide states are more easily removed from the GaAs surface after exposure to DMAH at . Complete consumption of native oxides on HCl-treated GaAs surface has been realized with 10 s DMAH exposure. In addition, the metallization of the Al–O bonding with increase of DMAH exposure confirms the reduction of native oxides on GaAs.
REFERENCES
1.
M.
Hong
, J.
Kwo
, A. R.
Kortan
, J. P.
Mannaerts
, and A. M.
Sergent
, Science
283
, 1897
(1999
).2.
M. M.
Frank
, G. D.
Wilk
, D.
Starodub
, T.
Gustafsson
, E.
Garfunkel
, Y. J.
Chabal
, J.
Grazul
, and D. A.
Muller
, Appl. Phys. Lett.
86
, 152904
(2005
).3.
P. D.
Ye
, G. D.
Wilk
, B.
Yang
, J.
Kwo
, S. N. G.
Chu
, S.
Nakahara
, H. -J. L.
Gossmann
, J. P.
Mannaerts
, M.
Hong
, K. K.
Ng
, and J.
Bude
, Appl. Phys. Lett.
83
, 180
(2003
).4.
J. P.
de Souza
, E.
Kiewra
, Y.
Sun
, A.
Callegari
, D. K.
Sadana
, G.
Shahidi
, D. J.
Webb
, J.
Fompeyrine
, R.
Germann
, C.
Rossel
, and C.
Marchiori
, Appl. Phys. Lett.
92
, 153508
(2008
).5.
A.
Molle
, S.
Spiga
, A.
Andreozzi
, M.
Fanciulli
, G.
Brammertz
, and M.
Meuris
, Appl. Phys. Lett.
93
, 133504
(2008
).6.
P. D.
Ye
, G. D.
Wilk
, J.
Kwo
, B.
Yang
, H. -J. L.
Gossmann
, M.
Frei
, S. N. G.
Chu
, J. P.
Mannaerts
, M.
Sergent
, M.
Hong
, K. K.
Ng
, and J.
Bude
, IEEE Electron Device Lett.
24
, 209
(2003
).7.
H. L.
Lu
, L.
Sun
, S. J.
Ding
, M.
Xu
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
89
, 152910
(2006
).8.
J.
Robertson
, Appl. Phys. Lett.
94
, 152104
(2009
).9.
C. L.
Hinkle
, M.
Milojevic
, B.
Brennan
, A. M.
Sonnet
, F. S.
Aguirre-Tostado
, G. J.
Hughes
, E. M.
Vogel
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
94
, 162101
(2009
).10.
H. L.
Lu
, M.
Xu
, S. J.
Ding
, W.
Chen
, D. W.
Zhang
, and L. K.
Wang
, Appl. Phys. Lett.
89
, 162905
(2006
).11.
C. C.
Cheng
, C. H.
Chien
, G. L.
Luo
, C. H.
Yang
, C. C.
Chang
, C. Y.
Chang
, C. C.
Kei
, C. N.
Hsiao
, and T. P.
Perng
, J. Appl. Phys.
103
, 074102
(2008
).12.
S.
Koveshnikov
, W.
Tsai
, I.
Ok
, J. C.
Lee
, V.
Torkanov
, M.
Yakimov
, and S.
Oktyabrsky
, Appl. Phys. Lett.
88
, 022106
(2006
).13.
H.
Kim
, I.
Ok
, M.
Zhang
, C.
Choi
, T.
Lee
, F.
Zhu
, G.
Thareja
, L.
Yu
, and J. C.
Lee
, Appl. Phys. Lett.
88
, 252906
(2006
).14.
M.
Passlack
, N.
Medendorp
, R.
Gregory
, and D.
Braddock
, Appl. Phys. Lett.
83
, 5262
(2003
).15.
C. L.
Hinkle
, A. M.
Sonnet
, E. M.
Vogel
, S.
McDonnell
, G. J.
Hughes
, M.
Milojevic
, B.
Lee
, F. S.
Aguirre-Tostado
, K. J.
Choi
, J.
Kim
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
91
, 163512
(2007
).16.
G. K.
Dalapati
, Y.
Tong
, W. -Y.
Loh
, H. K.
Mun
, and B. J.
Cho
, IEEE Trans. Electron Devices
54
, 1831
(2007
).17.
C. L.
Hinkle
, A. M.
Sonnet
, E. M.
Vogel
, S.
McDonnell
, G. J.
Hughes
, M.
Milojevic
, B.
Lee
, F. S.
Aguirre-Tostado
, K. J.
Choi
, H. C.
Kim
, J.
Kim
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
92
, 071901
(2008
).18.
H. D.
Lee
, T.
Feng
, L.
Yu
, D.
Mastrogiovanni
, A.
Wan
, T.
Gustafsson
, and E.
Garfunkel
, Appl. Phys. Lett.
94
, 222108
(2009
).19.
B.
Shin
, D.
Choi
, J. S.
Harris
, and P. C.
McIntyre
, Appl. Phys. Lett.
93
, 052911
(2008
).20.
G.
He
, S.
Toyoda
, Y.
Shimogaki
, and M.
Oshima
, Appl. Phys. Express
2
, 075503
(2009
).21.
J. C.
Hackley
, J. D.
Demaree
, and T.
Gougousi
, Appl. Phys. Lett.
92
, 162902
(2008
).22.
D.
Shahrjerdi
, D. I.
Garcia-Gutierrez
, T.
Akyol
, S. R.
Bank
, E.
Tutuc
, J. C.
Lee
, and S. K.
Banerjee
, Appl. Phys. Lett.
91
, 193503
(2007
).23.
C. Y.
Kim
, S. W.
Cho
, M. -H.
Cho
, K. B.
Chung
, C. -H.
An
, H.
Kim
, H. J.
Lee
, and D. -H.
Ko
, Appl. Phys. Lett.
93
, 192902
(2008
).24.
M.
Sugiyama
, H.
Itoh
, J.
Aoyama
, H.
Komiyama
, and Y.
Shimogaki
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1
39
, 1074
(2000
).25.
M.
Milojevic
, C. L.
Hinkle
, F. S.
Aguirre-Tostado
, H. C.
Kim
, E. M.
Vogel
, J.
Kim
, and R. M.
Wallace
, Appl. Phys. Lett.
93
, 252905
(2008
).26.
M.
Kobayashi
, P. T.
Chen
, Y.
Sun
, N.
Goel
, P.
Majhi
, M.
Garner
, W.
Tsai
, P.
Pianetta
, and Y.
Nishi
, Appl. Phys. Lett.
93
, 182103
(2008
).27.
R.
Suri
, D. J.
Lichtenwalner
, and V.
Misra
, Appl. Phys. Lett.
92
, 243506
(2008
).28.
M.
Zhu
, C. H.
Tung
, and Y. C.
Yeo
, Appl. Phys. Lett.
89
, 202903
(2006
).29.
C. -W.
Cheng
and E. A.
Fitzgerald
, Appl. Phys. Lett.
93
, 031902
(2008
).© 2009 American Institute of Physics.
2009
American Institute of Physics
You do not currently have access to this content.
