We report the breakdown behavior of a patterned multiline structure during the voltage-driven electric stress biasing. Scanning Auger microscope analysis shows that the breakdown process accompanies with a phase separation of into an Sb, Te-rich phase and a Ge-rich phase. The phase separation is explained by the incongruent melting of based on the pseudobinary phase diagram between and GeTe. It is claimed that this phase separation behavior by incongruent melting provides one of the plausible mechanisms of the device failure in a phase change memory.
REFERENCES
1.
S. R.
Ovshinsky
, Phys. Rev. Lett.
21
, 1450
(1968
).2.
N.
Yamada
, E.
Ohno
, K.
Nishiuchi
, N.
Akahira
, and M.
Takao
, J. Appl. Phys.
69
, 2849
(1991
).3.
M.
Wuttig
and N.
Yamada
, Nat. Mater.
6
, 824
(2007
).4.
A. V.
Kolobov
, P.
Fons
, A. I.
Frenkel
, A. L.
Ankudinov
, J.
Tominaga
, and T.
Uruga
, Nat. Mater.
3
, 703
(2004
).5.
S.
Lai
, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet.
2003
, 255
.6.
S. J.
Ahn
, Y. J.
Song
, C. W.
Jeong
, J. M.
Shin
, Y.
Fai
, Y. N.
Hwang
, S. H.
Lee
, K. C.
Ryoo
, S. Y.
Lee
, J. H.
Park
, H.
Horii
, Y. H.
Ha
, J. H.
Yi
, B. J.
Kuh
, G. H.
Koh
, G. T.
Jeong
, H. S.
Jeong
, K.
Kim
, and B. I.
Ryu
, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet.
2004
, 907
.7.
Y. C.
Chen
, C. T.
Rettner
, S.
Raoux
, G. W.
Burr
, S. H.
Chen
, R. M.
Shelby
, M.
Salinga
, W. P.
Risk
, T. D.
Happ
, G. M.
McClelland
, M.
Breitwisch
, A.
Schrott
, J. B.
Philipp
, M. H.
Lee
, R.
Cheek
, T.
Nirschl
, M.
Lamorey
, C. F.
Chen
, E.
Joseph
, S.
Zaidi
, B.
Yee
, H. L.
Lung
, R.
Bergmann
, and C.
Lam
, Tech. Dig. - Int. Electron Devices Meet.
2006
, 30
.8.
T. Y.
Lee
, S. S.
Yim
, D.
Lee
, M. H.
Lee
, D. H.
Ahn
, and K. B.
Kim
, Appl. Phys. Lett.
89
, 163503
(2006
).9.
A.
Pirovano
, A.
Redaelli
, F.
Pellizzer
, F.
Ottogalli
, M.
Tosi
, D.
Lelmini
, A. L.
Lacaita
, and R.
Bez
, IEEE Trans. Device Mater. Reliab.
4
, 422
(2004
).10.
S. M.
Yoon
, K. J.
Choi
, N. Y.
Lee
, S. Y.
Lee
, Y. S.
Park
, and B. G.
Yu
, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2
46
, L99
(2007
).11.
S. O.
Ryu
, S. M.
Yoon
, K. J.
Choi
, N. Y.
Lee
, Y. S.
Park
, S. Y.
Lee
, B. G.
Yu
, J. B.
Park
, and W. C.
Shin
, J. Electrochem. Soc.
153
, G234
(2006
).12.
J. B.
Park
, G. S.
Park
, H. S.
Baik
, J. H.
Lee
, H.
Jeong
, and K.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
154
, H139
(2007
).13.
J.
Sarkar
and B.
Gleixner
, Appl. Phys. Lett.
91
, 233506
(2007
).14.
S. W.
Nam
, T. Y.
Lee
, J. S.
Wi
, D.
Lee
, H. S.
Lee
, K. B.
Jin
, M. H.
Lee
, H. M.
Kim
, and K. B.
Kim
, J. Electrochem. Soc.
154
, H844
(2007
).15.
C.
Cabral
, Jr., K. N.
Chen
, L.
Krusin-Elbaum
, and V.
Deline
, Appl. Phys. Lett.
90
, 051908
(2007
).16.
L.
Brambilla
, L.
Colombo
, V.
Rosato
, and F.
Cleri
, Appl. Phys. Lett.
77
, 2337
(2000
).17.
A.
Bruson
and M.
Geri
, J. Appl. Phys.
53
, 3616
(1982
).© 2008 American Institute of Physics.
2008
American Institute of Physics
You do not currently have access to this content.