An O2 remote plasma metal organic chemical vapor deposition (RP-MOCVD) route is presented for tailoring the structural, morphological, and optical properties of Er2O3 thin films grown on Si(100) using the tris(isopropylcyclopentadienyl)erbium precursor. The RP-MOCVD approach produced highly (100)-oriented, dense, and mechanically stable Er2O3 films with columnar structure.

1.
K.
Kakushima
,
K.
Tsutsui
,
S. I.
Ohmi
,
P.
Ahmet
,
V.
Ramgopal Rao
, and
H.
Iwai
,
Top. Appl. Phys.
106
,
345
(
2007
), and references therein.
2.
M.
Losurdo
,
M. M.
Giangregorio
,
M.
Luchena
,
P.
Capezzuto
,
G.
Bruno
,
R. G.
Toro
,
G.
Malandrino
,
I. L.
Fragalà
, and
R.
Lo Nigro
,
Appl. Surf. Sci.
253
,
322
(
2006
).
3.
S.
Chen
,
Y. Y.
Zhu
,
R.
Xu
,
Y. Q.
Wu
,
X. J.
Yang
,
Y. L.
Fan
,
F.
Lu
,
Z. M.
Jiang
, and
J.
Zou
,
Appl. Phys. Lett.
88
,
222902
(
2006
).
4.
V.
Mikhelashvili
,
G.
Eisenstein
,
F.
Edelman
,
R.
Brener
,
N.
Zakharov
, and
P.
Werner
,
J. Appl. Phys.
95
,
613
(
2004
).
5.
T.-M.
Pan
,
C.-L.
Chen
,
W. W.
Yeh
, and
S.-J.
Hou
,
Appl. Phys. Lett.
89
,
222912
(
2006
).
6.
K. M.
Hubbard
and
B. F.
Espinoza
,
Thin Solid Films
366
,
175
(
2000
).
7.
M.
Miritello
,
R.
Lo Savio
,
A. M.
Piro
,
G.
Franzó
,
F.
Priolo
,
F.
Iacona
, and
C.
Buongiorno
,
J. Appl. Phys.
100
,
013502
(
2006
).
8.
V. A.
Rozhkov
and
M. A.
Rodionov
,
Tech. Phys. Lett.
31
,
77
(
2005
).
9.
J.
Paivasaari
,
J.
Niinisto
,
K.
Arstila
,
K.
Kukli
,
M.
Putkonen
, and
L.
Niinisto
,
Chem. Vap. Deposition
11
,
425
(
2005
).
10.
M. P.
Singh
,
C. S.
Thakur
,
K.
Shalini
,
N.
Bhat
, and
S. S.
Shivashankar
,
Appl. Phys. Lett.
83
,
2889
(
2003
).
11.
A.
Weber
,
H.
Suhr
,
H.
Schumann
, and
R. D.
Kohn
,
Appl. Phys. A: Solids Surf.
51
,
520
(
1990
).
12.
C. D.
Zuicker
,
D. M.
Gruen
, and
A. R.
Krauss
,
MRS Bull.
29
,
35
(
1995
).
13.
M. M.
Frank
,
Y. J.
Chabal
, and
G. D.
Wilk
,
Appl. Phys. Lett.
82
,
4758
(
2003
).
14.
L. G.
Gosset
,
J. F.
Damlencourt
,
O.
Renault
,
D.
Rouchon
,
Ph.
Holliger
,
A.
Ermolieff
,
I.
Trimaille
,
J. J.
Ganem
,
F.
Martin
, and
M. N.
Séméria
,
J. Non-Cryst. Solids
303
,
17
(
2002
).
15.
W.
Cho
,
H. S.
Jang
,
K. S.
An
,
Y. K.
Lee
,
T. M.
Chung
,
C. G.
Kim
,
Y.
Kim
,
B. S.
So
,
J. H.
Hwang
, and
D.
Jung
,
J. Vac. Sci. Technol. A
24
,
1208
(
2006
).
16.
17.
J. G.
Yoon
,
H. K.
Oh
, and
S. J.
Lee
,
Phys. Rev. B
60
,
2839
(
1999
).
18.
O.
Medenbach
,
D.
Dettmar
,
R. D.
Shannon
,
R. X.
Fischer
, and
W. M.
Yen
,
J. Opt. A, Pure Appl. Opt.
3
,
174
(
2001
).
19.
G. E.
Jellison
and
F. A.
Modine
,
Appl. Phys. Lett.
69
,
371
(
1996
).
20.
Y. J.
Cho
,
N. V.
Nguyen
,
C. A.
Richter
,
J. R.
Ehrstein
,
B. H.
Lee
, and
J. C.
Lee
,
Appl. Phys. Lett.
80
,
1249
(
2002
).
You do not currently have access to this content.