We demonstrate a thin and continuous L10 FePt film with a well-aligned (001) texture directly grown on Si || SiO2 substrates by introducing an FeOx cap layer. The agglomeration of capped FePt films is greatly suppressed by inhibiting the surface diffusion. This, in turn, yields a continuous and smooth film, which significantly promotes the (001) out-of-plane orientation and perpendicular anisotropy. The reduction of Fe oxides occurs during annealing, which not only promotes interdiffusion of Fe and Pt for L10 ordering but also removes the cap layer simultaneously. Therefore, additional etching for the cap layer is not required for further fabricating bit patterned media.

1.
R. L.
White
,
R. M. H.
New
, and
R. F. W.
Pease
,
IEEE Trans. Magn.
33
,
990
(
1997
).
2.
B. D.
Terris
and
T.
Thomson
,
J. Phys. D
38
,
R199
(
2005
).
3.
H. J.
Richter
,
A. Y.
Dobin
,
R. T.
Lynch
,
D.
Weller
,
R. M.
Brockie
,
O.
Heinonen
,
K. Z.
Gao
,
J.
Xue
,
R. J. M.
v. d. Veerdonk
,
P.
Asselin
, and
M. F.
Erden
,
Appl. Phys. Lett.
88
,
222512
(
2006
).
4.
C.
Chappert
,
H.
Bernas
,
J.
Ferré
,
V.
Kottler
,
J.-P.
Jamet
,
Y.
Chen
,
E.
Cambril
,
T.
Devolder
,
F.
Rousseaux
,
V.
Mathet
, and
H.
Launois
,
Science
280
,
1919
(
1998
).
5.
A. T.
McCallum
,
P.
Krone
,
F.
Springer
,
C.
Brombacher
,
M.
Albrecht
,
E.
Dobisz
,
M.
Grobis
,
D.
Weller
, and
O.
Hellwig
,
Appl. Phys. Lett.
98
,
242503
(
2011
).
6.
T.
Shimatsu
,
Y.
Inaba
,
H.
Kataoka
,
J.
Sayama
,
H.
Aoi
,
S.
Okamoto
, and
O.
Kitakami
,
J. Appl. Phys.
109
,
07B726
(
2011
).
7.
H.
Wang
,
M. T.
Rahman
,
H.
Zhao
,
Y.
Isowaki
,
Y.
Kamata
,
A.
Kikitsu
, and
J. P.
Wang
,
J. Appl. Phys.
109
,
07B754
(
2011
).
8.
T.
Bublat
and
D.
Goll
,
Nanotechnology
22
,
315301
(
2011
).
9.
A. T.
McCallum
,
D.
Kercher
,
J.
Lille
,
D.
Weller
, and
O.
Hellwig
,
Appl. Phys. Lett.
101
,
092402
(
2012
).
10.
X.
Gu
,
P.
Dorsey
, and
T. P.
Russell
,
Adv. Mater.
24
,
5505
(
2012
).
11.
D.
Weller
and
A.
Moser
,
IEEE Trans. Magn.
35
,
4423
(
1999
).
12.
O. A.
Ovanov
,
L. V.
Solina
, and
V. A.
Demshina
,
Phys. Met. Metallogr.
35
,
81
(
1973
).
13.
Y. K.
Takahashi
,
M.
Ohnuma
, and
K.
Hono
,
Jpn. J. Appl. Phys.
40
,
L1367
(
2001
).
14.
M.
Delalande
,
M. J.-F.
Guinel
,
L. F.
Allard
,
A.
Delattre
,
R. L.
Bris
,
Y.
Samson
,
P.
Bayle-Guillemaud
, and
P.
Reiss
,
J. Phys. Chem. C
116
,
6866
(
2012
).
15.
D. J.
Srolovitz
and
S. A.
Safran
,
J. Appl. Phys.
60
,
255
(
1986
).
16.
R.
Saxena
,
M. J.
Frederick
,
G.
Ramanath
,
W. N.
Gill
, and
J. L.
Plawsky
,
Phys. Rev. B
72
,
115425
(
2005
).
17.
A.
Perumal
,
Y. K.
Takahashi
,
T. O.
Seki
, and
K.
Hono
,
Appl. Phys. Lett.
92
,
132508
(
2008
).
18.
T.
Shima
,
T.
Takanashi
,
Y. K.
Takahashi
, and
K.
Hono
,
Appl. Phys. Lett.
85
,
2571
(
2004
).
19.
Y. C.
Wu
,
L. W.
Wang
,
M. T.
Rahman
, and
C. H.
Lai
,
J. Appl. Phys.
103
,
07E126
(
2008
).
20.
F.
Casoli
,
L.
Nasi
,
F.
Albertini
,
S.
Fabbrici
,
C.
Bocchi
,
F.
Germini
,
P.
Luches
,
A.
Rota
, and
S.
Valeri
,
J. Appl. Phys.
103
,
043912
(
2008
).
21.
D.
Goll
and
A.
Breitling
,
Appl. Phys. Lett.
94
,
052502
(
2009
).
22.
Y. C.
Wu
,
L. W.
Wang
, and
C. H.
Lai
,
Appl. Phys. Lett.
93
,
242501
(
2008
).
23.
F.
Casoli
,
F.
Albertini
,
L.
Nasi
,
S.
Fabbrici
,
R.
Cabassi
,
F.
Bolzoni
, and
C.
Bocchi
,
Appl. Phys. Lett.
92
,
142506
(
2008
).
24.
D.
Goll
and
S.
Macke
,
Appl. Phys. Lett.
93
,
152512
(
2008
).
25.
V.
Lomakin
,
R.
Choi
,
B.
Livshitz
,
S.
Li
,
A.
Inomata
, and
H. N.
Bertram
,
Appl. Phys. Lett.
92
,
022502
(
2008
).
26.
M. V.
Lubarda
,
S.
Li
,
B.
Livshitz
,
E. E.
Fullerton
, and
V.
Lomakin
,
Appl. Phys. Lett.
98
,
012513
(
2011
).
27.
R.
Takahashi
,
K.
Valset
,
E.
Folven
,
E.
Eberg
,
J. K.
Grepstad
, and
T.
Tybell
,
Appl. Phys. Lett.
97
,
081906
(
2010
).
28.
H.
Galinski
,
T.
Ryll
,
P.
Elser
,
J. L. M.
Rupp
,
A.
Bieberle-Hütter
, and
L. J.
Gauckler
,
Phys. Rev. B
82
,
235415
(
2010
).
29.
K.
Barmak
,
J.
Kim
,
D. C.
Berry
,
W. N.
Hanani
,
K.
Wierman
,
E. B.
Svedberg
, and
J. K.
Howard
,
J. Appl. Phys.
97
,
024902
(
2005
).
30.
J. S.
Kim
,
Y. M.
Koo
, and
B. J.
Lee
,
J. Appl. Phys.
99
,
053906
(
2006
).
31.
F. R. N.
Nabarro
,
Report of a Conference on Strength of Solids
(
The Physical Society
,
London
,
1948
), p.
75
.
32.
C.
Herring
,
J. Appl. Phys.
21
,
437
(
1950
).
33.
L. W.
Wang
,
W. C.
Shin
,
Y. C.
Wu
, and
C. H.
Lai
,
Appl. Phys. Lett.
101
,
252403
(
2012
).
34.
S. N.
Hsiao
,
S. H.
Liu
,
S. K.
Chen
,
T. S.
Chin
, and
H. Y.
Lee
,
Appl. Phys. Lett.
100
,
261909
(
2012
).
35.
S. J. A.
Figueroa
,
S. J.
Stewart
,
T.
Rueda
,
A.
Hernando
, and
P.
de la Presa
,
J. Phys. Chem. C
115
,
5500
(
2011
).
36.
P. D.
Kirsch
and
J. G.
Ekerdt
,
J. Appl. Phys.
90
,
4256
(
2001
).
37.
W. C.
Wen
,
R. V.
Chepulskii
,
L. W.
Wang
,
S.
Curtarolo
, and
C. H.
Lai
,
Acta Mater.
60
,
7258
(
2012
).
38.
C. Y.
Yang
and
J. S.
Chen
,
J. Electrochem. Soc.
150
,
G826
(
2003
).
You do not currently have access to this content.